刻蚀机内部的水冷卡盘结构的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及半导体工艺处理设备-LED ICP刻蚀机，尤其涉及一种LED ICP刻蚀机内部的水冷卡盘结构。
【背景技术】
[0002]LED刻蚀机集成了高密度等离子源、快速响应的全自动匹配射频系统、精密的腔室温度控制系统、稳定的高精度压力控制系统、先进的中央喷嘴进气系统和独特的腔室表面处理等多项先进技术，用IC刻蚀工艺更为精密的设计要求来实现LED领域更高性能的刻蚀工艺，可以适应不同客户的不同规格图形片要求，获得优异的刻蚀工艺结果。水冷卡盘是腔室温度控制的核心部件。氦气从水冷卡盘上层的气孔进入托盘，实现蓝宝石片的冷却；同时从冷却卡盘下层水道内通过的水流带走刻蚀腔内的热量，实现温度控制。水冷卡盘的上层氦气通道的结构、下层水道分布直接影响刻蚀过程中蓝宝石片及刻蚀腔内工作温度控制的质量。
【发明内容】
[0003]本实用新型的目的在于提供一种LED刻蚀机内部的水冷卡盘结构。本实用新型通过以下技术方案实现的:
[0004]刻蚀机内部的水冷卡盘结构,包括氦气分布板、水道分布板、水道密封板,其特征在于:氦气分布板、水道分布板及水道密封板表面上都均布设置有相对应的避让孔通孔，用于托盘装卸机构通过；所述的水道分布板、水道密封板表面上还设置有相对应的氦气引导孔；所述的氦气分布板、水道分布板及水道密封板依次在真空钎焊的作用下结合为一体，组成两组不同的输入、输出气、水通道。
[0005]所述的氦气分布板表面上设置有三个分布圆，每个分布圆圆周上均布设置有氦气孔，表面上最外圈还设置有密封沟槽；所述的三个分布圆之间的径向间距相等；所述的氦气孔与背面设置的氦气引导槽相通。
[0006]所述的水道分布板表面上设置的两个氦气引导孔用于引导氦气进入氦气分布板上的氦气引导槽，外圈台阶上均布设计有12个U形缺口沉孔，用于把水冷卡盘安装在刻蚀腔上；背面设计有覆盖大区域的水道结构。
[0007]所述的水道密封板外形尺寸与水道分布板相同，表面上外圈均布的12个通孔与水道分布板上U形缺口沉孔相对应，两个氦气引导孔与水道分布板上的氦气引导孔相对应；两个水流引导孔与水道分布板上的水道结构两端点相对应，用于冷却水的进入和流出。
[0008]所述的氦气分布板、水道分布板及水道密封板材料为6061-T6铝合金。
[0009]所述的氦气分布板表面上最外圈设置的密封沟槽，用于安装密封圈，阻止氦气向刻蚀腔内泄露。
[0010]本实用新型将氦气分布板、水道分布板和水道密封板在真空钎焊的作用下结合为一体。通过三层板不同的内部结构设计，设计出一条循环水道、一条循环气道结构，互不干涉，实现两种冷却、温控功能。确保刻蚀过程中蓝宝石片及刻蚀腔内工作温度控制的质量，大大延长了设备的使用寿命。
【附图说明】
[0011]图1是本实用新型氦气分布板结构示意图中的主视图；
[0012]图2是图1A-A方向剖视图；
[0013]图3是本实用新型氦气分布板结构示意图中的后视图；
[0014]图4是本实用新型水道分布板结构示意图中的主视图；
[0015]图5是图4A-A方向剖视图；
[0016]图6是本实用新型水道分布板结构示意图中的后视图；
[0017]图7是本实用新型水道密封板结构示意图中的主视图；
[0018]图8是图7A-A方向剖视图；
[0019]图9是本实用新型水道密封板结构示意图中的后视图；
[0020]图10是本实用新型水冷卡盘的总装结构示意图中的主视图；
[0021]图11是图10A-A方向剖视图；
[0022]图12是本实用新型水冷卡盘的总装结构示意图中的后视图；
[0023]1.氦气孔，2.避让孔，3.密封沟槽，4.氦气引导槽，5.氦气引导孔,6.U形缺口沉孔，7.水道结构，8.水流引道孔，9.定位孔，10.通孔。
【具体实施方式】
[0024]下面结合附图对本实用新型作进一步说明；
[0025]刻蚀机内部的水冷卡盘结构,包括氦气分布板、水道分布板、水道密封板,其特征在于:氦气分布板、水道分布板及水道密封板表面上都均布设置有相对应的避让孔2通孔，用于托盘装卸机构通过；所述的水道分布板、水道密封板表面上还设置有相对应的氦气引导孔5 ;所述的氦气分布板、水道分布板及水道密封板依次在真空钎焊的作用下结合为一体，组成两组不同的输入、输出气、水通道。
[0026]所述的氦气分布板表面上设置有三个分布圆，每个分布圆圆周上均布设置有氦气孔1，表面上最外圈还设置有密封沟槽3 ;所述的三个分布圆之间的径向间距相等；所述的氦气孔I与背面设置的氦气引导槽4相通。
[0027]所述的水道分布板表面上设置的两个氦气引导孔5用于引导氦气进入氦气分布板上的氦气引导槽4，外圈台阶上均布设计有12个U形缺口沉孔6，用于把水冷卡盘安装在刻蚀腔上；背面设计有覆盖大区域的水道结构7。
[0028]所述的水道密封板外形尺寸与水道分布板相同，表面上外圈均布的12个通孔与水道分布板上U形缺口沉孔6相对应，两个氦气引导孔5与水道分布板上的氦气引导孔5相对应；两个水流引导孔8与水道分布板上的水道结构7两端点相对应，用于冷却水的进入和流出。
[0029]所述的氦气分布板、水道分布板及水道密封板材料为6061-T6铝合金。
[0030]所述的氦气分布板表面上最外圈设置的密封沟槽3，用于安装密封圈，阻止氦气向刻蚀腔内泄露。
[0031]具体实施时，本实用新型冷却水从水道密封板的背面水流引道孔其中之一的进水孔输入水道分布板的水道结构中，沿水道结构循环后再从水道密封板背面水流引道孔出水口输出，在生产过程中带走刻蚀腔内的热量，通过控制水流的大小实现刻蚀腔内温度的控制；氦气从水道密封板的背面氦气引导孔其中之一的进气孔经水道分布板上的氦气引导孔，进入氦气分布板中的氦气引导槽与氦气孔相通，输入的氦气与托盘上的蓝宝石片接触，由于氦气分布板表面上最外圈还设置有密封沟槽，用于安装密封圈，阻止氦气向刻蚀腔内泄露。氦气带走刻蚀过程中产生的热量，经水道分布板、水道密封板上的另一个氦气引导孔输出，实现蓝宝石片的温度控制；托盘的装卸机构从水冷卡盘内通过，升起和降落操作实现托盘的装卸。
【主权项】
1.刻蚀机内部的水冷卡盘结构，包括氦气分布板、水道分布板、水道密封板，其特征在于:氦气分布板、水道分布板及水道密封板表面上都均布设置有相对应的避让孔(2)通孔，用于托盘装卸机构通过；所述的水道分布板、水道密封板表面上还设置有相对应的氦气引导孔(5);所述的氦气分布板、水道分布板及水道密封板依次在真空钎焊的作用下结合为一体，组成两组不同的输入、输出气、水通道。
2.根据权利要求1所述的刻蚀机内部的水冷卡盘结构，其特征在于:所述的氦气分布板表面上设置有三个分布圆，每个分布圆圆周上均布设置有氦气孔(1)，表面上最外圈还设置有密封沟槽(3);所述的三个分布圆之间的径向间距相等；所述的氦气孔(I)与背面设置的氦气引导槽(4)相通。
3.根据权利要求1或2所述的刻蚀机内部的水冷卡盘结构，其特征在于:所述的水道分布板表面上设置的两个氦气引导孔(5)用于引导氦气进入氦气分布板上的氦气引导槽(4)，外圈台阶上均布设计有12个U形缺口沉孔(6)，用于把水冷卡盘安装在刻蚀腔上；背面设计有覆盖大区域的水道结构(7)。
4.根据权利要求1所述的刻蚀机内部的水冷卡盘结构，其特征在于:所述的水道密封板外形尺寸与水道分布板相同，表面上外圈均布的12个通孔与水道分布板上U形缺口沉孔(6)相对应，两个氦气引导孔(5)与水道分布板上的氦气引导孔(5)相对应；两个水流引导孔(8)与水道分布板上的水道结构(7)两端点相对应，用于冷却水的进入和流出。
5.根据权利要求1或2所述的刻蚀机内部的水冷卡盘结构，其特征在于:所述的氦气分布板表面上最外圈设置的密封沟槽(3)，用于安装密封圈，阻止氦气向刻蚀腔内泄露。
6.根据权利要求1所述的刻蚀机内部的水冷卡盘结构，其特征在于:所述的氦气分布板、水道分布板及水道密封板材料为6061-T6招合金。
【专利摘要】刻蚀机内部的水冷卡盘结构，包括氦气分布板、水道分布板、水道密封板，在氦气分布板、水道分布板及水道密封板表面上都均布设置有相对应的避让孔通孔，用于托盘装卸机构通过；所述的水道分布板、水道密封板表面上还设置有相对应的氦气引导孔；所述的氦气分布板、水道分布板及水道密封板依次在真空钎焊的作用下结合为一体，组成两组不同的输入、输出气、水通道。本实用新型通过三层板不同的内部结构设计，设计出一条循环水道、一条循环气道结构，互不干涉，实现两种冷却、温控功能。确保刻蚀过程中蓝宝石片及刻蚀腔内工作温度控制的质量，大大延长了设备的使用寿命。
【IPC分类】H01L21-687, H01L21-67
【公开号】CN204464243
【申请号】CN201420699473
【发明人】游利
【申请人】靖江先锋半导体科技有限公司
【公开日】2015年7月8日
【申请日】2014年11月20日