一种具有蓝宝石薄片的光谱反射计的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明属于半导体集成电路制造设备领域，涉及一种具有蓝宝石薄片的光谱反射
i+o
【背景技术】
[0002]目前，微电子技术已经进入超大规模集成电路和系统集成时代，微电子技术已经成为整个信息时代的标志和基础。微电子技术中，要制造一块集成电路，需要经过集成电路设计、掩膜板制造、原始材料制造、芯片加工、封装、测试等几道工序。在这个过程中，对半导体硅片进行刻蚀，形成工艺沟槽是关键的技术。
[0003]反应等离子刻蚀是指在活性离子对衬底的物理轰击和化学反应的双重作用下进行刻蚀的方法。目前，反应等离子刻蚀技术已经成为集成电路制作工艺中应用最多和最为广泛的主流刻蚀技术。例如在半导体加工工艺中，多晶硅栅、接触孔、金属连接等均采用反应等离子刻蚀方法进行刻蚀。
[0004]在半导体干法刻蚀设备中，通常采用光谱反射计(Lam Spectral Reflect meter,简称LSR)对硅片的当前刻蚀深度进行计算，并判断是否进行下一步刻蚀，LSR的工作原理是将激光束从腔体的上方射向硅片，中间通过蓝宝石薄片产生衍射干涉现象，同时利用光的衍射干涉原理，接收反射回来的激光束，可以快速计算当前的刻蚀深度，同时判断是否进行下一步刻蚀。
[0005]现有的蓝宝石薄片是一个呈圆柱状的薄片(如图1所示)，其横截面为矩形(如图2所示)，通常会直接暴露在工艺腔体中，在工艺制程过程中，工艺腔体中往往会产生聚合物，而其中的一部分聚合物会被吸附在蓝宝石薄片上，当堆积在蓝宝石薄片上的聚合物过多时，往往会掉落在硅片的表面，导致硅片产生缺陷甚至报废。
[0006]因此，本领域技术人员亟需提供一种具有蓝宝石薄片的光谱反射计，使蓝宝石薄片可以吸附更多的聚合物，减少聚合物掉落在硅片表面的风险，提高产品良率。
【发明内容】
[0007]本发明所要解决的技术问题是提供一种具有蓝宝石薄片的光谱反射计，使蓝宝石薄片可以吸附更多的聚合物，减少聚合物掉落在硅片表面的风险，提高产品良率。
[0008]为了解决上述技术问题，本发明提供了一种具有蓝宝石薄片的光谱反射计，用于检测硅片的刻蚀深度，所述光谱反射计包括蓝宝石薄片，所述蓝宝石薄片用于对激光产生衍射干涉，并接受反射回来的激光，所述蓝宝石薄片的下表面具有预设弧度的凹面，增加其下表面与聚合物的接触面积，使聚合物吸附于所述蓝宝石薄片的凹面上。
[0009]优选的，所述蓝宝石薄片的凹面上具有一粘附层，所述粘附层用于粘附所述聚合物。
[0010]优选的，所述蓝宝石薄片的上表面为平面。
[0011]优选的，所述光谱反射计还包括气体分配管，所述气体分配管设于所述蓝宝石薄片的下方，用于向硅片输送预设流量的气体。
[0012]优选的，所述光谱反射计还包括盖体，所述盖体设于所述蓝宝石薄片的上方，通过盖体上的多个螺丝将所述蓝宝石薄片以及气体分配管紧固为一体。
[0013]与现有的方案相比，本发明提供的具有蓝宝石薄片的光谱反射计，通过在蓝宝石薄片的下表面增加一具有预设弧度的凹面，从而使蓝宝石薄片的下表面与聚合物的接触面积更大，使更多的聚合物吸附于蓝宝石薄片的凹面上，减少聚合物掉落在硅片表面的风险，提尚了广品良率。
【附图说明】
[0014]为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0015]图1为现有技术中蓝宝石薄片的立体结构示意图；
[0016]图2为现有技术中蓝宝石薄片的剖面结构示意图；
[0017]图3为本发明具有蓝宝石薄片的光谱反射计的结构示意图；
[0018]图4为本发明中蓝宝石薄片的剖面结构示意图。
[0019]图中标号说明如下:
[0020]10、蓝宝石薄片；20、气体分配管；30、盖体。
【具体实施方式】
[0021]为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明的实施方式作进一步地详细描述。本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点与功效。本发明还可以通过另外不同的【具体实施方式】加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本发明的精神下进行各种修饰或改变。
[0022]上述及其它技术特征和有益效果，将结合实施例及附图3至4对本发明的具有蓝宝石薄片的光谱反射计进行详细说明，图3为本发明具有蓝宝石薄片的光谱反射计的结构示意图；图4为本发明中蓝宝石薄片的剖面结构示意图。
[0023]如图4所示，本发明提供了一种具有蓝宝石薄片的光谱反射计，用于检测硅片的刻蚀深度，光谱反射计包括蓝宝石薄片10，蓝宝石薄片10用于对激光产生衍射干涉，并接受反射回来的激光，蓝宝石薄片10的下表面具有预设弧度的凹面，通过预设弧度的凹面增加与聚合物的接触面积，使聚合物吸附于蓝宝石薄片10的凹面上。
[0024]具体的，本实施例中的蓝宝石薄片10的上表面依旧为平面。此外，为了进一步增强粘附聚合物的效果，蓝宝石薄片10的凹面上还可具有一粘附层，粘附层用于粘附更多的聚合物，粘附层的厚度以及材质可根据实际需要而定。
[0025]如图3所示，光谱反射计还包括气体分配管20以及盖体30，气体分配管20设于蓝宝石薄片10的下方，用于向硅片输送预设流量的气体；盖体30设于蓝宝石薄片10的上方，通过盖体10上的多个螺丝将蓝宝石薄片10以及气体分配管20紧固为一体。
[0026]综上所述，本发明提供的具有蓝宝石薄片的光谱反射计，通过在蓝宝石薄片的下表面增加一具有预设弧度的凹面，从而使蓝宝石薄片的下表面与聚合物的接触面积更大，使更多的聚合物吸附于蓝宝石薄片的凹面上，减少聚合物掉落在硅片表面的风险，提高了广品良率。
[0027]上述说明示出并描述了本发明的若干优选实施例，但如前所述，应当理解本发明并非局限于本文所披露的形式，不应看作是对其他实施例的排除，而可用于各种其他组合、修改和环境，并能够在本文所述发明构想范围内，通过上述教导或相关领域的技术或知识进行改动。而本领域人员所进行的改动和变化不脱离本发明的精神和范围，则都应在本发明所附权利要求的保护范围内。
【主权项】
1.一种具有蓝宝石薄片的光谱反射计，用于检测硅片的刻蚀深度，其特征在于，所述光谱反射计包括蓝宝石薄片，所述蓝宝石薄片用于对激光产生衍射干涉，并接受反射回来的激光，所述蓝宝石薄片的下表面具有预设弧度的凹面，增加其下表面与聚合物的接触面积，使聚合物吸附于所述蓝宝石薄片的凹面上。2.根据权利要求1所述的具有蓝宝石薄片的光谱反射计，其特征在于，所述蓝宝石薄片的凹面上具有一粘附层，所述粘附层用于粘附所述聚合物。3.根据权利要求1所述的具有蓝宝石薄片的光谱反射计，其特征在于，所述蓝宝石薄片的上表面为平面。4.根据权利要求1所述的具有蓝宝石薄片的光谱反射计，其特征在于，所述光谱反射计还包括气体分配管，所述气体分配管设于所述蓝宝石薄片的下方，用于向硅片输送预设流量的气体。5.根据权利要求4所述的具有蓝宝石薄片的光谱反射计，其特征在于，所述光谱反射计还包括盖体，所述盖体设于所述蓝宝石薄片的上方，通过盖体上的多个螺丝将所述蓝宝石薄片以及气体分配管紧固为一体。
【专利摘要】本发明公开了一种具有蓝宝石薄片的光谱反射计，蓝宝石薄片的下表面具有预设弧度的凹面，增加其下表面与聚合物的接触面积，使聚合物吸附于蓝宝石薄片的凹面上。本发明通过在蓝宝石薄片的下表面增加一具有预设弧度的凹面，从而使蓝宝石薄片的下表面与聚合物的接触面积更大，使更多的聚合物吸附于蓝宝石薄片的凹面上，减少聚合物掉落在硅片表面的风险，提高了产品良率。
【IPC分类】H01L21/67
【公开号】CN105047590
【申请号】CN201510487664
【发明人】吴人杰, 彭国发, 刘东升, 吕煜坤, 朱骏, 张旭升
【申请人】上海华力微电子有限公司
【公开日】2015年11月11日
【申请日】2015年8月11日