RF离子阱离子加载方法与流程

文档序号:24352110发布日期:2021-03-19 12:37阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种在质谱仪中处理离子的方法,包括:

将具有不同质荷m/z比的多种离子捕获在碰撞室中,

按照m/z比的降序从碰撞室释放所述离子,

在具有多个杆的质量分析仪中接收所述离子,所述多个杆中的至少一个杆被施加rf电压,

其中,随着释放的所述离子被质量分析仪接收,所述rf电压的幅度从第一值变化至较低的第二值。

2.根据权利要求1所述的方法,还包括经由质量选择性轴向喷射msae从所述质量分析仪释放接收的所述离子。

3.根据权利要求1所述的方法,其中,所述碰撞室包括以四极配置布置的多个杆。

4.根据权利要求3所述的方法,其中,所述从碰撞室释放所述离子的步骤包括利用质量选择性轴向喷射msae。

5.根据权利要求4所述的方法,其中,通过跨碰撞室的所述多个杆中的两个径向相对的杆施加双极电压来执行所述msae。

6.根据权利要求5所述的方法,其中,激励电压的幅度从第一值倾斜变化至较低的第二值,以按照降低的m/z比从碰撞室释放离子。

7.根据权利要求4所述的方法,其中,通过向设置在所述碰撞室和所述质量分析仪之间的透镜施加激励电压来执行所述msae。

8.根据权利要求1所述的方法,其中,所述质量分析仪包括以四极配置布置的多个杆。

9.根据权利要求8所述的方法,其中,所述rf电压被施加到所述多个杆中的至少一个杆。

10.根据权利要求1所述的方法,其中,所述rf电压的幅度从所述第一值线性地变化至所述第二值。

11.根据权利要求1所述的方法,其中,所述rf电压的幅度从所述第一值非线性地变化至所述第二值。

12.根据权利要求1所述的方法,还包括随着从碰撞室由质量分析仪离子阱接收离子,向所述质量分析仪离子阱施加气体压力脉冲。

13.根据权利要求1所述的方法,还包括在所述捕获多种离子的步骤之前执行以下步骤:

产生离子,以及

对所述产生的离子的子集进行质量选择以用于捕获。

14.根据权利要求1所述的方法,还包括从低m/z比到高m/z比从所述质量分析仪质量选择性地轴向喷射所述离子。

15.一种质谱仪,包括:

源,所述源用于产生具有不同质荷m/z比的多种离子,

离子阱,所述离子阱用于接收和捕获所述多种离子的至少子集,其中,所述子集包括具有不同m/z比的离子,

质量分析仪,所述质量分析仪定位在所述离子阱的下游,所述质量分析仪包括多个杆,所述多个杆中的至少一个杆能够被施加rf电压,以及

控制器,所述控制器用于实现按照m/z比的降序从离子阱释放所述捕获的离子,并随着所释放的离子被所述质量分析仪接收,变化施加到质量分析仪的至少一个杆的rf电压的幅度。

16.根据权利要求15所述的质谱仪,其中,所述离子阱包括以四极配置布置的四个杆。

17.根据权利要求15所述的质谱仪,还包括用于向所述质量分析仪的所述至少一个杆施加rf电压的至少第一rf电压源以及用于向所述离子阱的至少一个杆施加rf电压以将离子径向约束在其中的至少第二rf电压源。

18.根据权利要求15所述的质谱仪,其中,所述质谱仪还包括激励电压源,所述激励电压源在所述控制器的控制下操作以用于跨所述碰撞室的两个杆施加激励电压以使包含在碰撞室中的离子释放。

19.根据权利要求17所述的质谱仪,其中,所述控制器控制所述第一rf电压源以使得随着所释放的离子被质量分析仪接收而变化施加到质量分析仪的所述至少一个杆的rf电压的幅度。


技术总结
在一方面中,公开了一种在质谱仪中处理离子的方法,该方法包括:将具有不同质荷(m/z)比的多种离子捕获在碰撞室中,按照m/z比的降序从碰撞室释放所述离子,并且在具有多个杆的质量分析仪中接收离子,该多个杆中的至少一个杆被施加RF电压,其中,随着释放的离子被质量分析仪接收,RF电压从第一值变化至较低的第二值。

技术研发人员:M·古纳
受保护的技术使用者:DH科技发展私人贸易有限公司
技术研发日:2019.09.04
技术公布日:2021.03.19
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