一种锂电池涂布垫片的制作方法

文档序号:16864279发布日期:2019-02-15 20:03阅读:739来源:国知局
一种锂电池涂布垫片的制作方法

本实用新型属于锂电池涂布技术领域,具体涉及一种锂电池涂布垫片。



背景技术:

现在的锂电池制程过程的涂布工序,挤压式涂布的方式已经成为主流。这种挤压涂布方式离不开垫片,在阴极涂布不仅要涂富含锂离子的正极材料,还要在极片边缘涂上一层绝缘的白色胶体,增强电池的安全的性能,但是传统垫片大都是C字形或者E字形,当遇到一出二的工艺,中间留白的两条绝缘胶体材料在垫片凹槽与挤压头上腔体闭合空间里流动,当压力波动时会混进主料槽,污染了正极材料,从而影响电池的各项性能。而且传统垫片装在挤压头中间时,供料槽两边的浆料流动性不好,易产生沉淀或者凝胶导致颗粒划痕问题,从而影响电池极片一致性。



技术实现要素:

本实用新型提供一种锂电池涂布垫片,目的是改善涂布重量的一致性。

为了实现上述目的,本实用新型采取的技术方案为:

一种锂电池涂布垫片,包括长边板、设于长边板上的中间板和设于中间板两侧且位于长边板两端的短边板,所述垫片还包括设于长边板与中间板、短边板及短边板折弯端的内侧边所形成围合空间内的侧边板,且侧边板设有第一导流结构。

所述第一导流结构为向内凹陷的第一导流槽。

所述中间板设有第二导流结构,第二导流结构与第一导流结构分别位于垫片的正反两侧面。

所述第二导流结构为向内凹陷的第二导流槽。

所述垫片的厚度为1mm,所述第一导流槽和第二导流槽的槽深均为0.5-0.6mm。

所述侧边板的顶边设有凹槽结构。

所述凹槽结构的槽深为2mm。

本实用新型的有益效果:本实用新型的垫片安装在挤压头的内部时,能让供料腔内的浆料流动性更加活跃,避免浆料长时间不流动导致沉淀或凝胶,这样可以改善涂布重量一致性以及颗粒划痕问题。中间板的第二导流槽设置,避免从中路流过的绝缘胶体材料由于压力波动问题导致混料,可以完全改善目前阴极涂布的混料的问题,提高电池的各项性能。

附图说明

本说明书包括以下附图,所示内容分别是:

图1是本实用新型的结构示意图;

图2是本实用新型的垫片安装在挤压头的剖视图;

图3是挤压头下刀模俯视图。

图中标记为:

1、长边板,2、中间板,3、短边板,4、侧边板,5、第二导流槽,6、凹槽结构,7、供料槽,8、保压涂布料槽。

具体实施方式

下面对照附图,通过对实施例的描述,对本实用新型的具体实施方式作进一步详细的说明,目的是帮助本领域的技术人员对本实用新型的构思、技术方案有更完整、准确和深入的理解,并有助于其实施。

如图1至图3所示,一种锂电池涂布垫片,包括长边板1、设于长边板1上的中间板2和设于中间板2两侧且位于长边板1两端的短边板3,该锂电池涂布垫片还包括设于长边板1与中间板2、短边板3及短边板折弯端的内侧边所形成围合空间内的侧边板4,且侧边板4设有第一导流结构。第一导流结构优选为向内凹陷的第一导流槽。第一导流结构的设置是为了使垫片安装在挤压头的内部时,能让供料腔内的浆料流动性更加活跃,避免浆料长时间不流动导致沉淀或凝胶。

中间板2设有第二导流结构,第二导流结构与第一导流结构分别位于垫片的正反两侧面。第二导流结构为向内凹陷的第二导流槽5。中间板的第二导流槽设置,避免从中路流过的绝缘胶体材料由于压力波动问题导致混料,可以完全改善目前阴极涂布的混料的问题,提高电池的各项性能。在侧边板4的顶边设有凹槽结构6。凹槽结构的槽深优选为2mm。此凹槽结构的设置,是为了使侧边板低于保压涂布料槽2mm,以保证供料的稳定。

根据实际使用的需求,垫片的厚度为1mm,第一导流槽和第二导流槽的槽深均为0.5-0.6mm。制作垫片时,可以将上述垫片一体加工成型,垫片成型后,从中间板的正面铣去两个0.6mm深的导流槽,供绝缘套胶条材料流过,从反面的侧边板铣去0.6mm,使之形成供料腔的浆料导流槽,增加两侧浆料的流动性。

上述垫片装入挤压头上下刀模中间,首先检查垫片是否凸起或其他异常,并检查上下刀模是否平齐,检查OK后用螺丝将上下刀模锁紧,并在相应位置装上绝缘胶体材料的导流螺栓,标定好设备刀距,并打好浆料循环将空气排空即可进行调试生产。附图所示为涂布一出二工艺,有四条绝缘胶体材料,其中两条从垫片中间的中间板过去,传统垫片就是在这里极易混料,这种新型垫片可以完全改善此问题,将整个垫片做大做宽,利用主体浆料充满挤压头腔体时,巨大的压力将整个垫片与上刀模更好的贴合在一起,也用垫片自身隔开了两种不同浆料,这样中路流过的绝缘胶体材料由于压力波动问题串入主体材料导致混料的严重问题就可以完全得到改善,而且还能增加供料槽7两端浆料的流动性,避免浆料长时间不流动导致沉淀或者凝胶,这样可以改善涂布重量一致性以及颗粒划痕问题。

以上结合附图对本实用新型进行了示例性描述。显然,本实用新型具体实现并不受上述方式的限制。只要是采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进;或未经改进,将本实用新型的上述构思和技术方案直接应用于其它场合的,均在本实用新型的保护范围之内。

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