硅微热致动泵及其制造工艺的制作方法

文档序号:6809139阅读:287来源:国知局
专利名称:硅微热致动泵及其制造工艺的制作方法
技术领域
本发明涉及硅微热致动泵,属液体变容式机械领域。
随着科学技术的发展,在电子工程,医疗工程,化学工程,生物工程中对微量元素的分析,微循环及冷却等方面都需要对微量流体的供给进行控制,微型泵作为一种微型执行器得到了广泛的研究和开发,目前已有多种不同驱动原理,不同结构的微型泵,如荷兰Twente大学研制的热气动薄膜泵(图1),德国Fraunhofer研究所开发的静电致动微型薄膜泵(图2),日本东北大学研制的压电致动薄膜泵(图3)。图1为荷兰Twente大学热气动薄膜泵结构图。该泵有两块玻璃基板(1,2)、三块硅片(3,4,5)组成,利用热气动原理致动、硅片(3,4)中加工有气室(6),在硅片(3,4)之间有加热元件(7),硅片(5)上有弹性薄膜(8)泵腔(9)和单向阀(10,11)。工作时加热元件(7)加热气室(6)中的气体,使之膨胀,压迫薄膜(8)向下运动,使泵腔(9)中的流体通过单向阀(10)流出。当停止加热,气室内的气体冷却,体积缩小,薄膜(8)回弹,使流体通过单向阀(11)进入泵腔(9),如此循环加热、冷却、即使泵不断工作。
图2为德国Fraunholer研究所静电致动薄膜泵结构图。该泵由一块玻璃片(12),三块硅片(13,14,15)组成。利用静电致动原理工作。玻璃片(12)和硅片(13)作为电极,在其间有一绝缘间隔层(16),硅片(13)上开有泵腔(17),硅片(14,15)上开有单向阀(18,19)。工作时在玻璃片(12)和硅片(13)上交替加上电场,使之产生相吸或相斥的电场,该电场迫使硅片(13)的薄膜运动,当电场相斥,薄膜向下运动时,泵腔(17)内的流体即通过单向阀(18)排出,当电场为相吸时,薄膜向上运动,泵腔(17)内即通过单向阀(19)进入流体。图3为日本东北大学压电致动薄膜泵的结构图,该泵由二块玻璃片(20,21)、一片硅片(22)、一个压电晶体(23)组成。利用压电致动原理工作。两片玻璃片(20,21)之间夹有硅片(22),硅片(22)上有泵腔(24),玻璃片(20)上有一薄膜(25)并与压电晶体(23)相接触。工作时压电晶体(23)压迫薄膜(25)向下运动,迫使泵腔(24)内的流体经单向阀(27)流出,压电晶体断电时,薄膜(25)回弹,流体经单向阀(26)进入泵腔(24)如此循环工作。
上述几种微型泵由于需要多块元件组成,所以体积较大,结构复杂,装配困难,且驱动电压一般较高。
本发明的目的是提供一种结构简单,驱动电压低的微型泵。
本发明微型泵利用双金属层热致动原理工作,由两片硅薄膜片组成,在硅薄膜片上蚀刻有泵腔,流体沟道和单向阀,并有由硅薄膜、铝薄膜组成的双金属层。在硅薄膜、铝薄膜之间有加热元件,当加热元件通电时,双金属片动作,使泵腔变大,流体通过单向阀进入泵腔,停止通电后,双金属片恢复到原来状态使泵腔变小,压迫流体通过另一单向阀流出。
本发明微型泵硅薄膜片的制作工艺如下1.首先在双面抛光N型(100)硅片上,双面热氧化生长8000SiO2,低压化学气相淀积(LPCVD)1500的Si3N4,这两层薄膜作为体硅异向腐蚀掩壁膜。(图4a)2.正面进行光刻,等离子刻蚀出阀口的腐蚀窗口,使用KOH溶液(40%)进行异向腐蚀,深度为30μm。(图4b)3.背面进行双面光刻,等离子刻蚀形成泵腔腐蚀窗口,第二次体硅腐蚀至泵腔单晶硅膜厚10μm左右,此时阀口处只剩下SiO2和Si3N4膜,它们将作为后续工艺的支撑薄膜。(图4c)4.在背面低氧淀积,扩磷,厚度为1.5μm的SiO2,作为牺牲层材料;双面淀积2μm厚多晶硅,扩磷,浓度为R□=20Ω/□,退火,去除残余应力,正面光刻,等离子刻蚀形成驱动薄膜的加热电阻;背面光刻,刻蚀形成单向阀膜片,HF缓冲液中进行牺牲层腐蚀,释放阀膜片。(图4d)
5.在正面低压化学气相淀积(LPCVD)淀积Si3N4,厚1000,光刻及等离子体刻蚀形成绝缘层。(图4e)6.正面真空蒸发铝膜,厚度为5μm,光刻,腐蚀铝,形成双金属层及电极引线。(图4f)下片的制作工艺与上片相似,所不同的是增加一次光刻用以形成流体沟道,另外,驱动薄膜及单向阀膜片位于同一面。在上下两硅片制作完成之后,分别在入口和出口处粘接一玻璃管道,最后将两硅片粘接一起组装成一个完整泵体。
说明附图如下图1为荷兰Twente大学热气动薄膜泵结构图。
图2为德国franuhofer研究所静电致动薄膜泵结构图。
图3为日本东北大学压电致动薄膜泵结构图。
图4为本发明硅微热致动泵结构图。
图5本发明微型泵硅薄膜制作工艺过程图。
结合


实施例如下本发明硅微热致动泵(图4)由两片硅薄膜片(28,29)组成,在上硅片(28)上用蚀刻法制有泵腔(30)和单向阀(31),流体沟道(32),在硅片外层,泵腔(30)的对应部位制有硅,铝双金属层(35),(具体工艺见前述制作工艺部分)在下硅片(29)上除制有泵腔(30),单向阀(33),流体沟道(34)双金属层(36)外,还制有流体沟道(37,38)。将上、下两硅片组装后粘接在一起即成本发明硅微热致动泵。工作时,双金属层(35,36)中的发热元件(39)通电发热,使硅薄膜向上变形,使泵腔(30)变大,因此流体即通过沟道(32)单向阀(31)沟道(37)进入泵腔(30),当停止通电后,双金属片(35,36)恢复原位,泵腔(30)缩小,所以流体即通过沟道(38,34),单向阀(33)排出。如此反复工作。本微型泵的具体尺寸可为泵腔尺寸3mm×3mm×0.7mm 单向阀出口0.1mm×0.1mm
双金属层厚度铝膜5μm 单晶硅膜10μm输入功率0.45w工作电压0-50V频率0-10Hz 电流100mA驱动器电阻450Ω本硅微热致动泵由于采用双金属层热致动方式,双面驱动结构,所以作用力大,驱动电压低,结构简单、易于集成,制造方便。
权利要求
1.一种硅微热致动泵,其特征是用双金属层热致动原理工作,由两片硅薄膜片组成,在硅薄膜片上蚀刻有泵腔,流体沟道和单向阀,并有由单晶硅薄膜,铝薄膜组成的双金属层,在单晶硅薄膜和铝薄膜之间有加热元件。
2.一种硅微热致动泵所用硅薄膜的制造工艺,其特征是由下述工序组成,<1.>首先在双面抛光N型(100)硅片上,双面热氧化生长8000SiO2,低压化学气相淀积(LPCVD)1500的Si3N4,这两层薄膜作为体硅异向腐蚀掩壁膜。<2.>正面进行光刻,等离子刻蚀出阀口的腐蚀窗口,使用KOH溶液(40%)进行异向腐蚀,深度为30μm。<3.>背面进行双面光刻,等离子刻蚀形成泵腔腐蚀窗口,第二次体硅腐蚀至泵腔单晶硅膜厚10μm左右,此时阀口处只剩下SiO2和Si3N4膜,它们将作为后续工艺的支撑薄膜。<4.>在背面低氧淀积,扩磷,厚度为1.5μm的SiO2,作为牺牲层材料;双面淀积2μm厚多晶硅,扩磷,浓度为R□=20Ω/□,退火,去除残余应力,正面光刻,等离子刻蚀形成驱动薄膜的加热电阻;背面光刻,刻蚀形成单向阀膜片,HF缓冲液中进行牺牲层腐蚀释放阀膜片。<5.>在正面低压化学气相淀积(LPCVD)淀积Si3N4,厚1000A,光刻及等离子体蚀刻形成绝缘层。<6.>正面真空蒸发铝膜,厚度为5μm,光刻,腐蚀铝,形成双金属层及电极引线。
全文摘要
一种硅微热致动泵,属液体变容式机械领域。本微型泵利用双金属热致动原理工作,由两片硅薄膜片组成在硅薄膜上蚀刻有泵腔,流体沟道和单向阀,并有由单晶硅薄膜,铝膜组成的双金属层,在单晶硅薄膜和铝膜之间有加热元件。本微型泵由于采用了双金属层热致动方式,及双面驱动结构,所以作用力大,驱动电压低,结构简单,易于集成,制造方便。
文档编号H01L21/302GK1132317SQ95117829
公开日1996年10月2日 申请日期1995年12月8日 优先权日1995年12月8日
发明者周兆英, 杨岳, 叶雄英, 李勇 申请人:清华大学
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