微器件转移方法和转移装置、以及使用该方法和装置的电子产品与流程

文档序号:23068270发布日期:2020-11-25 17:55阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种转移微器件的方法,所述方法包括:

以第一速率沿第一方向输送目标基板;

在所述第一方向上供应与微器件结合的转移膜,所述微器件面向所述目标基板的上部部分;

对所述转移膜加压,所述加压包括向上弯曲与所述微器件分离的所述转移膜以形成弯曲圆弧,并且用在所述目标基板的上侧旋转的加压辊对在形成所述弯曲圆弧之后被输送的上转移膜加压,以将压力传递到与所述微器件结合的下转移膜;和

通过沿着与所述第一方向相反的第二方向以第二速率输送在形成所述弯曲圆弧之后被输送的所述上转移膜来收集所述上转移膜,

其中,基于所述第一方向,所述弯曲圆弧的第一中心在所述加压辊的第二中心的前侧。

2.根据权利要求1所述的方法,其中:

所述加压辊的线速度、所述第二速率和所述第一速率相同。

3.根据权利要求1所述的方法,还包括:

第一控制,所述第一控制用于通过在预定时间内调节所述加压辊的线速度来调节所述弯曲圆弧的曲率半径。

4.根据权利要求3所述的方法,其中:

所述第一控制包括第一曲率半径调节,在所述第一曲率半径调节中通过增加所述加压辊的线速度,基于所述第一方向,将所述弯曲圆弧的所述第一中心的位置移动到后侧,来控制所述弯曲圆弧的曲率半径减小,或者通过降低所述加压辊的线速度,基于所述第一方向,将所述弯曲圆弧的所述第一中心的位置移动到前侧,来控制所述弯曲圆弧的曲率半径增加。

5.根据权利要求4所述的方法,其中:

所述第一控制还包括在所述第一曲率半径调节之后的第一速率调节,在所述第一速率调节中所述第一速率和所述第二速率被控制为与在所述第一曲率半径调节中被调节的所述加压辊的线速度相同。

6.根据权利要求1所述的方法,还包括:

第二控制,所述第二控制用于通过在预定时间内调节所述目标基板的第一速率来调节所述弯曲圆弧的曲率半径。

7.根据权利要求6所述的方法,其中:

所述第二控制包括第二曲率半径调节,在所述第二曲率半径调节中通过增加所述目标基板的第一速率,基于所述第一方向,将所述弯曲圆弧的第一中心的位置移动到前侧,来控制所述弯曲圆弧的曲率半径增加,或者通过降低所述目标基板的第一速率,基于所述第一方向,将所述弯曲圆弧的第一中心的位置移动到后侧,来控制所述弯曲圆弧的曲率半径减小。

8.根据权利要求7所述的方法,其中:

所述第二控制还包括在所述第二曲率半径调节之后的第二速率调节,在所述第二速率调节中所述加压辊的所述线速度和所述第二速率被控制为等于在所述第二曲率半径调节中被调节的所述目标基板的第一速率。

9.根据权利要求1所述的方法,其中:

对所述上转移膜加压包括通过设置在由所述转移膜形成的所述弯曲圆弧内的加压杆向所述下转移膜传递额外的压力。

10.根据权利要求1所述的方法,其中:

在对所述上转移膜加压时,当所述加压辊对所述上转移膜加压时,所述上转移膜与所述下转移膜接触。

11.一种用于转移微器件的装置,所述装置包括:

供应辊,所述供应辊被配置为在第一方向上供应与微器件结合的转移膜;

目标基板,所述目标基板当在所述第一方向上被输送时,所述微器件从所供应的转移膜转移到所述目标基板;

加压辊,所述加压辊被设置在所述目标基板的上部部分,并被配置为对与所述微器件分离的所述转移膜加压;和

收集辊,所述收集辊被配置为收集所述转移膜,

其中,将所述微器件转移到所述目标基板的所述转移膜在向上弯曲并形成弯曲圆弧的同时,在与所述第一方向相反的第二方向上移动,并且

所述加压辊的中心被布置在所述弯曲圆弧的中心的后侧处,并且所述加压辊在形成所述弯曲圆弧的同时在下方方向上对在所述第二方向上移动的所述转移膜加压。

12.根据权利要求11所述的装置,还包括:

加压杆,所述加压杆被设置在由所述转移膜形成的所述弯曲圆弧内。

13.根据权利要求11所述的装置,其中:

所述转移膜包括:

基层,所述基层具有刚性;和

粘合剂层,所述粘合剂层被设置在所述基层的一个表面上以向所述微器件提供粘合力,并且

其中,与所述微器件分离的所述粘合剂层与所述加压辊接触以提供摩擦力。

14.根据权利要求11所述的装置,其中:

所述转移膜还包括被设置在所述基层的另一表面上的润滑层,使得在形成所述弯曲圆弧之前和之后的所述转移膜彼此接触并被移动。

15.一种电子产品,包括通过使用根据权利要求1所述的转移微器件的方法转移的所述微器件。


技术总结
本发明的实施例提供了一种微器件转移方法,该方法适用于更多不同的微器件并且能够提高转移效率。微器件转移方法包括以下步骤:以第一速率在第一方向上传送目标基板;定位附接到转移膜的微器件以便面向目标基板的顶部部分,并在第一方向上输送转移膜;在转移膜与被转移到目标基板上的微器件分离之后,使转移膜能够向上弯曲并形成弯曲弧,并使在弯曲弧形成之后被传送的上侧转移膜能够通过在目标基板之上旋转的按压辊而被按压,并使得压力能够被传输到具有附接的微器件且正被输送的下侧转移膜;以及以第二速率在与第一方向相反的第二方向上传送在形成弯曲弧之后被传送的上侧转移膜,并恢复其,其中弯曲弧的第一中心相对于第一方向还在按压辊的第二中心的前面。

技术研发人员:崔炳翊;皇甫润;金宰玄;尹盛煜;金昌铉;金正烨;金敬植;金相闵;蒋捧钧;金光燮
受保护的技术使用者:韩国机械研究院
技术研发日:2019.04.16
技术公布日:2020.11.24
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