激光气体管理系统、电子器件的制造方法和准分子激光系统的控制方法与流程

本公开涉及激光气体管理系统、电子器件的制造方法和准分子激光系统的控制方法。

背景技术：

近年来，在半导体曝光装置(以下称为“曝光装置”)中，随着半导体集成电路的微细化和高集成化，要求分辨率的提高。因此，从曝光用光源放出的光的短波长化得以发展。一般而言，在曝光用光源中代替现有的汞灯而使用气体激光装置。例如，作为曝光用的气体激光装置，使用输出波长为248nm的紫外线的激光的krf准分子激光装置、以及输出波长为193nm的紫外线的激光的arf准分子激光装置。

作为下一代的曝光技术，曝光装置侧的曝光用透镜与晶片之间被液体充满的液浸曝光已经实用化。在该液浸曝光中，曝光用透镜与晶片之间的折射率变化，因此，曝光用光源的外观的波长变短。在将arf准分子激光装置作为曝光用光源进行液浸曝光的情况下，对晶片照射水中的波长为134nm的紫外光。将该技术称为arf液浸曝光(或arf液浸光刻)。

krf准分子激光装置和arf准分子激光装置的自然振荡宽度较宽，大约为350～400pm。因此，当利用透射krf和arf激光这种紫外线的材料构成投影透镜时，有时产生色差。其结果，分辨率可能降低。因此，需要将从气体激光装置输出的激光的谱线宽度窄带化到能够无视色差的程度。因此，有时在气体激光装置的激光谐振器内设置具有窄带化元件(标准具、光栅等)的窄带化模块(linenarrowmodule：lnm)，以使谱线宽度窄带化。下面，将谱线宽度被窄带化的激光装置称为窄带化激光装置。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平03-265180号公报

专利文献2：日本特开2001-044534号公报

专利文献3：国际公开第2017/081819号

专利文献4：国际公开第2017/072863号

专利文献5：国际公开第2015/076415号

技术实现要素：

本公开的1个观点的激光气体管理系统包含：气体再生装置，其与多个准分子激光装置连接，将从多个准分子激光装置排出的激光气体再生为再生气体，向多个准分子激光装置供给再生气体；以及控制部，其判定多个准分子激光装置各自的至少一个参数是否超过预先决定的范围，在至少一个参数超过预先决定的范围的准分子激光装置的台数为2以上的情况下，控制部判定为气体再生装置异常。

本公开的1个观点的激光气体管理系统包含：气体再生装置，其与多个准分子激光装置连接，将从多个准分子激光装置排出的激光气体再生为再生气体，向多个准分子激光装置供给再生气体；以及控制部，其判定多个准分子激光装置各自的至少一个参数是否超过预先决定的范围，在至少一个参数超过预先决定的范围的准分子激光装置的台数为2以上的规定的值以上的情况下，控制部判定为气体再生装置异常。

本公开的1个观点的电子器件的制造方法包含以下步骤：通过准分子激光系统中的1个准分子激光装置生成激光，向曝光装置输出激光，在曝光装置内在感光基板上曝光激光，以制造电子器件，准分子激光系统具有：多个准分子激光装置；气体再生装置，其与多个准分子激光装置连接，将从多个准分子激光装置排出的激光气体再生为再生气体，向多个准分子激光装置供给再生气体；以及控制部，其判定多个准分子激光装置各自的至少一个参数是否超过预先决定的范围，在至少一个参数超过预先决定的范围的准分子激光装置的台数为2以上的规定的值以上的情况下，控制部判定为气体再生装置异常。

在本公开的1个观点的准分子激光系统的控制方法中，准分子激光系统包含多个准分子激光装置和气体再生装置，该气体再生装置将从多个准分子激光装置排出的激光气体再生为再生气体，向多个准分子激光装置供给再生气体，其中，控制方法包含以下步骤：判定多个准分子激光装置各自的至少一个参数是否超过预先决定的范围；以及在至少一个参数超过预先决定的范围的准分子激光装置的台数为2以上的规定的值以上的情况下，判定为气体再生装置异常。

附图说明

下面，参照附图将本公开的若干个实施方式作为简单例子进行说明。

图1概略地示出比较例的气体再生装置50和与其连接的多个激光装置301～30n的结构。

图2概略地示出图1所示的激光装置30k的结构。

图3概略地示出图1所示的气体再生装置50的结构。

图4是示出图1所示的气体再生装置50中的气体升压控制部541的处理的流程图。

图5是示出图1所示的气体再生装置50中的气体再生控制部542的处理的流程图。

图6是示出图1所示的气体再生装置50中的气体供给控制部543的处理的流程图。

图7概略地示出本公开的第1实施方式的激光气体管理系统和与其连接的激光装置301～30n的结构。

图8是第1实施方式中激光管理控制部55进行的气体再生装置50的异常判定的流程图。

图9是示出图8所示的对被检测到激光性能参数的异常的激光装置的台数进行计数的处理的详细情况的流程图。

图10是第1实施方式中各激光装置的激光控制部31进行的能量控制的流程图。

图11是第1实施方式中各激光装置的激光控制部31进行的气体控制的流程图。

图12是示出图11所示的气压控制的详细情况的流程图。

图13是示出图11所示的部分气体更换的详细情况的流程图。

图14是第1实施方式中各激光装置的激光控制部31进行的异常标志fk的设定的流程图。

图15是示出图14所示的激光性能参数的计测和计算的详细情况的流程图。

图16概略地示出本公开的第2实施方式的激光气体管理系统和与其连接的激光装置301～30n的结构。

图17是示出第2实施方式中激光管理控制部55进行的、对被检测到激光性能参数的异常的激光装置的台数进行计数的处理的详细情况的流程图。

图18是第2实施方式中激光管理控制部55进行的异常标志fk的设定的流程图。

图19是第2实施方式中各激光装置的激光控制部31进行的能量控制的流程图。

图20a示出第2实施方式中激光管理控制部55的存储部57中存储的气体控制关联数据的例子。

图20b示出第2实施方式中激光管理控制部55的存储部57中存储的气体控制关联数据的例子。

图21是第2实施方式中激光管理控制部55进行的激光性能参数的计算的流程图。

图22是示出图21所示的读入时刻time(a)的气体控制关联数据的处理的详细情况的流程图。

图23是示出图21所示的读入时刻time(b)的气体控制关联数据的处理的详细情况的流程图。

图24是示出图21所示的计算每规定脉冲数δn的激光性能参数的处理的详细情况的流程图。

图25是示出图21所示的计算脉冲能量稳定性的处理的详细情况的流程图。

图26是示出第2实施方式中根据激光性能参数判定气体再生装置50的异常的例子的表。

图27是示出本公开的第3实施方式中为了计算激光性能参数的异常判定的阈值而考虑的激光性能参数的变化的曲线图。

图28是第3实施方式中激光管理控制部55进行的异常标志fk的设定的流程图。

图29是第3实施方式中激光管理控制部55进行的异常判定的阈值的计算的流程图。

图30是说明本公开的第4实施方式中各激光装置进行的突发运转的概念的图。

图31是说明本公开的第4实施方式中被解析的突发特性值的图。

图32是第4实施方式中激光管理控制部55进行的异常标志fk的设定的流程图。

图33是第4实施方式中各激光装置的激光控制部31进行的能量控制的流程图。

图34是第4实施方式中激光管理控制部55进行的激光性能参数的计算的流程图。

图35是示出图34所示的计算突发特性值的处理的详细情况的流程图。

图36是示出第4实施方式中根据激光性能参数判定气体再生装置50的异常的例子的表。

图37概略地示出本公开的第5实施方式的激光气体管理系统和与其连接的激光装置301～30n的结构。

图38是第5实施方式中激光管理控制部55进行的气体再生装置50的异常判定的流程图。

图39是示出图38所示的被检测到激光性能参数的异常的激光装置的停止处理的详细情况的流程图。

图40概略地示出与激光装置30k连接的曝光装置100的结构。

具体实施方式

内容

1.比较例的准分子激光装置和气体再生装置

1.1结构

1.1.1激光装置

1.1.1.1激光振荡系统

1.1.1.2激光气体控制系统

1.1.2气体再生装置

1.1.2.1气体升压部

1.1.2.2气体再生部

1.1.2.3气体供给部

1.1.2.4气体再生控制部

1.2动作

1.2.1激光装置的动作

1.2.1.1激光振荡系统的动作

1.2.1.2激光气体控制系统的动作

1.2.2气体再生装置的动作

1.2.2.1气体升压控制部的动作

1.2.2.2气体再生控制部的动作

1.2.2.3气体供给控制部的动作

1.3课题

2.判定气体再生装置的异常的激光气体管理系统

2.1结构

2.2动作

2.2.1气体再生装置的异常判定的处理

2.2.1.1对被检测到异常的激光装置的台数进行计数的处理

2.2.2激光控制部的处理

2.2.2.1能量控制

2.2.2.2气体控制

2.2.3异常标志fk的设定处理

2.2.3.1激光性能参数的计测和计算

2.3作用

3.激光管理控制部设定异常标志的例子

3.1结构

3.2动作

3.2.1对被检测到异常的激光装置的台数进行计数的处理

3.2.2异常标志fk的设定处理

3.2.3激光控制部的处理

3.2.4激光性能参数的计算

3.2.5基于激光性能参数的气体再生装置的异常判定

4.根据腔的脉冲数计算异常判定的阈值的例子

4.1概要

4.2动作

4.2.1异常标志fk的设定处理

4.2.1.1激光性能参数的异常判定的阈值的计算

5.根据突发特性值判定氙浓度异常的例子

5.1概要

5.2动作

5.2.1异常标志fk的设定处理

5.2.2激光控制部的处理

5.2.3激光性能参数的计算

5.2.4基于激光性能参数的气体再生装置的异常判定

6.能够按照每个激光切换再生气体和新气体的例子

6.1结构

6.2动作

6.2.1气体再生装置的异常判定的处理

6.2.1.1被检测到异常的激光装置的停止处理

7.其他

下面，参照附图对本公开的实施方式进行详细说明。以下说明的实施方式示出本公开的一例，不限定本公开的内容。此外，各实施方式中说明的结构和动作并不一定全都是本公开的结构和动作所必须的。另外，对相同结构要素标注相同参照标号并省略重复说明。

1.比较例的准分子激光装置和气体再生装置

1.1结构

图1概略地示出比较例的气体再生装置50和与其连接的多个激光装置301～30n的结构。

多个激光装置301～30n包含n台激光装置。但是，在图1中仅示出编号1的激光装置301和编号n的激光装置30n。激光装置301～30n具有彼此实质上相同的结构。在本公开中，设1以上n以下的任意整数为k，有时将编号k的激光装置称为激光装置30k。关于编号k的激光装置30k中包含的结构要素，有时也利用在末尾包含k的标号来表示。

激光装置301～30n分别经由配管241～24n而与配管24连接。配管24与气体再生装置50连接。配管24构成为向气体再生装置50供给从激光装置301～30n排出的排出气体。

激光装置301～30n分别经由配管271～27n而与配管27连接。配管27与气体再生装置50连接。配管27和配管271～27n构成为向激光装置301～30n供给从气体再生装置50供给的缓冲气体。在激光装置301～30n为arf准分子激光装置的情况下，缓冲气体例如是包含氩气、氖气和少量的氙气的激光气体。缓冲气体可以是从后述缓冲气体供给源b供给的新气体，也可以是在气体再生装置50中减少了杂质的再生气体。

此外，在激光装置301～30n为krf准分子激光装置的情况下，缓冲气体例如是包含氪气和氖气的激光气体。

进而，在激光装置301～30n为xef准分子激光装置的情况下，缓冲气体例如是包含氙气和氖气的激光气体。

激光装置301～30n分别经由配管281～28n而与配管28连接。配管28与含氟气体供给源f2连接。含氟气体供给源f2是收纳有含氟气体的气瓶。在激光装置301～30n为arf准分子激光装置的情况下，含氟气体例如是混合有氟气、氩气和氖气的激光气体。从含氟气体供给源f2向配管28供给含氟气体的供给压力由调压器44设定。调压器44例如将含氟气体的供给压力设定为5000hpa以上且6000hpa以下。配管28和配管281～28n构成为向激光装置301～30n供给从含氟气体供给源f2供给的含氟气体。

此外，在激光装置301～30n为krf准分子激光装置的情况下，含氟气体例如是包含氟气、氪气和氖气的激光气体。

进而，在激光装置301～30n为xef准分子激光装置的情况下，含氟气体例如是包含氟气、氙气和氖气的激光气体。

1.1.1激光装置

图2概略地示出图1所示的激光装置30k的结构。激光装置30k包含激光控制部31、激光振荡系统32和激光气体控制系统40。激光装置30k也可以还包括至少包含一个腔的未图示的放大器，以放大从激光振荡系统32输出的激光。

激光装置30k与曝光装置100一起被使用。从激光装置30k输出的激光入射到曝光装置100。曝光装置100包含曝光装置控制部110。曝光装置控制部110构成为对曝光装置100进行控制。曝光装置控制部110构成为对激光装置30k中包含的激光控制部31发送目标脉冲能量的设定信号，或者发送发光触发信号。

激光控制部31是构成为对激光振荡系统32和激光气体控制系统40进行控制的计算机系统。激光控制部31从激光振荡系统32中包含的功率监视器17和腔压力传感器p1接收测定数据。

1.1.1.1激光振荡系统

激光振荡系统32包含腔10、充电器12、脉冲功率模块13、窄带化模块14、输出耦合镜15、腔压力传感器p1和功率监视器17。

腔10被配置于由窄带化模块14和输出耦合镜15构成的激光谐振器的光路。在腔10设置有两个窗口10a和10b。腔10收纳有一对放电电极11a和11b。腔10收纳激光气体。

充电器12保持用于向脉冲功率模块13供给的电能。脉冲功率模块13包含开关13a。脉冲功率模块13构成为对一对放电电极11a和11b之间施加脉冲电压。

窄带化模块14包含棱镜14a和光栅14b。输出耦合镜15由部分反射镜构成。另外，也可以代替窄带化模块14而使用未图示的高反射镜。

腔压力传感器p1构成为测定腔10内的激光气体的总压力。在以下的说明中，有时将腔10内的激光气体的总压力称为腔气压。腔压力传感器p1构成为向激光控制部31和激光气体控制系统40中包含的气体控制部47发送腔气压的测定数据。

功率监视器17包含分束器17a、聚光透镜17b和光传感器17c。分束器17a被配置于从输出耦合镜15输出的激光的光路。分束器17a构成为使从输出耦合镜15输出的激光的一部分朝向曝光装置100以较高的透射率透射，并且使另外一部分反射。聚光透镜17b和光传感器17c被配置于由分束器17a反射后的激光的光路。聚光透镜17b构成为使由分束器17a反射后的激光会聚于光传感器17c。光传感器17c构成为将与由聚光透镜17b会聚后的激光的脉冲能量对应的电信号作为测定数据发送到激光控制部31。

1.1.1.2激光气体控制系统

激光气体控制系统40包含气体控制部47、气体供给部42和气体排气部43。气体控制部47是构成为对气体供给部42和气体排气部43进行控制的计算机系统。气体控制部47构成为在与激光控制部31之间发送接收信号。气体控制部47构成为接收从激光振荡系统32中包含的腔压力传感器p1输出的测定数据。

气体供给部42包含与含氟气体供给源f2连接的配管28k的一部分、以及与激光振荡系统32中包含的腔10连接的配管29k的一部分。在气体供给部42中，配管28k与配管29k连接，由此，含氟气体供给源f2能够向腔10供给含氟气体。

如图1所示，气体供给部42包含被设置于配管28k的阀f2-v1。通过阀f2-v1的开闭来控制从含氟气体供给源f2经由配管29k向腔10的含氟气体的供给。阀f2-v1的开闭由气体控制部47来控制。

如图2所示，气体供给部42还包含被连接在气体再生装置50与配管29k之间的配管27k的一部分。在气体供给部42中，配管27k与配管29k连接，由此，气体再生装置50能够向腔10供给缓冲气体。

如图1所示，气体供给部42包含被设置于配管27k的阀b-v1。通过阀b-v1的开闭来控制从气体再生装置50经由配管29k向腔10的缓冲气体的供给。阀b-v1的开闭由气体控制部47来控制。

如图2所示，气体排气部43包含与激光振荡系统32中包含的腔10连接的配管21k的一部分、以及与装置外部的未图示的排气处理装置等连接的配管22k的一部分。在气体排气部43中，配管21k与配管22k连接，由此，能够向装置外部排放从腔10排出的排出气体。

如图1所示，气体排气部43包含被设置于配管21k的阀ex-v1、以及被设置于配管21k的氟捕集器45。阀ex-v1和氟捕集器45按照该顺序从腔10侧起进行配置。通过阀ex-v1的开闭来控制从腔10向氟捕集器45的排出气体的供给。阀ex-v1的开闭由气体控制部47来控制。

氟捕集器45构成为捕集从腔10排出的排出气体中包含的氟气和氟化合物。捕集氟气和氟化合物的处理剂例如包含沸石和氧化钙的组合。由此，氟气和氧化钙进行反应，生成氟化钙和氧气。氟化钙残留在氟捕集器45中，氧气被后述氧捕集器72捕集。未由氧化钙完全去除的氟化合物等杂质气体的一部分被沸石吸附。

气体排气部43包含被设置于配管22k的阀ex-v2、以及被设置于配管22k的排气泵46。阀ex-v2和排气泵46按照该顺序从腔10侧起进行配置。通过阀ex-v2的开闭来控制从氟捕集器45的出口向装置外部的排出气体的排放。阀ex-v2的开闭由气体控制部47来控制。排气泵46构成为在阀ex-v1和ex-v2打开的状态下，将腔10内的激光气体强制排放到大气压以下的压力。排气泵46的动作由气体控制部47来控制。

气体排气部43包含旁通配管23k。旁通配管23k被连接在排气泵46的入口侧的配管22k与排气泵46的出口侧的配管22k之间。气体排气部43包含被设置于旁通配管23k的止回阀48。止回阀48构成为在阀ex-v1和ex-v2打开时，排放被填充为大气压以上的腔10内的激光气体的一部分。

气体排气部43还包含配管24k的一部分。配管24k被连接在气体再生装置50与配管21k和配管22k的连接部分之间。配管24k与配管21k和配管22k的连接部分连接，由此，能够向气体再生装置50供给从腔10排出的排出气体。气体排气部43包含被设置于配管24k的阀c-v1。通过阀c-v1的开闭来控制从氟捕集器45的出口向气体再生装置50的排出气体的供给。阀c-v1的开闭由气体控制部47来控制。

1.1.2气体再生装置

图3概略地示出图1所示的气体再生装置50的结构。气体再生装置50包含气体升压部51、气体再生部52、气体供给部53和再生控制部54。

气体再生装置50包含配管24的一部分、配管27的一部分和配管25。配管24经由配管24k而与激光气体控制系统40的气体排气部43连接。配管27经由配管27k而与激光气体控制系统40的气体供给部42连接。配管25被连接在配管24与配管27之间。

气体再生装置50还包含与缓冲气体供给源b连接的配管26的一部分。配管26与配管25和配管27的连接部分连接。缓冲气体供给源b例如是收纳有缓冲气体的气瓶。在本公开中，有时将从缓冲气体供给源b供给且还未到达腔10的缓冲气体称为新气体，以与从配管25供给的再生气体进行区分。

1.1.2.1气体升压部

气体升压部51包含过滤器61、回收罐63、升压泵64、升压罐65和调压器66。过滤器61、回收罐63、升压泵64、升压罐65和调压器66按照该顺序从气体排气部43侧起被配置于配管24。

过滤器61构成为捕集从气体排气部43供给的排出气体中包含的粒子。

回收罐63是收纳排出气体的容器。在回收罐63安装有回收压力传感器p2。

升压泵64构成为对排出气体进行升压并输出升压气体。升压泵64例如由油的混入较少的隔膜型或波纹管型的泵构成。

升压罐65是收纳通过了升压泵64的升压气体的容器。在升压罐65安装有升压压力传感器p3。

调压器66构成为使从升压罐65供给的升压气体的压力成为规定值并将其供给到气体再生部52。

1.1.2.2气体再生部

气体再生部52包含质量流量控制器71、氧捕集器72、氙捕集器73和净化器74。质量流量控制器71、氧捕集器72、氙捕集器73和净化器74按照该顺序从气体升压部51侧起被配置于配管24。

气体再生部52还包含氙添加装置75。氙添加装置75被配置于配管24与配管25之间。

质量流量控制器71构成为对从气体升压部51供给的升压气体的流量进行控制。

氧捕集器72构成为从升压气体中捕集氧气。捕集氧气的处理剂包含镍(ni)基催化剂、铜(cu)基催化剂和它们的复合物中的至少一方。氧捕集器72包含未图示的加热装置和温度调节装置。

氙捕集器73例如是使用了能够选择性地吸附氙的ca-x型沸石、na-y型沸石或活性炭的装置。氙捕集器73包含未图示的加热装置和温度调节装置。

净化器74例如是包含金属吸气剂的金属过滤器。金属吸气剂例如是锆(zr)系合金。净化器74构成为从激光气体中捕集杂质气体。

氙添加装置75包含含氙气瓶76、配管20、调压器77、质量流量控制器78和混合器79。

在含氙气瓶76连接有配管20的一端。调压器77和质量流量控制器78被配置于配管20。调压器77和质量流量控制器78按照该顺序从含氙气瓶76侧起进行配置。混合器79被配置于配管24与配管20的合流位置。混合器79的输出与配管25连接。

含氙气瓶76是收纳有含氙气体的气瓶。含氙气体是除了氩气和氖气以外还混合有氙气的激光气体。含氙气体中包含的氙气的浓度被调节成比arf准分子激光装置中的最佳氙气浓度高的值。

调压器77构成为使从含氙气瓶76供给的含氙气体的压力成为规定值并将其供给到质量流量控制器78。质量流量控制器78构成为对从调压器77供给的含氙气体的流量进行控制。

混合器79构成为在从配管24供给的再生气体中均匀地混合从配管20供给的含氙气体。

另外，在激光装置301～30n为krf准分子激光装置或xef准分子激光装置的情况下，也可以不设置氙捕集器73和氙添加装置75。

1.1.2.3气体供给部

气体供给部53包含供给罐81、过滤器83、阀c-v2、调压器86和阀b-v2。供给罐81、过滤器83和阀c-v2按照该顺序从气体再生部52侧起被配置于配管25。调压器86和阀b-v2按照该顺序从缓冲气体供给源b侧起被配置于配管26。

供给罐81是收纳从气体再生部52供给的再生气体的容器。在供给罐81安装有供给压力传感器p4。

过滤器83构成为从再生气体中捕集在气体再生装置50中生成的粒子。

阀c-v2构成为切换是否向配管27供给从气体再生部52供给的再生气体。

调压器86构成为设定从缓冲气体供给源b向配管27供给新气体的供给压力。调压器86例如将新气体的供给压力设定为5000hpa以上且6000hpa以下。

阀b-v2构成为切换是否向配管27供给从缓冲气体供给源b供给的新气体。

1.1.2.4气体再生控制部

再生控制部54是用于对气体再生装置50进行控制的计算机系统。再生控制部54包含气体升压控制部541、气体再生控制部542和气体供给控制部543。气体升压控制部541构成为在与气体升压部51之间发送接收信号。气体再生控制部542构成为在与气体再生部52之间发送接收信号。气体供给控制部543构成为在与气体供给部53之间发送接收信号。再生控制部54构成为在与激光装置301～30n分别包含的激光控制部31之间发送接收信号。

1.2动作

1.2.1激光装置的动作

1.2.1.1激光振荡系统的动作

在激光装置30k中，激光控制部31根据从曝光装置控制部110接收到的目标脉冲能量的设定信号，向充电器12发送充电电压的设定信号。此外，激光控制部31根据从曝光装置控制部110接收到的发光触发信号，向脉冲功率模块(ppm)13中包含的开关13a发送发光触发。

脉冲功率模块13的开关13a在从激光控制部31接收到发光触发后成为接通状态。脉冲功率模块13在开关13a成为接通状态后，根据充电器12充入的电能生成脉冲状的高电压。脉冲功率模块13对一对放电电极11a和11b之间施加该高电压。

当对一对放电电极11a和11b之间施加高电压后，在一对放电电极11a和11b之间引起放电。通过该放电的能量，腔10内的激光气体被激励，跃迁到高能级。然后，被激励的激光气体跃迁到低能级时，放出与该能级差对应的波长的光。

腔10内产生的光经由窗口10a和10b向腔10的外部射出。从腔10的窗口10a射出的光被棱镜14a扩大射束宽度，入射到光栅14b。从棱镜14a入射到光栅14b的光由光栅14b的多个槽反射，并且向与光的波长对应的方向衍射。光栅14b被进行利特罗配置，以使从棱镜14a入射到光栅14b的光的入射角和期望波长的衍射光的衍射角一致。由此，期望波长附近的光经由棱镜14a返回的腔10。

输出耦合镜15使从腔10的窗口10b射出的光中的一部分透射而进行输出，使另外一部分反射而返回到腔10。

这样，从腔10射出的光在窄带化模块14与输出耦合镜15之间往复，每当通过一对放电电极11a和11b之间的放电空间时被放大，进行激光振荡。该光每当在窄带化模块14折返时被窄带化。这样被放大并被窄带化的光作为激光从输出耦合镜15输出。

功率监视器17检测从输出耦合镜15输出的激光的脉冲能量。功率监视器17向激光控制部31发送检测到的脉冲能量的数据。

激光控制部31根据从功率监视器17接收到的脉冲能量的测定数据和从曝光装置控制部110接收到的目标脉冲能量的设定信号，对充电器12中设定的充电电压进行反馈控制。

1.2.1.2激光气体控制系统的动作

在激光装置30k中，激光气体控制系统40通过气体控制部47进行的以下控制，进行部分气体更换。

气体控制部47对气体供给部42进行控制，将第1规定量的缓冲气体注入到腔10内，将第2规定量的含氟气体注入到腔10内。然后，气体控制部47对气体排气部43进行控制，从腔10排出与第1规定量和第2规定量的合计相当的量的气体。

例如，每当腔的输出脉冲数达到一定值时进行部分气体更换。或者，每当腔的运转时间达到一定值时进行部分气体更换。

为了将第1规定量的缓冲气体注入到腔10内，气体供给部42打开阀b-v1，然后将其关闭。缓冲气体是从缓冲气体供给源b经由阀b-v2供给的新气体、或在气体再生装置50中减少了杂质而经由阀c-v2供给的再生气体中的任意方。

为了将第2规定量的含氟气体注入到腔10内，气体供给部42打开阀f2-v1，然后将其关闭。

气体排气部43在向装置外部排放从腔10排出的排出气体的情况下，打开阀ex-v1和阀ex-v2。或者，气体排气部43在向气体再生装置50供给从腔10排出的排出气体的情况下，打开阀ex-v1和阀c-v1。

通过以上的部分气体更换，向腔10供给杂质较少的规定量的气体，排出与该供给的气体的量相同量的腔10内的气体。由此，能够减少腔10内的氟化氢(hf)、四氟化碳(cf4)、四氟化硅(sif4)、三氟化氮(nf3)、六氟乙烷(c2f6)等杂质。

1.2.2气体再生装置的动作

如下所述，气体再生装置50在从激光装置301～30n分别排出的排出气体中减少杂质。气体再生装置50向激光装置301～30n分别供给减少了杂质的再生气体。

在气体升压部51中，过滤器61从通过了氟捕集器45的排出气体中捕集在腔10中通过放电而生成的粒子。

回收罐63收纳通过了过滤器61的排出气体。回收压力传感器p2测定回收罐63的内部的气压。回收压力传感器p2将测定出的气压的数据输出到气体升压控制部541。

升压泵64对回收罐63中收纳的排出气体进行升压，将升压气体输出到升压罐65。气体升压控制部541对升压泵64进行控制，以使得在从回收压力传感器p2接收到的回收罐63的气压例如为大气压以上的情况下，升压泵64进行动作。

升压罐65收纳通过了升压泵64的升压气体。升压压力传感器p3测定升压罐65的内部的气压。升压压力传感器p3将测定出的气压的数据输出到气体升压控制部541。

在气体再生部52中，氧捕集器72捕集在氟捕集器45中通过氟气和氧化钙的反应而生成的氧气。气体再生控制部542对氧捕集器72的未图示的加热装置和温度调节装置进行控制，以成为氧捕集器72捕集氧气的最佳温度。

氙捕集器73从通过了氧捕集器72的升压气体中去除氙气。由此，使升压气体的氙气浓度降低，减少氙气的浓度的偏差。气体再生控制部542对氙捕集器73的未图示的加热装置和温度调节装置进行控制，以成为氙捕集器73吸附氙气的最佳温度。

净化器74从通过了氧捕集器72的排出气体中捕集微量的水蒸气、氧气、一氧化碳气体、二氧化碳气体、氮气等杂质气体。

质量流量控制器71的流量和质量流量控制器78的流量由气体再生控制部542设定。控制这些流量，使得在混合器79中混合而输出的再生气体的氙气浓度成为期望的值。由混合器79混合的再生气体经由配管25供给到供给罐81。

在气体供给部53中，供给罐81收纳从氙添加装置75供给的再生气体。供给压力传感器p4测定供给罐81的内部的气压。供给压力传感器p4将测定出的气压的数据输出到气体供给控制部543。

过滤器83在从供给罐81供给的再生气体中捕集在气体再生装置50中生成的粒子。

通过阀c-v2的开闭来控制从气体再生装置50经由配管27向气体供给部42的再生气体的供给。阀c-v2的开闭由气体供给控制部543来控制。

通过阀b-v2的开闭来控制从缓冲气体供给源b经由配管27向气体供给部42的新气体的供给。阀b-v2的开闭由气体供给控制部543来控制。

气体供给控制部543选择关闭阀c-v2并打开阀b-v2、还是关闭阀b-v2并打开阀c-v2，对这些阀进行控制。

1.2.2.1气体升压控制部的动作

图4是示出图1所示的气体再生装置50中的气体升压控制部541的处理的流程图。气体升压控制部541通过以下处理，进行从腔10排出的气体的升压和储藏。另外，在本公开中，关于气体升压控制部541、气体再生控制部542和气体供给控制部543的流程图，通过以“s3”开头的标号来确定步骤。作为以下所示的处理的前提，假设气体再生装置50的配管被充满大气压以上的激光气体。

首先，在s300中，气体升压控制部541向各激光装置的激光控制部31输出用于通知排出气体的接收开始的信号。激光控制部31根据来自气体升压控制部541的信号对气体控制部47进行控制。气体控制部47关闭气体排气部43的阀ex-v2，打开气体排气部43的阀c-v1。由此，来自腔10的排出气体被供给到气体再生装置50。

或者，激光控制部31也可以对气体控制部47进行控制，以使得即使不存在来自气体升压控制部541的信号，来自腔10的排出气体也被供给到气体再生装置50。该情况下，气体升压控制部541也可以不进行s300的处理。

接着，在s301中，气体升压控制部541向气体再生控制部542输出用于通知无法向气体再生部52供给升压气体的信号。然后，气体升压控制部541通过以下处理进行准备，以使得能够向气体再生部52供给升压气体。另外，用于通知无法向气体再生部52供给升压气体的信号被用于参照图5在后面叙述的s322。

接着，在s302中，气体升压控制部541计测回收罐63的气压p2和升压罐65的气压p3。回收罐63的气压p2从回收压力传感器p2输出。升压罐65的气压p3从升压压力传感器p3输出。在本说明书中，有时利用相同标号表示压力传感器和由该压力传感器计测出的气压。

接着，在s303中，气体升压控制部541判定是否是回收罐63的气压p2大于阈值p2min、且升压罐65的气压p3小于阈值p3max2。阈值p2min例如被设定为比大气压稍低的值。阈值p2min例如被设定为900hpa以上且1000hpa以下的值。阈值p3max2例如被设定为升压泵64或升压罐65的设计上的上限压力。

在回收罐63的气压p2大于阈值p2min、且升压罐65的气压p3小于阈值p3max2的情况下(s303：是)，气体升压控制部541使处理进入s304。

在回收罐63的气压p2为阈值p2min以下的情况下、或升压罐65的气压p3为阈值p3max2以上的情况下(s303：否)，气体升压控制部541使处理进入s305。

另外，在本公开所包含的流程图中，“y”表示是的判定，“n”表示否的判定。

在s304中，气体升压控制部541启动升压泵64。由此，升压气体被填充于升压罐65。然后，气体升压控制部541使处理进入s306。

在s305中，气体升压控制部541关闭升压泵64。在回收罐63的气压p2为阈值p2min以下的情况下，未从激光装置301～30n排出激光气体的可能性较高。因此，即使驱动升压泵64也无法进行高效的升压，因此，气体升压控制部541关闭升压泵64。在升压罐65的气压p3为阈值p3max2以上的情况下，当进一步驱动升压泵64时，超过升压泵64或升压罐65的设计上的使用范围，因此，气体升压控制部541关闭升压泵64。然后，气体升压控制部541使处理进入s306。

在s306中，气体升压控制部541判定升压罐65的气压p3是否大于阈值p3max。阈值p3max被设定为比腔10内的气压高的值，以使得能够向气体再生部52供给升压气体。阈值p3max可以与缓冲气体供给源b的调压器86的压力相同或为缓冲气体供给源b的调压器86的压力以上。阈值p3max例如被设定为7000hpa以上且8000hpa以下的值。

在升压罐65的气压p3大于阈值p3max的情况下(s306：是)，气体升压控制部541使处理进入s307。

在升压罐65的气压p3为阈值p3max以下的情况下(s306：否)，气体升压控制部541使处理返回上述s301。气体升压控制部541反复进行s301～s306的处理，直到向气体再生部52供给升压气体的准备完成为止。

在s307中，气体升压控制部541向气体再生控制部542输出用于通知能够向气体再生部52供给升压气体的信号。用于通知能够向气体再生部52供给升压气体的信号被用于参照图5在后面叙述的s322。

接着，在s308中，气体升压控制部541判定是否停止气体的升压。例如，在升压泵64产生了异常的情况下，气体升压控制部541判定为停止气体的升压。或者，在从气体再生控制部542接收到表示停止气体再生的信号的情况下、从气体供给控制部543接收到表示停止再生气体的储藏的信号的情况下，气体升压控制部541判定为停止气体的升压。

在停止气体的升压的情况下(s308：是)，气体升压控制部541使处理进入s309。

在不停止气体的升压的情况下(s308：否)，气体升压控制部541使处理返回上述s302。气体升压控制部541反复进行s302～s308的处理，直到在s306中升压罐65的气压p3成为阈值p3max以下为止、或在s308中判断为停止气体的升压为止。

在s309中，气体升压控制部541向气体再生控制部542和气体供给控制部543输出用于通知停止气体的升压的信号。

接着，在s310中，气体升压控制部541向各激光装置的激光控制部31输出用于通知排出气体的接收停止的信号。

然后，气体再生控制部542结束本流程图的处理。

激光控制部31根据来自气体升压控制部541的用于通知排出气体的接收停止的信号对气体控制部47进行控制。气体控制部47关闭气体排气部43的阀c-v1，打开气体排气部43的阀ex-v2。由此，来自腔10的排出气体被排放到外部。

或者，激光控制部31也可以对气体控制部47进行控制，以使得即使不存在来自气体升压控制部541的信号，来自腔10的排出气体也被排放到外部。该情况下，气体升压控制部541也可以不进行s310的处理。

1.2.2.2气体再生控制部的动作

图5是示出图1所示的气体再生装置50中的气体再生控制部542的处理的流程图。气体再生控制部542通过以下处理进行从气体升压部51供给的气体的再生。

首先，在s320中，气体再生控制部542开始进行氧捕集器72和氙捕集器73的运转。例如，在为了促进氧捕集器72和氙捕集器73中的氧和氙的吸附而需要提高温度的情况下，气体再生控制部542向氧捕集器72的未图示的加热装置和温度调节装置、氙捕集器73的未图示的加热装置和温度调节装置发送控制信号。然后，气体再生控制部542待机，直到氧捕集器72的温度和氙捕集器73的温度分别成为最佳温度范围为止。另外，在氧捕集器72和氙捕集器73不需要加热的情况下，也可以不进行s320的处理。

接着，在s321中，气体再生控制部542将质量流量控制器71的流量mfc3和质量流量控制器78的流量mfc2分别设定为0。或者，气体再生控制部542也可以关闭分别被配置于质量流量控制器71和质量流量控制器78的下游的未图示的阀。

接着，在s322中，气体再生控制部542判定是否能够供给升压气体、且能够储藏再生气体。

在参照图4在上面叙述的s307中从气体升压控制部541接收到用于通知能够向气体再生部52供给升压气体的信号的情况下，气体再生控制部542判定为能够供给升压气体。在参照图4在上面叙述的s301中从气体升压控制部541接收到用于通知无法向气体再生部52供给升压气体的信号的情况下，气体再生控制部542判定为无法供给升压气体。

在参照图6在后面叙述的s333中从气体供给控制部543接收到用于通知能够储藏再生气体的信号的情况下，气体再生控制部542判定为能够储藏再生气体。在s333中从气体供给控制部543接收到用于通知无法储藏再生气体的信号的情况下，气体再生控制部542判定为无法储藏再生气体。

在能够供给升压气体、且能够储藏再生气体的情况下(s322：是)，气体再生控制部542使处理进入s323。

在无法供给升压气体的情况下、或无法储藏再生气体的情况下(s322：否)，气体再生控制部542使处理返回上述s321。气体再生控制部542反复进行s321和s322的处理，直到能够供给升压气体、且能够储藏再生气体为止。

在s323中，气体再生控制部542将质量流量控制器71的流量mfc3设定为规定值sccm3，将质量流量控制器78的流量mfc2设定为规定值sccm2，分别流过气体。分别设定规定值sccm3和规定值sccm2，使得由混合器79混合的再生气体的氙气浓度成为期望的值。

接着，在s324中，气体再生控制部542判定是否停止气体的再生。例如，在氧捕集器72、氙捕集器73和净化器74中的任意方达到寿命的情况下，气体再生控制部542判定为停止气体的再生。或者，在从气体升压控制部541接收到表示停止气体的升压的信号的情况下、从气体供给控制部543接收到表示停止再生气体的储藏的信号的情况下，气体再生控制部542判定为停止气体的再生。

在停止气体的再生的情况下(s324：是)，气体再生控制部542使处理进入s325。

在不停止气体的再生的情况下(s324：否)，气体再生控制部542使处理返回上述s322。气体再生控制部542反复进行s322～s324的处理，直到在s322中无法供给升压气体或无法储藏再生气体为止、或者在s324中判定为停止气体的再生为止。

在s325中，气体再生控制部542向气体升压控制部541和气体供给控制部543输出用于通知停止气体的再生的信号。

然后，气体再生控制部542结束本流程图的处理。

1.2.2.3气体供给控制部的动作

图6是示出图1所示的气体再生装置50中的气体供给控制部543的处理的流程图。气体供给控制部543通过以下处理进行由气体再生部52再生的再生气体的储藏和针对腔10的供给。

首先，在s330中，气体供给控制部543向各激光装置的激光控制部31输出用于通知无法向腔10供给再生气体的信号。

接着，在s331中，气体供给控制部543关闭阀c-v2，打开阀b-v2。由此，气体供给部53向腔10供给新气体，直到气体供给部53能够向腔10供给再生气体为止。

接着，在s332中，气体供给控制部543计测供给罐81的气压p4。供给罐81的气压p4从供给压力传感器p4输出。

接着，在s333中，气体供给控制部543向气体升压控制部541和气体再生控制部542通知能够储藏再生气体或无法储藏再生气体。例如，气体供给控制部543在供给罐81的气压p4小于供给罐81的设计上的上限压力的情况下，向各控制部通知能够储藏再生气体。此外，气体供给控制部543在供给罐81的气压p4为供给罐81的设计上的上限压力以上的情况下，向各控制部通知无法储藏再生气体。另外，用于通知能够储藏再生气体或无法储藏再生气体的信号被用于图5的s322。

接着，在s334中，气体供给控制部543判定供给罐81的气压p4是否大于阈值p4min。阈值p4min被设定为比腔10内的气压高的值，以使得能够向腔10供给再生气体。阈值p4min可以与缓冲气体供给源b的调压器86的压力相同。阈值p4min可以是比参照图5在上面叙述的升压罐65的气压p3的阈值p3max低的值。阈值p4min例如被设定为7000hpa以上且8000hpa以下的值。

在供给罐81的气压p4大于阈值p4min的情况下(s334：是)，气体供给控制部543使处理进入s335。

在供给罐81的气压p4为阈值p4min以下的情况下(s334：否)，气体供给控制部543使处理返回上述s330。气体供给控制部543反复进行s330～s334的处理，直到向腔10供给再生气体的准备完成为止。

在s335中，气体供给控制部543关闭阀b-v2，打开阀c-v2。由此，停止向腔10供给新气体，能够供给再生气体。

接着，在s336中，气体供给控制部543向各激光装置的激光控制部31输出用于通知能够向腔10供给再生气体的信号。

接着，在s337中，气体供给控制部543判定是否停止气体的储藏。例如，在从气体升压控制部541接收到表示停止排出气体的升压的信号的情况下、从气体再生控制部542接收到表示停止气体再生的信号的情况下，气体供给控制部543判定为停止气体的储藏。

在停止气体的储藏的情况下(s337：是)，气体供给控制部543使处理进入s338。

在不停止气体的储藏的情况下(s337：否)，气体供给控制部543使处理返回上述s332。气体供给控制部543反复进行s332～s337的处理，直到在s334中供给罐81的气压p4成为阈值p4min以下为止、或者在s337中判断为停止气体的储藏为止。

在s338中，气体供给控制部543向气体升压控制部541和气体再生控制部542输出用于通知停止再生气体的储藏的信号。

然后，气体供给控制部543结束本流程图的处理。

另外，在该实施方式中，示出了被应用于arf准分子激光装置、krf准分子激光装置或xef准分子激光装置的激光气体管理系统的情况的例子，但是不限于该例子，例如也可以应用于xecl准分子激光装置。

在应用于xecl准分子激光装置的情况下，缓冲气体例如是包含氙气和氖气的激光气体，含氟气体变更为包含氯的激光气体，是包含氯化氢气体、氙气和氖气的激光气体。也可以代替含氟气体供给源f2而连接包含氯化氢的气体供给源。

在xecl准分子激光装置的情况下，也可以不设置氙捕集器73和氙添加装置75。

氟捕集器45也可以变更为未图示的氯化氢捕集器。例如，氯化氢捕集器包含沸石和氢氧化钙的组合。也可以使氢氧化钙和氯化氢进行反应，生成氯化钙和水，捕集氯化氢。由氯化氢捕集器生成的水可以利用代替氧捕集器72配置的未图示的水捕集器进行捕集。作为水捕集器的材料的例子，可以包含沸石等。

1.3课题

例如，由于上述各种捕集器的寿命到来，气体再生装置50减少杂质的能力有时降低。当在气体再生装置50中产生这种异常的状态下持续进行气体再生装置50的运转时，与气体再生装置50连接的多个激光装置301～30n的性能可能恶化。其结果，与气体再生装置50连接的多个激光装置301～30n可能暂时停止。

作为监视气体再生装置50中是否产生异常的方法，考虑在气体再生装置50安装成分分析装置，检测再生气体的杂质浓度。但是，成分分析装置高价，而且需要较大的设置空间。

本公开的实施方式的激光气体管理系统判定激光装置301～30n各自的至少一个参数是否超过预先决定的范围。然后，在至少一个参数超过预先决定的范围的准分子激光装置的台数为2以上的情况下，判定为气体再生装置50异常。

2.判定气体再生装置的异常的激光气体管理系统

2.1结构

图7概略地示出本公开的第1实施方式的激光气体管理系统和与其连接的激光装置301～30n的结构。在第1实施方式中，激光气体管理系统除了包含上述气体再生装置50以外，还包含激光管理控制部55。激光气体管理系统还包含激光装置301～30n分别包含的激光控制部31和气体控制部47。

激光管理控制部55分别利用信号线而与气体再生装置50中包含的再生控制部54和激光装置301～30n分别包含的激光控制部31连接。激光管理控制部55还利用信号线而与显示装置58或工厂管理系统59等外部装置连接。另外，这里说明激光管理控制部55与气体再生装置50分开设置的情况，但是，本公开不限于此。激光管理控制部55也可以被设置于气体再生装置50。激光管理控制部55也可以包含在再生控制部54中。

显示装置58例如可以是显示图像的装置，也可以是警报灯。工厂管理系统59例如是对包含激光装置301～30n和曝光装置100在内的半导体工厂的整体进行管理的计算机系统。

2.2动作

激光管理控制部55从激光装置301～30n分别包含的激光控制部31接收激光性能参数的异常判定结果。激光管理控制部55根据从激光装置301～30n接收到的激光性能参数的异常判定结果，判定气体再生装置50的异常。

激光管理控制部55在判定为气体再生装置50异常的情况下，向再生控制部54和激光装置301～30n分别包含的激光控制部31通知气体再生装置50的异常。激光管理控制部55在判定为气体再生装置50异常的情况下，还向显示装置58或工厂管理系统59等外部装置通知气体再生装置50的异常。

2.2.1气体再生装置的异常判定的处理

图8是第1实施方式中激光管理控制部55进行的气体再生装置50的异常判定的流程图。激光管理控制部55通过以下处理判定气体再生装置50的异常。另外，在本公开中，关于主要由激光管理控制部55进行的处理的流程图，通过以“s1”开头的标号来确定步骤。

首先，在s10中，激光管理控制部55对被检测到激光性能参数的异常的激光装置的台数进行计数。s10的处理的详细情况参照图9在后面叙述。根据从各激光装置的激光控制部31接收的异常标志对被检测到激光性能参数的异常的激光装置的台数进行计数。关于激光控制部31进行的异常标志的设定，参照图14和图15在后面叙述。

接着，在s13中，激光管理控制部55判定被检测到激光性能参数的异常的激光装置的台数是否为2台以上。在被检测到激光性能参数的异常的激光装置的台数为2台以上的情况下(s13：是)，激光管理控制部55判定为气体再生装置50异常，使处理进入s14。在被检测到激光性能参数的异常的激光装置的台数不是2台以上的情况下(s13：否)，激光管理控制部55使处理返回上述s10。激光管理控制部55反复进行s10和s13的处理，直到判定为被检测到激光性能参数的异常的激光装置的台数为2台以上为止。

在s14中，激光管理控制部55向再生控制部54通知气体再生装置50的异常。再生控制部54从激光管理控制部55接收到用于通知气体再生装置50的异常的信号后，进行s15的处理。在s15中，再生控制部54使气体升压部51和气体再生部52的动作停止，由此停止气体的再生。再生控制部54还关闭阀c-v2，打开阀b-v2，由此停止向各激光装置供给再生气体。能够向各激光装置供给缓冲气体供给源b的新气体。另外，阀c-v2相当于本公开中的第2阀，阀b-v2相当于本公开中的第4阀。

接着，在s16中，激光管理控制部55向各激光装置的激光控制部31通知气体再生装置50的异常。各激光装置的激光控制部31从激光管理控制部55接收到用于通知气体再生装置50的异常的信号后，进行s17的处理。在s17中，激光控制部31关闭阀c-v1，打开阀ex-v2，由此停止向气体再生装置50供给排出气体。阀c-v1相当于本公开中的第5阀，阀ex-v2相当于本公开中的第6阀。

接着，在s18中，激光管理控制部55向外部装置通知气体再生装置50的异常。在外部装置是显示装置58的情况下，显示装置58进行表示气体再生装置50的异常的显示。在外部装置是工厂管理系统59的情况下，工厂管理系统59记录气体再生装置50的异常历史，或者向操作员进行通知。

然后，激光管理控制部55结束本流程图的处理。

2.2.1.1对被检测到异常的激光装置的台数进行计数的处理

图9是示出图8所示的对被检测到激光性能参数的异常的激光装置的台数进行计数的处理的详细情况的流程图。图9所示的处理作为图8所示的s10的子例程而由激光管理控制部55来进行。

首先，在s100中，激光管理控制部55将被检测到激光性能参数的异常的激光装置的台数f设定为初始值0。

接着，在s101中，激光管理控制部55将激光装置的编号k设定为初始值0。

接着，在s102中，激光管理控制部55对激光装置的编号k的值加上1，对k的值进行更新。

接着，在s103中，激光管理控制部55从编号k的激光装置30k的激光控制部31接收表示是否检测到激光性能参数的异常的异常标志fk。异常标志fk例如能够取0或1的值。在未检测到激光性能参数的异常的情况下，异常标志fk的值成为0。在检测到激光性能参数的异常的情况下，异常标志fk的值成为1。激光控制部31生成异常标志的处理参照图14和图15在后面叙述。

接着，在s105中，激光管理控制部55对被检测到激光性能参数的异常的激光装置的台数f的值加上异常标志fk的值，对台数f的值进行更新。在异常标志fk的值为0的情况下，台数f的值不被变更，在异常标志fk的值为1的情况下，对当前的台数f的值加上1。

接着，在s106中，激光管理控制部55判定激光装置的编号k的值是否为与气体再生装置50连接的激光装置的台数n的值以上。在编号k的值为台数n的值以上的情况下(s106：是)，激光管理控制部55结束本流程图的处理，返回图8所示的处理。

在编号k的值不是台数n的值以上的情况下(s106：否)，激光管理控制部55使处理返回上述s102。激光管理控制部55反复进行s102～s106的处理，直到编号k的值成为台数n的值以上为止。通过反复进行s102～s106的处理，从编号1的激光装置～编号n的激光装置分别接收异常标志fk，能够对被检测到激光性能参数的异常的激光装置的台数进行计数。

2.2.2激光控制部的处理

接着，对上述异常判定所使用的异常标志fk进行说明。各激光装置的激光控制部31通过参照图14和图15在后面叙述的处理来设定该异常标志fk。根据伴随着各激光装置的控制而时刻变化的气体控制关联数据进行异常标志fk的设定处理。因此，在对异常标志fk的设定处理进行说明之前，参照图10～图13对生成气体控制关联数据的激光控制部31的处理进行说明。

2.2.2.1能量控制

图10是第1实施方式中各激光装置的激光控制部31进行的能量控制的流程图。激光控制部31通过以下处理对激光装置30k生成的脉冲激光的脉冲能量进行控制。另外，在本公开中，关于激光控制部31的流程图，通过以“s2”开头的标号来确定步骤。

首先，在s210中，激光控制部31将充电器12的充电电压vk设定为初始值v0。此外，激光控制部31从未图示的存储装置读入脉冲能量系数vα。脉冲能量系数vα是用于计算使脉冲能量增减规定量所需要的充电电压vk的增减量的系数。脉冲能量系数vα的值是正值。脉冲能量系数vα被用于后述s221。

接着，在s211中，激光控制部31从未图示的存储装置读入目标脉冲能量etk。目标脉冲能量etk可以从曝光装置控制部110接收。

接着，在s212中，激光控制部31判定激光装置30k是否进行了激光振荡。例如，根据是否从功率监视器17接收到测定数据，判定激光装置30k是否进行了激光振荡。

在激光装置30k进行了激光振荡的情况下(s212：是)，激光控制部31使处理进入s214。在激光装置30k未进行激光振荡的情况下(s212：否)，激光控制部31待机，直到激光装置30k进行激光振荡为止。

在s214中，激光控制部31对至少一个脉冲计数器进行递增计数。至少一个脉冲计数器通过表示以哪个时点为起点被计数的脉冲激光的输出脉冲数，能够包含多种脉冲计数器。至少一个脉冲计数器包含部分气体更换后的脉冲数npgk。激光控制部31对部分气体更换后的脉冲数npgk加上1，由此对部分气体更换后的脉冲数npgk进行递增计数。

接着，在s216中，激光控制部31计测脉冲能量ek。根据从功率监视器17接收到的测定数据计算脉冲能量ek。

接着，在s220中，激光控制部31通过以下式子计算脉冲能量ek与目标脉冲能量etk之差δe。

δe＝ek-etk

接着，在s221中，激光控制部31根据脉冲能量ek与目标脉冲能量etk之差δe，通过以下式子对充电电压vk的值进行更新。

vk＝vk-vα·δe

例如，在脉冲能量ek高于目标脉冲能量etk的情况下，差δe的值成为正值。因此，从充电电压vk的当前的值中减去由vα·δe表示的正值，由此使充电电压vk降低。由此，能够对脉冲能量ek进行控制，以使脉冲能量ek接近目标脉冲能量etk。

接着，在s222中，激光控制部31判定是否变更了目标脉冲能量etk。根据是否从曝光装置控制部110接收到新的目标脉冲能量etk，判定是否变更了目标脉冲能量etk。

在未变更目标脉冲能量etk的情况下(s222：否)，激光控制部31使处理返回上述s212。通过反复进行s212～s222的处理，激光控制部31使充电电压vk变化，以使脉冲能量ek接近目标脉冲能量etk。

在变更了目标脉冲能量etk的情况下(s222：是)，激光控制部31使处理返回上述s211。在s211中读入新的目标脉冲能量etk，由此，激光控制部31根据新的目标脉冲能量etk对脉冲能量ek进行控制。

2.2.2.2气体控制

图11是第1实施方式中各激光装置的激光控制部31进行的气体控制的流程图。激光控制部31进行全部气体更换或部分气体更换，由此将腔10内蓄积了杂质的激光气体更换为杂质较少的激光气体。或者，激光控制部31进行气压控制，由此，使脉冲能量ek接近目标脉冲能量etk所需要的充电电压vk收敛于规定的范围。

首先，在s230中，激光控制部31将注入气体累计量qk设定为初始值0。

接着，在s231中，激光控制部31进行腔10的全部气体更换。全部气体更换是如下处理：在使激光装置30k停止输出脉冲激光的状态下，排出腔10的内部的激光气体的绝大部分，再次填充杂质较少的激光气体。

接着，在s232中，激光控制部31通过以下式子对注入气体累计量qk进行更新。

qk＝qk+δptg

这里，δptg是基于一次全部气体更换的激光气体的注入量。

接着，在s233中，激光控制部31对计测部分气体更换间隔的计时器t1进行复位和起动。

接着，在s234中，激光控制部31进行腔10的气压控制。例如，向腔10注入激光气体而提高腔气压，由此，能够降低使脉冲能量ek成为接近目标脉冲能量etk的值所需要的充电电压vk。气压控制的详细情况参照图12在后面叙述。在气压控制中向腔10注入了激光气体的情况下，如后所述对注入气体累计量qk进行更新。

接着，在s235中，激光控制部31判定充电电压vk是否小于最大电压vmax2。当在腔10内蓄积杂质后，激光装置30k的性能降低，使脉冲能量ek成为接近目标脉冲能量etk的值所需要的充电电压vk上升。在充电电压vk超过能够通过s234的气压控制来调节的范围而成为最大电压vmax2以上的情况下(s235：否)，激光控制部31使处理返回上述s231，进行全部气体更换。在充电电压vk小于最大电压vmax2的情况下，激光控制部31使处理进入s236。

在s236中，激光控制部31对计时器t1的值和部分气体更换周期tpg进行比较。在计时器t1的值为部分气体更换周期tpg以上的情况下(s236：是)，激光控制部31使处理进入s237。在计时器t1的值小于部分气体更换周期tpg的情况下(s236：否)，激光控制部31使处理返回上述s234。激光控制部31反复进行s234～s236的处理，直到充电电压vk成为最大电压vmax2以上、或者计时器t1的值成为部分气体更换周期tpg以上为止。

在s237中，激光控制部31进行腔10的部分气体更换。部分气体更换是如下处理，在激光装置30k能够输出脉冲激光的状态下，仅排出腔10的内部的激光气体的一部分，以与排出的激光气体相同的量补充杂质较少的激光气体。部分气体更换的详细情况参照图13在后面叙述。

接着，在s238中，激光控制部31通过以下式子对注入气体累计量qk进行更新。

qk＝qk+δppg

这里，δppg是后述部分气体更换量。部分气体更换量δppg相当于基于一次部分气体更换的气体的注入量。

在s238之后，激光控制部31使处理返回上述s233，对计测部分气体更换间隔的计时器t1进行复位和起动。激光控制部31反复进行s233～s238的处理，直到充电电压vk成为最大电压vmax2以上为止。

图12是示出图11所示的气压控制的详细情况的流程图。图12所示的处理作为图11所示的s234的子例程而由激光控制部31来进行。

首先，在s2340中，激光控制部31从未图示的存储装置读入充电电压的第1阈值vmin和第2阈值vmax、以及腔气压的增减幅度δp。第1阈值vmin是比第2阈值vmax小的值。第2阈值vmax是比参照图11说明的最大电压vmax2小的值。

接着，在s2341中，激光控制部31计测腔气压plk。根据从腔压力传感器p1接收到的测定数据计算腔气压plk。

接着，在s2342中，激光控制部31读入充电电压vk。充电电压vk是从激光控制部31对充电器12发送的设定信号中包含的充电电压。

接着，在s2343中，激光控制部31将充电电压vk与2个阈值vmin和vmax进行比较。作为比较结果，可能存在以下3种。

(1)充电电压vk大于第2阈值vmax(vk>vmax)。

(2)充电电压vk为第1阈值vmin以上且第2阈值vmax以下(vmax≥vk≥vmin)。

(3)充电电压vk小于第1阈值vmin(vmin>vk)。

(1)在充电电压vk大于第2阈值vmax的情况下(vk>vmax)、激光控制部31使处理进入s2344。

在s2344中，激光控制部31向腔10内注入缓冲气体，以使腔气压plk增加δp。向气体控制部47发送请求对阀b-v1进行开闭的信号，由此进行缓冲气体的注入。向腔10内注入缓冲气体而提高腔气压plk，由此，能够降低使脉冲能量ek成为接近目标脉冲能量etk的值所需要的充电电压vk。

接着，在s2345中，激光控制部31通过以下式子对注入气体累计量qk进行更新。

qk＝qk+δp

在s2345之后，激光控制部31结束本流程图的处理，返回图11的处理。

(2)在充电电压vk为第1阈值vmin以上且第2阈值vmax以下的情况下(vmax≥vk≥vmin)，激光控制部31结束本流程图的处理，返回图11的处理。

(3)在充电电压vk小于第1阈值vmin的情况下(vmin>vk)、激光控制部31使处理进入s2346。

在s2346中，激光控制部31排出腔10内的激光气体，以使腔气压plk减少δp。向气体控制部47发送请求对阀ex-v1进行开闭的信号，由此进行激光气体的排出。排出腔10内的激光气体而降低腔气压plk，由此，能够提高使脉冲能量ek成为接近目标脉冲能量etk的值所需要的充电电压vk。

在s2346之后，激光控制部31结束本流程图的处理，返回图11的处理。

图13是示出图11所示的部分气体更换的详细情况的流程图。图13所示的处理作为图11所示的s237的子例程而由激光控制部31来进行。

首先，在s2370中，激光控制部31读入部分气体更换后的脉冲数npgk。可以在图10的s214中对部分气体更换后的脉冲数npgk进行计数。

接着，在s2371中，激光控制部31通过以下式子计算缓冲气体注入量δpbg。

δpbg＝kbg·npgk

这里，kbg是用于根据部分气体更换后的脉冲数npgk计算缓冲气体注入量δpbg的系数。

接着，在s2372中，激光控制部31向腔10内注入缓冲气体，以使腔气压plk增加δpbg。

接着，在s2373中，激光控制部31通过以下式子计算含氟气体注入量δphg。

δphg＝khg·npgk

这里，khg是用于根据部分气体更换后的脉冲数npgk计算含氟气体注入量δphg的系数。

接着，在s2374中，激光控制部31向腔10内注入含氟气体，以使腔气压plk增加δphg。

接着，在s2375中，激光控制部31通过以下式子计算部分气体更换量δppg。

δppg＝δpbg+δphg

部分气体更换量δppg成为缓冲气体注入量δpbg和含氟气体注入量δphg的合计。该部分气体更换量δppg的数据被用于在图11的s238中对注入气体累计量qk进行更新。

接着，在s2376中，激光控制部31排出腔10内的激光气体，以使腔气压plk减少δppg。

在s2376之后，激光控制部31结束本流程图的处理，返回图11的处理。

通过以上说明的图10～图13的处理，生成用于设定异常标志fk的以下的气体控制关联数据。

(1)图10的s221中设定的充电电压vk

(2)图12的s2341中计测出的腔气压plk

(3)图11的s232、s238、和图12的s2345中计算出的注入气体累计量qk

(4)图10的s216中计测出的脉冲能量ek

2.2.3异常标志fk的设定处理

图14是第1实施方式中各激光装置的激光控制部31进行的异常标志fk的设定的流程图。激光控制部31通过以下处理设定异常标志fk。

首先，在s2040中，激光控制部31根据气体控制关联数据进行各种激光性能参数的计测和计算。s2040的详细情况参照图15在后面叙述。s2040中计算出的激光性能参数包含以下内容。

(1)充电电压变化量δvk

(2)腔气压变化量δplk

(3)气体消耗量δqk

(4)脉冲能量稳定性eσk

在激光气体中包含的杂质的量增加的情况下，这些激光性能参数的值可能上升。在这些激光性能参数的值在多个激光装置中上升的情况下，供给再生气体的气体再生装置50可能存在异常。

接着，在s2042中，激光控制部31判定激光性能参数中的任意方是否超过预先决定的范围。例如，激光控制部31判定激光性能参数中的任意方是否为异常判定的阈值以上。具体而言，判定以下任意条件是否成立。

(1)δvk≥δvmax

(2)δplk≥δplmax

(3)δqk≥δqmax

(4)eσk≥eσmax

这里，δvmax、δplmax、δqmax、eσmax分别是激光性能参数的异常判定的阈值。

在激光性能参数均不是异常判定的阈值以上的情况下(s2042：否)，激光控制部31使处理进入s2046。

在s2046中，激光控制部31将异常标志fk设定为表示没有异常的值。表示没有异常的值例如为0。

在s2046之后，激光控制部31使处理进入s2049。

在激光性能参数中的任意方为异常判定的阈值以上的情况下(s2042：是)，激光控制部31使处理进入s2047。

在s2047中，激光控制部31将异常标志fk设定为表示存在异常的值。表示存在异常的值例如为1。

在s2047之后，激光控制部31使处理进入s2049。

在s2049中，激光控制部31向激光管理控制部55发送异常标志fk的值。该异常标志fk被用于参照图8和图9说明的气体再生装置50的异常判定。

2.2.3.1激光性能参数的计测和计算

图15是示出图14所示的激光性能参数的计测和计算的详细情况的流程图。图15所示的处理作为图14所示的s2040的子例程而由激光控制部31来进行。

首先，在s2040a中，激光控制部31将脉冲计数器nes设定为初始值0。该脉冲计数器nes是计测激光性能参数的计算间隔的计数器。通过以下处理，每当脉冲计数器nes的值达到nesmax时，计算激光性能参数。

接着，在s2040b中，激光控制部31判定激光装置30k是否进行了激光振荡。例如，根据是否从功率监视器17接收到测定数据，判定激光装置30k是否进行了激光振荡。

在激光装置30k进行了激光振荡的情况下(s2040b：是)，激光控制部31使处理进入s2040c。在激光装置30k未进行激光振荡的情况下(s2040b：否)，激光控制部31待机，直到激光装置30k进行激光振荡为止。

在s2040c中，激光控制部31对当前的脉冲计数器nes的值加上1，由此对脉冲计数器nes进行递增计数。

接着，在s2040d中，激光控制部31读入图10的s216中计测出的脉冲能量ek。激光控制部31将读入的脉冲能量ek的值与当前的脉冲计数器nes的值对应起来，作为脉冲能量enes存储在未图示的存储装置中。

接着，在s2040e中，激光控制部31判定脉冲计数器nes的值。脉冲计数器nes的值的判定结果为以下3种。

(1)nes＝1

(2)1<nes<nesmax

(3)nes≥nesmax

(1)nes＝1

在脉冲计数器nes的值为1的情况下，激光控制部31使处理进入s2040f。在s2040f中，激光控制部31读入当前的充电电压vk、腔气压plk和注入气体累计量qk，分别如下所述作为初始值v0、pl0、q0存储在未图示的存储装置中。

v0＝vk

pl0＝plk

q0＝qk

(2)1<nes<nesmax

在脉冲计数器nes的值大于1、且小于nesmax的情况下，激光控制部31使处理返回上述s2040b。反复进行s2040b～s2040e的处理，直到脉冲计数器nes的值成为nesmax以上为止，由此蓄积脉冲能量enes的时序数据。

(3)nes≥nesmax

在脉冲计数器nes的值为nesmax以上的情况下，激光控制部31使处理进入s2040g。在s2040g中，激光控制部31读入当前的充电电压vk、腔气压plk和注入气体累计量qk，分别如下所述作为最终值vesmax、plesmax、qesmax存储在未图示的存储装置中。

vesmax＝vk

plesmax＝plk

qesmax＝qk

接着，在s2040h中，激光控制部31根据脉冲计数器nes成为1～nesmax的脉冲能量enes的时序数据，计算脉冲能量enes的标准偏差σ和平均值eav。激光控制部31根据脉冲能量enes的标准偏差σ和平均值eav，通过以下式子计算脉冲能量稳定性eσk。

eσk＝σ/eav

这里，上述式子的分母设为平均值eav，但是，也可以代替eav而设为目标脉冲能量etk进行计算。

接着，在s2040i中，激光控制部31通过以下式子计算充电电压变化量δvk、腔气压变化量δplk和气体消耗量δqk。

δvk＝vesmax-v0

δplk＝plesmax-pl0

δqk＝qesmax-q0

在s2040i之后，激光控制部结束本流程图的处理，返回图14的处理。

根据这样计算出的激光性能参数，判定气体再生装置50的异常。

2.3作用

在第1实施方式中，关于激光装置301～30n，分别判定至少一个激光性能参数是否超过预先决定的范围。然后，在至少一个激光性能参数超过预先决定的范围的准分子激光装置的台数为2以上的情况下，判定为气体再生装置50异常。由此，能够判定气体再生装置50的异常。

在判定为气体再生装置50异常的情况下，中止向各激光装置供给再生气体的处理，能够向各激光装置供给新气体。由此，即使在气体再生装置50中产生不良情况，也能够抑制多个激光装置同时停止。

此外，根据第1实施方式，即使不使用检测再生气体的杂质浓度的成分分析装置，也能够检测气体再生装置50的异常。因此，与使用成分分析装置的情况相比，气体再生装置50的成本较低，设置空间减少。

3.激光管理控制部设定异常标志的例子

3.1结构

图16概略地示出本公开的第2实施方式的激光气体管理系统和与其连接的激光装置301～30n的结构。在第2实施方式中，激光管理控制部55包含解析部56和存储部57。存储部57存储从多个激光装置301～30n接收到的气体控制关联数据。解析部56根据气体控制关联数据计算各激光装置的激光性能参数，设定各激光装置的异常标志。

其他方面与第1实施方式相同。

3.2动作

第2实施方式中激光管理控制部55进行的气体再生装置50的异常判定的处理与参照图8说明的第1实施方式相同。

3.2.1对被检测到异常的激光装置的台数进行计数的处理

图17是示出第2实施方式中激光管理控制部55进行的、对被检测到激光性能参数的异常的激光装置的台数进行计数的处理的详细情况的流程图。图17所示的处理作为图8所示的s10的子例程而由激光管理控制部55的解析部56来进行。在本公开中，为了简化说明，关于激光管理控制部55的解析部56进行的处理，作为激光管理控制部55进行的处理来进行说明。

在图17所示的处理中，s100、s101、s102、s105和s106的处理与参照图9说明的第1实施方式相同。代替图9的s103的处理而在图17中进行s104的处理这点与第1实施方式和第2实施方式不同。在图9的s103中，激光管理控制部55从编号k的激光装置30k接收异常标志fk，与此相对，在图17的s104中，激光管理控制部55设定编号k的激光装置30k的异常标志fk。s104的处理的详细情况参照图18在后面叙述。

3.2.2异常标志fk的设定处理

图18是第2实施方式中激光管理控制部55进行的异常标志fk的设定的流程图。图18所示的处理作为图17所示的s104的子例程而由激光管理控制部55来进行。

作为图18所示的处理的前提，激光管理控制部55进行各种激光性能参数的计算。激光性能参数的计算参照图21～图25在后面叙述。激光管理控制部55计算的激光性能参数包含以下内容。

(1)每规定脉冲数δn的充电电压变化量δvsk

(2)每规定脉冲数δn的腔气压变化量δplsk

(3)每规定脉冲数δn的气体消耗量δqsk

(4)脉冲能量稳定性eσk

在图18的s1043中，激光管理控制部55判定激光性能参数中的任意方是否超过预先决定的范围。例如，激光管理控制部55判定激光性能参数中的任意方是否为异常判定的阈值以上。具体而言，判定以下任意条件是否成立。

(1)δvsk≥δvsmax

(2)δplsk≥δplsmax

(3)δqsk≥δqsmax

(4)eσk≥eσmax

这里，δvsmax、δplsmax、δqsmax、eσmax分别是激光性能参数的异常判定的阈值。

在激光性能参数均不是异常判定的阈值以上的情况下(s1043：否)，激光管理控制部55使处理进入s1046。

在s1046中，激光管理控制部55将编号k的激光装置30k的异常标志fk设定为表示没有异常的值。表示没有异常的值例如为0。

在s1046之后，激光管理控制部55结束本流程图的处理，返回图17所示的处理。

在激光性能参数中的任意方为异常判定的阈值以上的情况下(s1043：是)，激光管理控制部55使处理进入s1047。

在s1047中，激光管理控制部55将编号k的激光装置30k的异常标志fk设定为表示存在异常的值。表示存在异常的值例如为1。

接着，在s1048中，激光管理控制部55将成为异常判定的阈值以上的激光性能参数存储在存储部57中。

在s1048之后，激光管理控制部55结束本流程图的处理，返回图17所示的处理。

3.2.3激光控制部的处理

接着，对为了设定上述异常标志而使用的激光性能参数进行说明。通过参照图21～图25在后面叙述的处理，激光管理控制部55计算该激光性能参数。根据伴随着各激光装置的控制而时刻变化的气体控制关联数据进行激光性能参数的计算。因此，在对激光性能参数的计算进行说明之前，参照图19、图20a和图20b对生成气体控制关联数据的激光控制部31的处理进行说明。

图19是第2实施方式中各激光装置的激光控制部31进行的能量控制的流程图。在图19所示的处理中，s210、s211、s212、s216、s220、s221和s222的处理与参照图10说明的第1实施方式相同。代替图10的s214的处理而在图19中进行s215的处理这点、以及在s216与s220之间进行s217和s218的处理这点与第1实施方式和第2实施方式不同。

在s215中，激光控制部31对至少一个脉冲计数器进行递增计数。至少一个脉冲计数器通过表示以哪个时点为起点被计数的脉冲激光的输出脉冲数，能够包含多种脉冲计数器。至少一个脉冲计数器能够包含以下的脉冲计数器。

激光装置的全部脉冲数nlak

腔的脉冲数nchk

全部气体更换后的脉冲数ntgk

部分气体更换后的脉冲数npgk

在s217中，激光控制部31计测腔气压plk。根据从腔压力传感器p1接收到的测定数据计算腔气压plk。或者，激光控制部31也可以在参照图12说明的气压控制中计测腔气压plk。

在s218中，激光控制部31向激光管理控制部55发送以下的气体控制关联数据。

激光装置的全部脉冲数nlak

腔的脉冲数nchk

全部气体更换后的脉冲数ntgk

部分气体更换后的脉冲数npgk

目标脉冲能量etk

脉冲能量ek

充电电压vk

腔气压plk

时刻time

注入气体累计量qk

上述气体控制关联数据中的时刻time是激光控制部31计测出的当前的时刻。在参照图11和图12说明的气压控制中计算注入气体累计量qk。

向激光管理控制部55发送的气体控制关联数据被存储在激光管理控制部55的存储部57中。

图20a和图20b示出第2实施方式中激光管理控制部55的存储部57中存储的气体控制关联数据的例子。例如以图20a和图20b所示的表形式存储气体控制关联数据。图20a和图20b由于纸面的关系被分成2张图，但是示出1个数据表。气体控制关联数据包含多个记录。多个记录包含编号1～编号n+1的记录。

多个记录分别包含以下的气体控制关联数据。

激光装置的全部脉冲数nlak

腔的脉冲数nchk

全部气体更换后的脉冲数ntgk

部分气体更换后的脉冲数npgk

目标脉冲能量etk

脉冲能量ek

充电电压vk

腔气压plk

时刻time

注入气体累计量qk

按照每个规定脉冲数δn测定气体控制关联数据。按照每个规定脉冲数δn，在气体控制关联数据中追加1个新的记录。在基于图19的处理的情况下，规定脉冲数δn为1。

图20a和图20b示出编号k的激光装置的气体控制关联数据。存储部57存储n组气体控制关联数据作为多个激光装置301～30n的气体控制关联数据。

3.2.4激光性能参数的计算

图21是第2实施方式中激光管理控制部55进行的激光性能参数的计算的流程图。激光管理控制部55根据图20a和图20b所示的气体控制关联数据，通过以下处理计算激光性能参数。

首先，在s1900中，激光管理控制部55将激光装置的编号k设定为初始值0。

接着，在s1901中，激光管理控制部55对激光装置的编号k的值加上1，对k的值进行更新。

接着，在s1902中，激光管理控制部55从存储部57读入时刻time(a)的编号k的激光装置30k的气体控制关联数据。具体而言，从图20a和图20b所示的表中确定与时刻time(a)对应的记录，从所确定的记录中读入气体控制关联数据。

s1902的处理的详细情况参照图22在后面叙述。

接着，在s1903中，激光管理控制部55通过以下式子计算从时刻time(a)起经过了规定时间δt的时刻time(b)。

time(b)＝time(a)+δt

接着，在s1904中，激光管理控制部55从存储部57读入时刻time(b)的编号k的激光装置30k的气体控制关联数据。具体而言，从图20a和图20b所示的表中确定与时刻time(b)对应的记录，从所确定的记录中读入气体控制关联数据。

s1904的处理的详细情况参照图23在后面叙述。

接着，在s1905中，激光管理控制部55根据时刻time(a)的气体控制关联数据和时刻time(b)的气体控制关联数据，计算编号k的激光装置30k的每规定脉冲数δn的激光性能参数。每规定脉冲数δn的激光性能参数包含以下的激光性能参数。

(1)每规定脉冲数δn的充电电压变化量δvsk

(2)每规定脉冲数δn的腔气压变化量δplsk

(3)每规定脉冲数δn的气体消耗量δqsk

s1905的处理的详细情况参照图24在后面叙述。

接着，在s1906中，激光管理控制部55根据时刻time(a)与时刻time(b)之间的气体控制关联数据，计算编号k的激光装置30k的以下的激光性能参数。

(4)脉冲能量稳定性eσk

s1906的处理的详细情况参照图25在后面叙述。

接着，在s1908中，激光管理控制部55判定激光装置的编号k的值是否为与气体再生装置50连接的激光装置的台数n的值以上。在编号k的值为台数n的值以上的情况下(s1908：是)，激光管理控制部55使处理进入s1909。

在编号k的值不是台数n的值以上的情况下(s1908：否)，激光管理控制部55使处理返回上述的s1901。激光管理控制部55反复进行s1901～s1908的处理，直到编号k的值成为台数n的值以上为止。通过反复进行s1901～s1908的处理，关于编号1的激光装置～编号n的激光装置，能够分别计算激光性能参数。

在s1909中，激光管理控制部55通过以下式子对时刻time(a)的值进行更新。

time(a)＝time(b)

由此，对原来的时刻time(a)的值加上规定时间δt而得到的时刻time(b)的值成为新的时刻time(a)。

接着，在s1910中，激光管理控制部55判定是否中止激光性能参数的计算。在中止激光性能参数的计算的情况下(s1910：是)，激光管理控制部55结束本流程图的处理。在不中止激光性能参数的计算的情况下(s1910：否)，激光管理控制部55使处理返回上述s1900，使用s1909中新设定的时刻time(a)计算激光性能参数。

图22是示出图21所示的读入时刻time(a)的气体控制关联数据的处理的详细情况的流程图。图22所示的处理作为图21所示的s1902的子例程而由激光管理控制部55来进行。

在s1902a中，激光管理控制部55从存储部57读入以下的气体控制关联数据。

时刻time(a)的编号k的激光装置30k的全部脉冲数nlak(a)

时刻time(a)的编号k的激光装置30k的充电电压vk(a)

时刻time(a)的编号k的激光装置30k的腔气压plk(a)

时刻time(a)的编号k的激光装置30k的注入气体累计量qk(a)

在s1902a之后，激光管理控制部55结束本流程图的处理，返回图21所示的处理。

图23是示出图21所示的读入时刻time(b)的气体控制关联数据的处理的详细情况的流程图。图23所示的处理作为图21所示的s1904的子例程而由激光管理控制部55来进行。

在s1904a中，激光管理控制部55从存储部57读入以下的气体控制关联数据。

时刻time(b)的编号k的激光装置30k的全部脉冲数nlak(b)

时刻time(b)的编号k的激光装置30k的充电电压vk(b)

时刻time(b)的编号k的激光装置30k的腔气压plk(b)

时刻time(b)的编号k的激光装置30k的注入气体累计量qk(b)

在s1904a之后，激光管理控制部55结束本流程图的处理，返回图21所示的处理。

图24是示出图21所示的计算每规定脉冲数δn的激光性能参数的处理的详细情况的流程图。图24所示的处理作为图21所示的s1905的子例程而由激光管理控制部55来进行。

首先，在s1905a中，激光管理控制部55通过以下式子计算时刻time(a)与时刻time(b)之间的脉冲数s。

s＝nlak(b)-nlak(a)

接着，在s1905b中，激光管理控制部55分别通过以下式子计算每规定脉冲数δn的充电电压变化量δvsk、每规定脉冲数δn的腔气压变化量δplsk和每规定脉冲数δn的气体消耗量δqsk。

δvsk＝(vk(b)-vk(a))/s

δplsk＝(plk(b)-plk(a))/s

δqsk＝(qk(b)-qk(a))/s

在s1905b之后，激光管理控制部55结束本流程图的处理，返回图21所示的处理。

图25是示出图21所示的计算脉冲能量稳定性的处理的详细情况的流程图。图25所示的处理作为图21所示的s1906的子例程而由激光管理控制部55来进行。

首先，在s1906a中，激光管理控制部55读入时刻time(a)与时刻time(b)之间的脉冲能量ek的时序数据。例如，在设时刻time(a)为time(1)、设时刻time(b)为time(4)的情况下，脉冲能量ek的时序数据包含ek(1)、ek(2)和ek(3)。

接着，在s1906b中，激光管理控制部55根据时刻time(a)与时刻time(b)之间的脉冲能量ek的时序数据，计算脉冲能量ek的标准偏差σ和平均值eav。激光控制部31根据脉冲能量ek的标准偏差σ和平均值eav，通过以下式子计算脉冲能量稳定性eσk。

eσk＝σ/eav

这里，上述式子的分母设为平均值eav，但是，也可以代替eav而设为目标脉冲能量etk进行计算。

在s1906b之后，激光管理控制部55结束本流程图的处理，返回图21所示的处理。

通过图21～图25的处理而计算出的激光性能参数被用于图17和图18中的异常标志fk的设定。

3.2.5基于激光性能参数的气体再生装置的异常判定

图26是示出第2实施方式中根据激光性能参数判定气体再生装置50的异常的例子的表。关于编号1的激光装置301～编号n的激光装置30n，分别计算激光性能参数。此外，按照参照图21说明的每个规定时间δt，计算1组激光性能参数。

在图18的s1043中，判定各激光性能参数是否为异常判定的阈值以上。在图26中，利用网格示出判定为异常判定的阈值以上的激光性能参数。

例如，在时刻time(a)+δt，判定为编号1的激光装置301的每规定脉冲数δn的充电电压变化量δvs1[1]为异常判定的阈值以上。通过图18所示的处理，该时刻time(a)+δt的编号1的激光装置301的异常标志fk成为1。在异常标志fk成为1的激光装置的台数为1台的情况下，通过图17所示的处理，成为f＝1。即，通过图8所示的处理，判定为气体再生装置50中没有异常。如图26所示，按照每个规定时间δt进行该判定。图26的判定栏所示的“ok”表示判定为气体再生装置50中没有异常。

此外，例如，在时刻time(a)+4δt，判定为编号1的激光装置301的每规定脉冲数δn的充电电压变化量δvs1[4]和编号2的激光装置302的每规定脉冲数δn的腔气压变化量δpls2[4]为异常判定的阈值以上。通过图18所示的处理，该时刻time(a)+4δt的编号1的激光装置301和编号2的激光装置302的异常标志fk分别成为1。在异常标志fk成为1的激光装置的台数为2台的情况下，通过图17所示的处理，成为f＝2。即，通过图8所示的处理，判定为气体再生装置50中存在异常。图26的判定栏所示的“ng”表示判定为气体再生装置50中存在异常。

激光管理控制部55可以使存储部57存储图26所示的激光性能参数的推移。激光管理控制部55也可以向工厂管理系统59发送图26所示的激光性能参数的推移。激光管理控制部55还可以使显示装置58显示图26所示的激光性能参数的推移。或者，如参照图18说明的那样，也可以使存储部57仅存储成为异常判定的阈值以上的激光性能参数。

4.根据腔的脉冲数计算异常判定的阈值的例子

4.1概要

图27是示出本公开的第3实施方式中为了计算激光性能参数的异常判定的阈值而考虑的激光性能参数的变化的曲线图。图27的横轴示出腔的脉冲数nchk，纵轴示出任意的激光性能参数。激光性能参数不仅根据气体再生装置50的异常而变化，还根据腔10的状态而变化。

如图27所示，在腔的脉冲数nchk较小的情况下，激光性能参数有时从较高数值开始，逐渐稳定在较低数值。这是因为，在腔10为新品的情况下，进行被称为“钝化”的工序。在腔10为新品的情况下，腔10的内部的部件的表面部分和激光气体中包含的卤素气体进行反应，产生比通常更多的杂质。如果腔10的内部的部件的表面部分与卤素气体进行反应而形成皮膜，则成为化学上平衡的状态，进行钝化。由此，抑制杂质的产生，激光性能参数稳定在较低数值。将该工序称为“钝化”。

随着腔的脉冲数nchk增大，腔10的内部的部件劣化。因此，在钝化完成后，随着腔的脉冲数nchk增大，激光性能参数变高。具体而言，与激光腔内的杂质无关，放电电极11a和11b由于放电而消耗，由此，即使输入相同的投入能量，所输出的脉冲激光的脉冲能量也根据腔的脉冲数而降低。其结果，激光性能参数越来越高。最后，腔10的寿命到来。

这样，激光性能参数根据腔10的状态而变化。因此，即使激光性能参数变化，也不一定是由于气体再生装置50的异常而引起的，还可能是由于腔10的状态的变化而引起的。如图27所示，腔10的状态具有与腔的脉冲数nchk一起变化的倾向。因此，在第3实施方式中，根据腔的脉冲数nchk计算激光性能参数的异常判定的阈值。由此，减轻腔10的状态的变化对气体再生装置50的异常判定造成的影响。

例如，如下所述计算激光性能参数的异常判定的阈值。关于多个激光装置，按照每个腔的脉冲数nchk测定激光性能参数。按照每个腔的脉冲数nchk对激光性能参数的测定值的平均值加上标准偏差，由此计算激光性能参数的异常判定的阈值。

第3实施方式中的激光气体管理系统和激光装置的结构与参照图16说明的第2实施方式中的结构相同。

4.2动作

第3实施方式中激光管理控制部55进行的气体再生装置50的异常判定的处理与参照图8说明的第1实施方式相同。

第3实施方式中激光管理控制部55进行的、对被检测到激光性能参数的异常的激光装置的台数进行计数的处理与参照图17说明的第2实施方式相同。

4.2.1异常标志fk的设定处理

图28是第3实施方式中激光管理控制部55进行的异常标志fk的设定的流程图。图28所示的处理作为图17所示的s104的子例程而由激光管理控制部55来进行。

在图28所示的处理中，s1046、s1047和s1048的处理与参照图18说明的第2实施方式相同。代替图18的s1043的处理而在图28中进行s1041和s1044的处理这点与第2实施方式和第3实施方式不同。

在s1041中，激光管理控制部55根据编号k的激光装置30k的腔的脉冲数nchk计算激光性能参数的异常判定的阈值。作为激光性能参数的异常判定的阈值，计算以下的值。

(1)δvsmax(nchk)

(2)δplsmax(nchk)

(3)δqsmax(nchk)

(4)eσmax(nchk)

s1041的处理的详细情况参照图29在后面叙述。

接着，在s1044中，激光管理控制部55判定激光性能参数中的任意方是否超过预先决定的范围。例如，激光管理控制部55判定激光性能参数中的任意方是否为异常判定的阈值以上。具体而言，判定以下任意条件是否成立。

(1)δvsk≥δvsmax(nchk)

(2)δplsk≥δplsmax(nchk)

(3)δqsk≥δqsmax(nchk)

(4)eσk≥eσmax(nchk)

在参照图18说明的s1043中，不依赖于腔的脉冲数nchk而使用固定的阈值，与此相对，在s1044的处理中，使用与腔的脉冲数nchk对应的阈值。关于异常判定的阈值以外的方面，s1044的处理与s1043的处理相同。

4.2.1.1激光性能参数的异常判定的阈值的计算

图29是第3实施方式中激光管理控制部55进行的异常判定的阈值的计算的流程图。图29所示的处理作为图28所示的s1041的子例程而由激光管理控制部55来进行。

首先，在s1041a中，激光管理控制部55从存储部57读入编号k的激光装置30k的腔的脉冲数nchk。腔的脉冲数nchk是通过图19的s215计数出的腔的脉冲数nchk或作为图20a所示的表数据存储的腔的脉冲数nchk。

接着，在s1041b中，激光管理控制部55从存储部57读入腔的脉冲数和激光性能参数的异常判定的阈值的函数。该函数按照每个激光性能参数而预先存储在存储部57中。

接着，在s1041c中，激光管理控制部55使用s1041a中读入的腔的脉冲数nchk和s1041b中读入的函数计算激光性能参数的异常判定的阈值。

在s1041c之后，激光管理控制部55结束本流程图的处理，返回图28所示的处理。s1041c中计算出的异常判定的阈值被用于图28的s1044。

其他方面与第2实施方式相同。

5.根据突发特性值判定氙浓度异常的例子

5.1概要

图30是说明本公开的第4实施方式中各激光装置进行的突发运转的概念的图。图30的横轴示出时间，纵轴示出脉冲激光的脉冲能量ek。激光装置反复“突发期间”和“休止期间”进行运转，在该“突发期间”内，以规定的反复频率输出脉冲激光，在该“休止期间”内，休止以规定的反复频率输出脉冲激光。将这种运转称为突发运转。突发期间相当于用于进行半导体晶片的曝光的期间。休止期间相当于用于在曝光装置100中更换半导体晶片的期间、用于在1个半导体晶片中使脉冲激光的照射位置从1个芯片区域向另一个芯片区域移动的期间。通过图19所示的处理来控制充电电压vk，以使得在1个突发期间内，脉冲能量ek大致保持固定。

图31是说明本公开的第4实施方式中被解析的突发特性值的图。图31的横轴示出时间，纵轴示出充电电压vk。与图30的横轴相比，图31的横轴被拉长，因此，在图31中较大地图示1个突发期间。充电电压vk有时在1个突发期间内变动，以使脉冲能量ek大致保持固定。在arf准分子激光装置中，为了抑制1个突发期间内的充电电压vk的变动，使用包含少量氙气的激光气体。例如，通过将激光气体中包含的氙气的浓度设为10ppm，能够使用于在1个突发期间内使脉冲能量ek大致保持固定的充电电压vk稳定化。

但是，例如，当由于气体再生装置50的异常而使氙气的浓度降低时，用于在1个突发期间内使脉冲能量ek大致保持固定的充电电压vk的变动有时增大。与将氙气的浓度设为10ppm的情况相比，在将氙气的浓度设为5ppm的情况下，充电电压vk的变动增大。与将氙气的浓度设为5ppm的情况相比，在将氙气的浓度设为0ppm的情况下，充电电压vk的变动进一步增大。因此，能够使用通过以下式子计算出的突发特性值δvbk检测氙气的浓度的异常。

δvbk＝vben-vbst

这里，vbst是突发期间的开始时的充电电压，vben是突发期间的结束时的充电电压。

第4实施方式中的激光气体管理系统和激光装置的结构与参照图16说明的第2实施方式中的结构相同。

5.2动作

第4实施方式中激光管理控制部55进行的气体再生装置50的异常判定的处理与参照图8说明的第1实施方式相同。

第4实施方式中激光管理控制部55进行的、对被检测到激光性能参数的异常的激光装置的台数进行计数的处理与参照图17说明的第2实施方式相同。

5.2.1异常标志fk的设定处理

图32是第4实施方式中激光管理控制部55进行的异常标志fk的设定的流程图。图32所示的处理作为图17所示的s104的子例程而由激光管理控制部55来进行。

在图32所示的处理中，s1046、s1047和s1048的处理与参照图28说明的第3实施方式相同。代替图28的s1041和s1044的处理而在图32中分别进行s1042和s1045的处理这点与第3实施方式和第4实施方式不同。

在s1042中，激光管理控制部55根据编号k的激光装置30k的腔的脉冲数nchk计算激光性能参数的异常判定的阈值。除了追加突发特性值δvbk的阈值δvbmax(nchk)作为要计算的激光性能参数的异常判定的阈值这点以外，s1042的处理与图28和图29的s1041的处理相同。

接着，在s1045中，激光管理控制部55判定激光性能参数中的任意方是否超过预先决定的范围。例如，激光管理控制部55判定激光性能参数中的任意方是否为异常判定的阈值以上。除了追加以下条件这点以外，s1045的处理与图28的s1044的处理相同。

(5)δvbk≥δvbmax(nchk)

5.2.2激光控制部的处理

接着，对为了设定上述异常标志而使用的突发特性值δvbk进行说明。由激光管理控制部55通过参照图34和图35在后面叙述的处理，计算突发特性值δvbk。根据伴随着各激光装置的控制而时刻变化的气体控制关联数据进行突发特性值δvbk的计算。因此，在对突发特性值δvbk的计算进行说明之前，参照图33对生成气体控制关联数据的激光控制部31的处理进行说明。

图33是第4实施方式中各激光装置的激光控制部31进行的能量控制的流程图。在图33所示的处理中，s210～s212、s215～s217、s220～s222的处理与参照图19说明的第2实施方式相同。在图33中在s212与s215之间进行s213的处理这点、以及代替图19的s218的处理而在图33中进行s219的处理这点与第2实施方式和第4实施方式不同。

在s213中，激光控制部31计测触发间隔ts。触发间隔ts可以是激光控制部31从曝光装置控制部110接收到的发光触发信号的间隔、或者激光控制部31向开关13a发送的发光触发的间隔。或者，也可以代替触发间隔ts而根据激光控制部31从功率监视器17接收到的测定数据计测脉冲间隔。通过激光控制部31中包含的未图示的计时装置计测触发间隔ts或脉冲间隔。

在s219中，激光控制部31向激光管理控制部55发送气体控制关联数据。除了追加触发间隔ts作为向激光管理控制部55发送的气体控制关联数据这点以外，s219的处理与图19的s218的处理相同。

5.2.3激光性能参数的计算

图34是第4实施方式中激光管理控制部55进行的激光性能参数的计算的流程图。在图34所示的处理中，s1900～s1906、s1908～s1910的处理与参照图21说明的第2实施方式相同。在图34中在s1906与s1908之间进行s1907的处理这点与第2实施方式和第4实施方式不同。

在s1907中，激光管理控制部55根据时刻time(a)与时刻time(b)之间的气体控制关联数据，计算编号k的激光装置30k的以下的激光性能参数。

(5)突发特性值δvbk

s1907的处理的详细情况参照图35在后面叙述。

图35是示出图34所示的计算突发特性值的处理的详细情况的流程图。图35所示的处理作为图34所示的s1907的子例程而由激光管理控制部55来进行。

首先，在s1907a中，激光管理控制部55读入时刻time(a)与时刻time(b)之间的充电电压vk和触发间隔ts的时序数据。

接着，在s1907b中，激光管理控制部55根据触发间隔ts的时序数据确定突发期间的开始时的脉冲和结束时的脉冲。例如，如果设比规定值长的触发间隔ts相当于休止期间，则第1休止期间紧后的脉冲是突发期间的开始时的脉冲，在第1休止期间后最初出现的第2休止期间紧前的脉冲是突发期间的结束时的脉冲。规定值例如设为0.2秒。

在确定了突发期间的开始时的脉冲和结束时的脉冲后，激光管理控制部55根据充电电压vk的时序数据确定突发期间的开始时的充电电压vbst和结束时的充电电压vben。可以将突发期间的开始时的1个脉冲的充电电压vk设为充电电压vbst，将突发期间的结束时的1个脉冲的充电电压vk设为充电电压vben。或者，可以将突发期间的开始时的多个脉冲的充电电压vk的平均值设为充电电压vbst，将突发期间的结束时的多个脉冲的充电电压vk的平均值设为充电电压vben。

接着，在s1907c中，激光管理控制部55通过以下式子计算编号k的激光装置30k的突发特性值δvbk。

δvbk＝vben-vbst

或者，在时刻time(a)与时刻time(b)之间包含多个突发期间的情况下，也可以对针对多个突发期间分别计算出的突发特性值进行平均。

在s1907c之后，激光管理控制部55结束本流程图的处理，返回图34所示的处理。

通过图34和图35的处理而计算出的突发特性值δvbk被用于图32中的异常标志fk的设定。

5.2.4基于激光性能参数的气体再生装置的异常判定

图36是示出第4实施方式中根据激光性能参数判定气体再生装置50的异常的例子的表。追加突发特性值δvbk作为激光性能参数这点，图36与图26所示的例子不同。

在图32的s1045中，判定各激光性能参数是否为异常判定的阈值以上。在图36中，利用网格示出被判定为异常判定的阈值以上的激光性能参数。

例如，在时刻time(a)+2δt，判定为编号2的激光装置302的突发特性值δvb2[2]和编号n的激光装置30n的突发特性值δvbn[2]为异常判定的阈值以上。通过图32所示的处理，该时刻time(a)+2δt的编号2的激光装置302和编号n的激光装置30n的异常标志fk分别成为1。在异常标志fk成为1的激光装置的台数为2台的情况下，通过图17所示的处理，成为f＝2。即，通过图8所示的处理，判定为气体再生装置50中存在异常。图36的判定栏所示的“ok”表示判定为气体再生装置50中没有异常。图36的判定栏所示的“ng”表示判定为气体再生装置50中存在异常。

进而，在第4实施方式中，在2台以上的激光装置中判定为突发特性值δvbk为异常判定的阈值以上的情况下，激光管理控制部55判定为气体再生装置50中的氙气的处理存在异常。激光管理控制部55向外部装置输出气体再生装置50中的氙气的处理存在异常。

另一方面，在时刻time(a)+5δt，判定为编号2的激光装置302的每规定脉冲数δn的充电电压变化量δvs2[5]和编号n的激光装置30n的突发特性值δvbn[5]为异常判定的阈值以上。通过图32所示的处理，该时刻time(a)+5δt的编号2的激光装置302和编号n的激光装置30n的异常标志fk分别成为1。在异常标志fk成为1的激光装置的台数为2台的情况下，通过图17所示的处理，成为f＝2。即，通过图8所示的处理，判定为气体再生装置50中存在异常。

但是，即使f＝2，在被判定为突发特性值δvbk为异常判定的阈值以上的激光装置仅为1台的情况下，激光管理控制部55也可以不判定为气体再生装置50中的氙气的处理存在异常。

其他方面可以与第2实施方式或第3实施方式相同。

6.能够按照每个激光切换再生气体和新气体的例子

6.1结构

图37概略地示出本公开的第5实施方式的激光气体管理系统和与其连接的激光装置301～30n的结构。在第5实施方式中，除了与配管25和配管26双方连接的配管27以外，还设置有与配管26连接的新气体专用配管38。新气体专用配管38跟调压器86与阀b-v2之间的配管26连接。

新气体专用配管38分支成与多个激光装置301～30n对应的多个配管381～38n。在配管381～38n分别配置有阀b-v3。配管381～38n分别与配管271～27n连接。在比配管381～38n相对于配管271～27n的连接位置更靠上游侧的配管271～27n配置有阀c-v5。在比配管381～38n相对于配管271～27n的连接位置更靠下游侧的配管271～27n配置有阀b-v1。

其他方面与参照图16说明的第2实施方式中的结构相同。

6.2动作

配管27按照气体再生装置50对阀b-v2和阀c-v2的控制，选择性地向激光装置301～30n供给新气体或再生气体。与此相对，新气体专用配管38能够与气体再生装置50的控制无关地向激光装置301～30n供给新气体。

各激光装置的阀b-v3和阀c-v5由激光管理控制部55来控制。或者，阀b-v3和阀c-v5也可以由各激光装置的气体控制部47来控制。在1个激光装置中，在阀b-v3被关闭、阀c-v5被打开时，从配管27向该激光装置供给由气体再生装置50选择的再生气体或新气体。在另一个激光装置中，在阀b-v3被打开、阀c-v5被关闭时，能够与气体再生装置50的控制无关地从新气体专用配管38向该激光装置供给新气体。

例如，在判定了多个激光装置301～30n的激光性能参数的结果是被检测到异常的激光装置仅为1台的情况下，认为不是气体再生装置50存在问题，而是被检测到异常的该激光装置存在问题。但是，即使被检测到异常的该激光装置存在问题，有时也希望继续使用到定期维护日为止。这种情况下，关于被检测到异常的该激光装置，可以打开阀b-v3，关闭阀c-v5。由此，能够与气体再生装置50的控制无关地向被检测到异常的该激光装置供给新气体，能够抑制激光性能的降低。

6.2.1气体再生装置的异常判定的处理

图38是第5实施方式中激光管理控制部55进行的气体再生装置50的异常判定的流程图。激光管理控制部55通过以下处理判定气体再生装置50的异常。

在图38所示的处理中，s10和s13～s18的处理与参照图8说明的第1实施方式的处理相同。在s10与s13之间在图38中进行s11和s12的处理这点与第1实施方式和第5实施方式不同。

在s11中，激光管理控制部55判定被检测到激光性能参数的异常的激光装置的台数是否为1台。在被检测到激光性能参数的异常的激光装置的台数为1台的情况下(s11：是)，激光管理控制部55判定为该1台激光装置异常，使处理进入s12。在被检测到激光性能参数的异常的激光装置的台数不是1台的情况下(s11：否)，激光管理控制部55使处理进入s13。

在s12中，激光管理控制部55进行被检测到异常的激光装置的停止处理。s12的处理的详细情况参照图39在后面叙述。

在s12之后，激光管理控制部55结束本流程图的处理。

6.2.1.1被检测到异常的激光装置的停止处理

图39是示出图38所示的被检测到激光性能参数的异常的激光装置的停止处理的详细情况的流程图。图39所示的处理作为图38所示的s12的子例程而由激光管理控制部55来进行。在以下的说明中，将被检测到异常的1台激光装置的编号设为m。

首先，在s120中，激光管理控制部55向被检测到异常的编号m的激光装置30m的激光控制部31通知激光性能的异常。

接着，在s121中，关于编号m的激光装置30m，激光管理控制部55关闭阀c-v5，打开阀b-v3。由此，在从气体再生装置50向编号m的激光装置30m供给缓冲气体时，供给新气体而不供给再生气体。另外，阀c-v5相当于本公开中的第1阀，阀b-v3相当于本公开中的第3阀。

在s122中，s120中被通知激光性能的异常的编号m的激光装置30m的激光控制部31关闭阀c-v1，打开阀ex-v2。由此，从编号m的激光装置30m排出的排出气体未被供给到气体再生装置50，而被排放到装置外部。另外，在容许从被检测到异常的激光装置30m排出的排出气体的再生的情况下，也可以不进行s122的处理。

接着，在s123中，激光管理控制部55向外部装置通知编号m的激光装置30m的激光性能的异常。外部装置例如包含显示装置58。显示装置58进行表示编号m的激光装置30m的异常的显示。此外，外部装置例如包含工厂管理系统59。

接着，在s124中，激光管理控制部55判定是否从外部装置接收到表示编号m的激光装置30m的停止ok的信号。在未接收到表示编号m的激光装置30m的停止ok的信号的情况下(s124：否)，激光管理控制部55待机，直到接收到表示编号m的激光装置30m的停止ok的信号为止。该情况下，编号m的激光装置30m进行激光振荡，而不从气体再生装置50接收再生气体，并且不向气体再生装置50供给排出气体。在接收到表示编号m的激光装置30m的停止ok的信号的情况下(s124：是)，激光管理控制部55使处理进入s125。

接着，在s125中，激光管理控制部55使编号m的激光装置30m停止激光振荡。

在s125之后，激光管理控制部55结束本流程图的处理，返回图38所示的处理。

7.其他

图40概略地示出与激光装置30k连接的曝光装置100的结构。如上所述，激光装置30k生成激光并将其输出到曝光装置100。

在图40中，曝光装置100包含照明光学系统141和投影光学系统142。照明光学系统141通过从激光装置30k入射的激光对掩模版台rt的掩模版图案进行照明。投影光学系统142对透过了掩模版的激光进行缩小投影，使其在被配置于工件台wt上的未图示的工件上成像。工件是被涂布了光刻胶的半导体晶片等感光基板。曝光装置100使掩模版台rt和工件台wt同步地平行移动，由此在工件上曝光反映了掩模版图案的激光。通过以上这种曝光工序在半导体晶片上转印器件图案，由此，能够制造电子器件。

在上述实施方式中，在被检测到激光性能参数的异常的激光装置的台数为2台以上的情况下，判定为气体再生装置50中存在异常，但是，本公开不限于此。也可以设x为2以上的整数，在被检测到激光性能参数的异常的激光装置的台数为x台以上的情况下，判定为气体再生装置50中存在异常。也可以在被检测到激光性能参数的异常的激光装置的台数小于x台的情况下，判定为气体再生装置50中没有异常。

在第5实施方式中，在被检测到激光性能参数的异常的激光装置的台数为1台的情况下，判定为该激光装置中存在异常，但是，本公开不限于此。也可以设x为2以上的整数，在被检测到激光性能参数的异常的激光装置的台数小于x台的情况下，判定为这些激光装置中存在异常。

上述说明不是限制，而是简单的例示。因此，本领域技术人员明白能够在不脱离附加的权利要求书的情况下对本公开的实施方式施加变更。

本说明书和附加的权利要求书整体所使用的用语应该解释为“非限定性”用语。例如，“包含”或“所包含”这样的用语应该解释为“不限于记载为所包含的部分”。“具有”这样的用语应该解释为“不限于记载为所具有的部分”。此外，本说明书和附加的权利要求书所记载的修饰词“一个”应该解释为意味着“至少一个”或“一个或一个以上”。