1.一种基于光谱仪的离子刻蚀终点检测装置，其特征在于，包括：
光学探头，用于收集样品表面经离子轰击引发的光；
光谱仪，通过光纤与所述光学探头相连；所述光谱仪用于探测并处理所述光学探头收集的光，得到所述收集的光的光谱；
处理器，用于对所述收集的光的光谱进行数据处理，得到样品对应判定元素的光谱图；其中，通过监测所述样品对应判定元素的光谱图中特征峰的存在与否来判断是否达到样品离子刻蚀终点。
2.如权利要求1所述的一种基于光谱仪的离子刻蚀终点检测装置，其特征在于，所述光学探头包括：
套筒，一端与所述光纤相连；
准直透镜，设置于所述套筒内；所述准直透镜用于将光汇集并传输到所述光纤内；
挡板玻璃，具有透光性，所述挡板玻璃设置于所述套筒内，且位于所述准直透镜的远离所述光纤一侧，用于阻挡刻蚀物沉积于所述准直透镜上。
3.如权利要求2所述的一种基于光谱仪的离子刻蚀终点检测装置，其特征在于，所述基于光谱仪的离子刻蚀终点检测装置还包括可调支架，所述可调支架与所述套筒连接，用于使所述光学探头实现三维空间可调。
4.如权利要求3所述的一种基于光谱仪的离子刻蚀终点检测装置，其特征在于，所述可调支架包括：
双直线型导轨支架，包括平行的两直线导轨；
七字形支架，所述七字形支架的一支杆上设置两个连接点，所述两个连接点分别通过滑块滑动连接于所述两直线导轨上，用于调节所述七字形支架相对所述双直线型导轨支架的角度倾转；所述七字形支架的另一支杆上设置线性滑轨，在所述线性滑轨上滑动连接所述光学探头的套筒，用于实现所述光学探头相对所述双直线型导轨支架的垂直移动。
5.如权利要求4所述的一种基于光谱仪的离子刻蚀终点检测装置，其特征在于，所述光学探头和所述可调支架一一对应设置多组。
6.如权利要求1所述的一种基于光谱仪的离子刻蚀终点检测装置，其特征在于，所述基于光谱仪的离子刻蚀终点检测装置还包括显示器，用于对所述处理器得到的对应样品判定因素的光谱图进行显示。
7.一种刻蚀系统，其特征在于，包括：
真空腔室；
旋转刻蚀工件台，设置于所述真空腔室内，用于固定样品进行离子刻蚀；
如权利要求1至6任一项所述的基于光谱仪的离子刻蚀终点检测装置；
其中，所述光学探头设置于所述真空腔室内，且所述光学探头对准所述旋转刻蚀工件台。
8.如权利要求7所述的一种刻蚀系统，其特征在于，所述刻蚀系统还包括过真空光路，设置于所述真空腔室的腔壁上；所述光谱仪设置于所述真空腔室外，与所述光谱仪相连的外侧光纤和与所述光学探头相连的内侧光纤通过过真空光路相连。
9.如权利要求7所述的一种刻蚀系统，其特征在于，所述刻蚀系统还包括控制器，用于接收和分析所述处理器的监测信息，得到样品离子刻蚀终点的判断结果，控制所述刻蚀系统的运行。
10.如权利要求7所述的一种刻蚀系统，其特征在于，所述刻蚀系统还包括离子源，设置于所述旋转刻蚀工件台上方，用于将样品中的中性原子电离，并形成离子束流。