一种承载盘及刻蚀设备的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于半导体加工领域，尤其涉及一种承载盘及具有该承载盘的刻蚀设备。
【背景技术】
[0002]图形化蓝宝石衬底是目前较为主流的提高LED出光效率的方法之一，该方法通常采用干法刻蚀技术对存在掩膜图形的蓝宝石衬底进行刻蚀，以在蓝宝石衬底上制作图形。感应耦合等离子体刻蚀设备是一种应用比较广泛的制作图形化蓝宝石衬底的设备，且在刻蚀工艺中，为了提高单次工艺的产能，通常采用载盘将多个衬底传送至其反应腔室内，以同时对多个衬底(或晶圆)进行工艺加工。
[0003]目前常用的承载盘包括底盘、盖板以及多个固定底盘和盖板的螺钉。其中，底盘的上表面设置有若干个凸台，其上置有密封件，衬底置于密封件上，在盖板与凸台相对应的位置设置有通孔，且通孔的直径小于衬底的直径，使通孔的下边缘与衬底的上边缘区域相互重叠，用以将衬底固定在底盘上。
[0004]然而，上述载盘在进行工艺的过程中不可避免地存在以下问题，S卩:一方面由于盖板的通孔下边缘与衬底的上边缘区域相互重叠，使衬底的边缘区域无法被刻蚀或刻蚀不均匀，减少了衬底的使用面积。另一方面，采用螺钉固定底盘和盖板，分离或固定底盘和盖板时均需人工操作，并且操作复杂，增加了人力消耗，且降低了生产效率。同时，一旦盖板的通孔边缘受损，即需更换盖板，导致盖板的浪费。
【发明内容】
[0005]为解决上述问题，本实用新型提供了一种承载盘，用于承载被加工工件，其包括可拆解的底盘和设置于所述底盘上的盖板，所述底盘的上表面上具有若干个凸台，所述凸台上置有密封件，用以承载被加工工件，所述盖板上设置有对应且贯穿所述凸台的若干个通孔，其特征在于:在所述凸台外周设置有压环，所述压环上分布有连为一体的若干个压爪，所述盖板置于所述压环上，所述压爪嵌入所述盖板内，以固定所述被加工工件；所述盖板和底盘通过卡槽固定。
[0006]优选的，所述凸台为环形凸台或中心区域为镂空状的凸台。
[0007]优选的，所述压爪包括与所述压环垂直的垂直部分和与所述压环水平的水平部分，所述水平部分呈楔形，单个所述压环上均匀分布有至少3个所述压爪。
[0008]优选的，所述压爪水平部分的下表面与密封件上表面的间距等于所述被加工工件的厚度。
[0009]优选的，所述通孔边缘具有与所述压爪数量和位置对应的缺口，所述压爪插入所述缺口内，以实现所述压爪嵌入所述盖板内。
[0010]优选的，所述凸台和密封件外径均与所述被加工工件外径相同，所述通孔内径与所述压环外径相同。[0011 ] 优选的，所述卡槽均匀分布，数目至少为3个。
[0012]优选的，所述压环为金属压环、合金压环、陶瓷压环、石英压环、碳化硅压环。
[0013]本实用新型还提供了一种刻蚀设备，其包含上述的承载盘。
[0014]本实用新型提供的承载盘用于干法刻蚀，一方面，通过在凸台外周设置压环，并且压环上具有固定衬底用的压爪，压爪与衬底的接触面积减少，从而增加衬底表面的加工面积，并且当压爪被损坏时，只需更换具有压爪的压环而无需更换整个盖板，从而减少盖板的损耗；另一方面，通过卡槽固定底盘和盖板，避免了螺钉的使用，操作方便快捷，减少人力消耗。
【附图说明】
[0015]图1为本实用新型之实施例中承载盘的立体拆解图。
[0016]图2为本实用新型之实施例中承载盘的局部侧视图。
[0017]图3为本实用新型之实施例中凸台和密封件的俯视图。
[0018]图4为本实用新型之实施例中压环的俯视图。
[0019]图5为本实用新型之实施例中通孔的俯视图。
[0020]图6为本实用新型之实施例中压环和通孔的俯视图。
[0021]附图标注:1:底盘；11:凸台；12:?、封件；13:衬底；2:压环；21:压爪；3:盖板；31:通孔；32:缺口 ；4:卡槽；41:凸部；42:凹槽。
【具体实施方式】
[0022]下面将结合附图对本实用新型进行更详细的描述，其中表示了本实用新型的优选实施例，应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本实用新型，而仍然实现本实用新型的有利效果。因此，下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道，而并不作为对本实用新型的限制。
实施例
[0023]参看附图1，本实用新型提供的一种承载盘，用于承载被加工工件，例如衬底(或晶圆)，包括可拆卸的底盘1、压环2和盖板3。底盘I上表面置有若干个凸台11，其个数可以根据生产需要以及底盘I的面积合理设置，并且凸台11的外径与其所承载的衬底直径大小相同，使衬底完全放置于凸台11上；压环2套于凸台11外周，即压环2的内径大于凸台11的外径，使压环2恰好紧贴着凸台11外壁，为了适应干法刻蚀环境的高温条件，压环2需由耐高温材料制成，例如金属、合金、陶瓷、石英、碳化硅等；盖板3上具有与凸台11对应的通孔31，盖板3置于压环2上，因此，通孔31的内径等于压环2的内径；底盘I和盖板3通过卡槽4固定，卡槽4由位于底盘I上的凸部41和位于盖板3上的凹槽42组成，卡槽4呈均匀分布，数目至少为3个，本实施例优选在相邻凸台11间均设置I个卡槽4。
[0024]参看附图2和3，具体地，凸台11上放置有防止刻蚀气体进入凸台11内部的密封件12，衬底13置于密封件12上，密封件12外径与凸台11外径大小相同，以密封凸台11上表面和衬底13之间的间隙，防止两者之间的热交换媒介泄露，进一步避免泄露的热交换媒介对干法刻蚀反应腔室的工艺环境造成污染。干法刻蚀过程中，刻蚀气体从承载盘的正面对衬底13进行刻蚀，同样，对衬底的冷却也至关重要，否则光刻胶图形会因刻蚀的过程中产生的高温而变形，进而无法保证图形的有效转移。刻蚀过程中，为了加速衬底13的冷却，凸台11设置成环形或者中心区域为镂空状的凸台，例如十字镂空或者菱形镂空，本实施例优选环形凸台，He或队冷却气体从凸台11的下部穿过凸台11对衬底13的背面进行冷却。
[0025]参看附图2和4，具体地，压环2上均匀分布有连为一体的若干个压爪21，压爪21包括与压环2垂直的垂直部分以及与压环2平行的水平部分，其中水平部分呈楔形，以减小对刻蚀气体气流的影响，水平部分朝向压环2的中心延伸；压爪21水平部分的下表面与密封件12上表面的间距等于衬底13的厚度，使压爪21水平部分下表面与衬底13上表面的边缘接触，以固定衬底13。压爪21的数目至少为3个，本实施例优选6个压爪21 ;由于压爪21与衬底13边缘的接触面积减少，衬底13的可刻蚀面积增大；在刻蚀过程中，当压爪21被刻蚀损坏时，只需具有压爪21的压环2即可，无需更换盖板3，从而减少盖板3的损耗。
[0026]参看附图5和图6，具体地，通孔31的边缘具有若干个缺口 32，该缺口 32与压爪21的位置、数目均对应，且压爪21插入缺口 32内，以实现压爪21内嵌入盖板3内，盖板3放置于压环2上的组合状态。
[0027]本实用新型提供的承载盘在使用过程中，利用与衬底13边缘接触面积较小的压爪21固定衬底13，增大衬底13的加工面积；当压爪21被损坏时，可通过更换具有压爪21的压环2进行维修承载盘，而盖板3则无需更换，从而降低盖板3耗耗损；同时，通过卡槽4固定底盘I和盖板3，操作方便快捷。
[0028]本实用新型还提供一种干法刻蚀设备，生产作业时，其利用上述承载盘承载衬底，提尚了生广效率。
[0029]应当理解的是，上述具体实施方案为本实用新型的优选实施例，本实用新型的范围不限于该实施例，凡依本实用新型所做的任何变更，皆属本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1.一种承载盘，用于承载被加工工件，其包括可拆解的底盘和设置于所述底盘上的盖板，所述底盘的上表面设置有若干个凸台，所述凸台上置有密封件，所述被加工工件置于所述密封件上，所述盖板上设置有对应且贯穿所述凸台的若干个通孔，其特征在于:在所述凸台外周设置有压环，所述压环上分布有连为一体的若干个压爪，所述盖板置于所述压环上，所述压爪嵌入所述盖板内，以固定所述被加工工件；所述盖板和底盘通过卡槽固定。2.根据权利要求1所述的一种承载盘，其特征在于:所述凸台为环形凸台或中心区域为镂空状凸台。3.根据权利要求1所述的一种承载盘，其特征在于:所述压爪具有垂直部分和水平部分，其中所述垂直部分与所述压环垂直，所述水平部分与所述压环平行。4.根据权利要求3所述的一种承载盘，其特征在于:所述压爪水平部分呈楔形，单个所述压环上均匀分布有至少3个所述压爪。5.根据权利要求3所述的一种承载盘，其特征在于:所述压爪水平部分的下表面与密封件上表面的间距等于所述被加工工件的厚度。6.根据权利要求1所述的一种承载盘，其特征在于:所述通孔边缘具有与所述压爪数量和位置对应的缺口，所述压爪插入所述缺口内，以实现其嵌入所述盖板内。7.根据权利要求1所述的一种承载盘，其特征在于:所述凸台和密封件外径均与所述被加工工件外径相同，所述通孔内径与所述压环内径相同。8.根据权利要求1所述的一种承载盘，其特征在于:所述卡槽呈均匀分布，数目至少为3个。9.根据权利要求1所述的一种承载盘，其特征在于:所述压环为金属压环、合金压环、陶瓷压环、石英压环、碳化硅压环。10.一种刻蚀设备，其特征在于:包含权利要求1~9所述的任意一种承载盘。
【专利摘要】本实用新型涉及一种承载盘及刻蚀设备，其包括可拆解的底盘、压环和盖板，所述底盘上设置有承载衬底的若干个凸台，所述凸台上置有密封件，衬底置于所述密封件上；所述盖板上设置有与所述凸台对应且贯穿所述凸台的若干个通孔，其特征在于：在所述凸台外周设置有压环，所述压环上分布有连为一体的若干个压爪，所述盖板置于所述压环上，所述压爪嵌入所述盖板内，以固定衬底；所述盖板和底盘通过卡槽固定。本实用新型一方面通过设置于压环上的压爪固定衬底，增加衬底的加工面积，并且当压爪损坏时，通过更换具有压爪的压环即可，减少盖板的耗损；另一方面，通过卡槽固定底盘和盖板，使组合和拆解承载盘时操作方便。
【IPC分类】H01L21/67, H01L21/687
【公开号】CN204651300
【申请号】CN201520331302
【发明人】梅震, 黄照明, 李君杰, 汪琴, 孙侠, 张中玉, 余学志, 邱树添
【申请人】安徽三安光电有限公司
【公开日】2015年9月16日
【申请日】2015年5月21日