技术特征：
1.一种等离子体处理装置，其中，该等离子体处理装置具有：腔室；电极，其配置于所述腔室内；多个气体喷出口，其以朝向所述电极侧喷出气体的方式配置于所述电极的周边；气体供给部，其向所述多个气体喷出口供给处理气体；高频电源，其向所述电极供给能够使所述处理气体等离子体化的高频电力；以及控制部，其控制为，一边自所述气体供给部供给处理气体并使处理气体自所述气体喷出口喷出，一边自所述高频电源向所述电极供给高频电力。2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其中，所述控制部将来自所述气体供给部的处理气体的供给控制为，以一个或相邻的多个气体喷出口为单位依次喷出处理气体。3.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其中，所述控制部将来自所述气体供给部的处理气体的供给控制为，喷出处理气体的气体喷出口沿着所述电极的周围依次切换。4.根据权利要求1～3中任一项所述的等离子体处理装置，其中，所述多个气体喷出口设于所述电极的周围。5.根据权利要求1～4中任一项所述的等离子体处理装置，其中，所述电极配置于支承基板的基板支承部的上部，是喷出基板处理的工艺气体的喷头。6.根据权利要求5所述的等离子体处理装置，其中，所述多个气体喷出口以喷出来的处理气体经过所述喷头与所述基板支承部之间的方式配置。7.根据权利要求1～6中任一项所述的等离子体处理装置，其中，所述多个气体喷出口还在腔室的内壁配置于不同的高度。8.根据权利要求1～7中任一项所述的等离子体处理装置，其中，所述处理气体是能够利用所述处理气体的等离子体对所述腔室内进行清洁的清洁气体。9.根据权利要求1～8中任一项所述的等离子体处理装置，其中，所述控制部控制为，在腔室内的干洗过程中或接着所述干洗之后，一边自所述气体供给部供给处理气体并使处理气体自所述气体喷出口喷出，一边自所述高频电源向所述电极供给高频电力。10.一种清洁方法，其是等离子体处理装置的清洁方法，该等离子体处理装置具有：腔室；电极，其配置于所述腔室内；多个气体喷出口，其以朝向所述电极侧喷出气体的方式配置于所述电极的周边；气体供给部，其向所述多个气体喷出口供给处理气体；以及高频电源，其向所述电极供给能够使所述处理气体等离子体化的高频电力，其中，该清洁方法控制为，一边自所述气体供给部供给处理气体并使处理气体自所述气体喷
出口喷出，一边自所述高频电源向所述电极供给高频电力。
技术总结
本发明涉及等离子体处理装置和清洁方法。高效地去除附着于腔室的内壁的沉积物。电极配置于腔室内。多个气体喷出口以朝向电极侧喷出气体的方式配置于电极的周边。气体供给部向多个气体喷出口供给处理气体。高频电源向电极供给能够使处理气体等离子体化的高频电力。控制部控制为，一边自气体供给部供给处理气体并使处理气体自气体喷出口喷出，一边自高频电源向电极供给高频电力。电极供给高频电力。电极供给高频电力。
技术研发人员：清水涉
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：2021.12.22
技术公布日：2022/6/28