，或者有效地将光源移近晶圆。
[0057] 格子状反射体阵列602可由数个反射体隔间610组成。每一反射体隔间可为方形、 矩形或其他种形状。在某些实施例中，每一反射体隔间610可对应于每一LED阵列204周 围的反射体208，如同上文相关于图2A与图2B所述的。每一反射体隔间610在顶部处具有 开口，并且在底部处具有开口，在底部处的开口可容纳上文相关于图2A与图2B所述的LED 阵列204。格子状反射体阵列602可设置于L抓阵列204之上，而L邸阵列204设置于LED 基板202上。格子状反射体阵列602可安装于L邸基板202,如同上文相关于图2A与图2B 所述的。
[0化引格子状反射体阵列602包括数个第一组反射体平板604,第一组反射体平板604可 禪接于第二组反射体平板606。使用狭缝614与616,可将第一组与第二组反射体平板604、 606禪接或互锁，如同图6B所示的。格子状反射体阵列602可包括额外的特征612,用于将 格子状反射体阵列602稳定且安装于L邸基板202。另外，在某些实施例中，格子状反射体 阵列602可堆迭于彼此的顶部上。在某些实施例中，格子状反射体阵列602可从固态材料 块来机械加工、通过喷射模塑来形成或类似者。
[0化9] 在某些实施例中，每一反射体隔间610可充填有固态材料，例如（但不限于）玻 璃，举例来说。来自L邸的光是在固态玻璃光导管内被反射，而非通过空气。此举允许光可W全内部反射，损耗很少的光。例如，在某些实施例中，L邸热源138可设置成距离祀材基 板101 =米，且使用固态光导管将来自L邸的光传送至祀材基板101，而不会丢失任何能量。 此举会有利地有助于热管理。
[0060] 在某些实施例中，上文相关于图2A-图6所讨论的任何反射体可W与一或多个透 镜联合使用，W增加到达祀材的光数量。因为LED是点光源，LED所发射的光需要被聚焦，W 捕捉尽可能多的能量。使用透镜来聚焦LED光的各种可能方式可包括（但不限于）；设置 单一透镜710于L邸群集之上，如同图7A所示；设置透镜712于每一LED706之上，如同图 7B所示（亦即，数个透镜，使得每一透镜相关于一个LED);或者通过碗碟状的通道而将水流 动于L邸表面之上，W作用为透镜（未图示）。在L邸之上也可使用其他变化形态的透镜。 例如，在某些实施例中，可将透镜塑形，W导引多个L邸光离开中屯、焦点。
[0061] 在某些实施例中，除了将光聚焦W外，可使用透镜710、712来导引光。也可使用多 层透镜来协助进一步将光聚焦。在某些实施例中，也可使用透镜710、712来确保光可W平 均地分布于正被处理/加热的基板表面之上。在某些范例实施例中，透镜可为平面的（例 如，化esnel透镜类型）。当在本文使用时，透镜可被叙述为；设置于光源与基板之间并且用 来修改光特性的任何表面。
[0062] 透镜也可由可W传送且折射光的任何材料制成，例如玻璃、环氧树脂、塑胶、晶体、 石英与类似者。在某些实施例中，透镜710、712可如此制成；通过研磨玻璃来产生透镜，或 者将环氧树脂灌注于纹理化的表面之上并且将环氧树脂固化。
[0063] 在某些实施例中，通过将透镜710、712嵌入于L邸之上所灌注的环氧树脂中，可将 透镜710、712安装于LED706之上。在其他实施例中，透镜710、712可被黏着至定位。又 在其他实施例中，包括一或多个透镜71〇、712的分离式透镜结构可设置于LED706与正被 加热的祀材之间。在某些实施例中，透镜可被生长。例如，生长Si化可W提供透光层，透光 层被机械加工或蚀刻成期望的透镜。
[0064] 虽然前述是关于本发明的实施例，本发明的其他与进一步实施例可被设想出而不 偏离其基本范围。
【主权项】
1. 一种用于提供热能至处理腔室的设备，该设备包括： 该处理腔室的处理腔室主体； 固态源阵列，该固态源阵列具有数个固态源，该固态源阵列设置于第一基板上，以加热 靶材元件，该靶材元件设置于该处理腔室主体中；及 至少一反射体，该至少一反射体设置于该第一基板上并且邻近于该等数个固态源的一 或多个固态源，以将该等数个固态源的该一或多个固态源所提供的热能导引朝向该靶材元 件。
2. 如权利要求1所述的设备，其特征在于，该至少一反射体的表面是设计有角度，以将 所发射的固态源光反射朝向该靶材元件。
3. 如权利要求1所述的设备，其特征在于，该至少一反射体（a)设置于该等数个固态源 的至少两个固态源之间，且（b)将该等数个固态源的该等至少两个固态源所提供的该热能 导引朝向该元件。
4. 如权利要求1所述的设备，其特征在于，该至少一反射体（a)设置于该固态源阵列的 周边周围，且（b)将该固态源阵列所提供的热能导引朝向该元件。
5. 如权利要求1所述的设备，其特征在于，该至少一反射体包括数个反射体，且其中该 等数个反射体设置于该等数个固态源的每一固态源的周边周围。
6. 如权利要求1至5的任一项所述的设备，其特征在于，该等数个固态源是发光二极管 (LED)〇
7. 如权利要求6所述的设备，其特征在于，该等LED的每一LED是无引线接合、直接附 接LED。
8. 如权利要求1至5的任一项所述的设备，其特征在于，该等数个固态源的每一固态源 是激光。
9. 如权利要求1至5的任一项所述的设备，其特征在于，该至少一反射体直接安装于该 第一基板。
10. 如权利要求1至5的任一项所述的设备，其特征在于，该至少一反射体直接生长于 该第一基板上。
11. 如权利要求1至5的任一项所述的设备，其特征在于，该至少一反射体通过压印处 理而形成，以产生反射体表面的期望形状与角度。
12. 如权利要求1至5的任一项所述的设备，其特征在于，该至少一反射体通过激光切 害J、蚀刻、线切割放电加工（EDM)或电铸的至少一者而形成。
13. 如权利要求1至5的任一项所述的设备，其特征在于，该至少一反射体是具有数个 反射体孔腔的反射体阵列，该等数个反射体孔腔将该等数个固态源所提供的热能导引朝向 该元件，且其中该反射体阵列通过氢氧化钾（KOH)蚀刻处理而形成。
14. 一种用于提供热能至处理腔室的设备，该设备包括： 该处理腔室的处理腔室主体； 固态源阵列，该固态源阵列具有数个固态源，该固态源阵列设置于第一基板上，以加热 处理腔室元件，该处理腔室元件设置于该处理腔室中； 数个侧部反射体，该等数个侧部反射体安装于该第一基板上并且实质上垂直于该第一 基板，且该等数个侧部反射体排列成实质上平行于彼此，每一侧部反射体具有沿着第一侧 部边缘而设置的数个狭缝；及 数个横向反射体，该等数个横向反射体安装于该第一基板上并且实质上垂直于该第一 基板，且该等数个横向反射体排列成实质上平行于彼此，每一横向反射体具有沿着第一侧 部边缘而设置的数个狭缝； 其中沿着该等数个横向反射体的该等第一侧部边缘而设置的该等狭缝接合于沿着该 等数个侧部反射体的该等第一侧部边缘而设置的该等狭缝，以产生反射体阵列，该反射体 阵列包括至少一矩形反射体孔腔，及 其中该至少一矩形反射体孔腔的每一矩形反射体孔腔设置于该固态源阵列中的该等 数个固态源的至少一固态源的周围，以将该等数个固态源的至少一固态源所提供的热能导 引朝向该处理腔室元件。
15. -种用于提供热能至处理腔室的设备，该设备包括： 该处理腔室的处理腔室主体； 固态源阵列，该固态源阵列具有数个固态源，该固态源阵列设置于第一基板上，以加热 处理腔室元件，该处理腔室元件设置于该处理腔室中； 至少一反射体，该至少一反射体设置于该第一基板上并且邻近于该等数个固态源的一 或多个固态源，以将该等数个固态源的该一或多个固态源所提供的热能导引朝向该元件； 及 至少一透镜，该至少一透镜设置于该固态源阵列与将被加热的该处理腔室元件之间， 其中该至少一透镜的每一透镜将该等数个固态源的至少一固态源所提供的热能导引朝向 该处理腔室元件。
【专利摘要】本文提供用于提供热能至处理腔室的设备。该设备可包括：该处理腔室的处理腔室主体；固态源阵列，该固态源阵列具有数个固态源，该固态源阵列设置于第一基板上，以提供热能至该处理腔室来加热靶材元件，该靶材元件设置于该处理腔室主体中；以及至少一反射体，该至少一反射体设置于该第一基板上并且邻近于该等数个固态源的一或多个固态源，以将该等数个固态源的该一或多个固态源所提供的热能导引朝向该靶材元件。
【IPC分类】H01L21-324
【公开号】CN104704614
【申请号】CN201380052718
【发明人】J·约翰逊, J·M·瑞尼西, J·格林, M·亚伯拉罕, A·M·亨特, A·奈纳尼
【申请人】应用材料公司
【公开日】2015年6月10日
【申请日】2013年10月10日
【公告号】US20140105583, WO2014062466A1