一种托盘系统的制作方法
【技术领域】
[0001 ]本实用新型涉及半导体刻蚀技术领域，尤其涉及一种托盘系统。
【背景技术】
[0002]蓝光LED(Light Emitting D1de)是一种应用最为广泛的LED，其出光效率是其最重要的性能指标之一。目前，主要通过应用PSS衬底(Patterned Sapphire Substrate，图形化蓝宝石衬底)的方法来提高蓝光LED的出光效率。
[0003]目前，主要使用ICP(InductivelyCoupled Plasma，感应親合等离子体)刻蚀技术制作PSS衬底，在制作PSS衬底的过程中需要使用托盘系统，如图1和图2所示，现有技术中的托盘系统包括托盘I’、盖板2 ’和密封圈3’，托盘I’具有一凸台11’，凸台11’上设置有多个氦气孔(图中未示出)，密封圈3’内嵌在凸台11’的边缘位置处的凹槽12’中，用以将冷却介质(例如氦气)密封在晶片4’和凸台11’之间，盖板2’包括本体和设置在本体的边缘上的多个压爪。具体地，托盘系统的使用方式如下:先将晶片4’(例如蓝宝石衬底)装载在托盘I’的凸台11’上，接着装配盖板2’，通过盖板2’的压爪将晶片4’固定在凸台11’上，然后将晶片4’、托盘I’和盖板2’固定，最后将整个装有晶片4’的托盘系统传进工艺腔室中对晶片4’进行刻蚀。
[0004]本申请的发明人发现，在对晶片4’进行刻蚀的过程中，托盘I’的凸台11’的边缘会暴露在刻蚀环境中，密封圈3 ’会被刻蚀粒子刻蚀而损坏，进而影响密封圈3 ’的密封效果，导致冷却介质泄漏，托盘系统无法使用。
【实用新型内容】
[0005]本实用新型的目的在于提供一种托盘系统，用于在刻蚀过程中，避免密封圈的损坏，维持托盘系统的正常使用。
[0006]为达到上述目的，本实用新型提供一种托盘系统，采用如下技术方案:
[0007]该托盘系统包括托盘、盖板和密封圈，所述托盘具有至少一个凸台，用于承载晶片，所述密封圈设置于所述凸台上，用于密封所述凸台和所述晶片之间的空间，防止冷却介质泄漏，所述盖板包括本体和设置在所述本体上的至少一个通孔，所述通孔与所述凸台一一对应，所述通孔的边缘上设有至少一个压爪，所述通孔的边缘上还设有至少一个裙边，所述托盘和所述盖板装配后，所述裙边遮盖所述凸台的边缘。
[0008]本实用新型提供了一种如上所述的托盘系统，由于该托盘系统包括的盖板不仅包括设置于本体上的通孔的边缘上的至少一个压爪，还包括设于通孔的边缘上的至少一个裙边，且当将托盘和盖板装配后，裙边遮盖凸台的边缘，从而使得在对晶片进行刻蚀的过程中，裙边对凸台的边缘具有保护作用，能够有效阻挡刻蚀粒子到达凸台的边缘，避免了密封圈的损坏，保证了密封圈的密封效果，有效防止了冷却介质泄漏，进而能够维持托盘系统的正常使用。
【附图说明】
[0009]为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0010]图1为现有技术中的托盘系统的压爪区域的截面示意图；
[0011]图2为现有技术中的托盘系统的非压爪区域的截面示意图；
[0012]图3为本实用新型实施例中的托盘系统的压爪区域的截面示意图；
[0013]图4为本实用新型实施例中的托盘系统的非压爪区域的截面示意图；
[0014]图5为本实用新型实施例中的凸台的平面示意图。
[0015]附图标记说明:
[0016]I—托盘； 11—凸台；12—气孔；
[0017]13—凹槽； 2—盖板；21—本体；
[0018]22—压爪； 23—裙边；3—密封圈；
[0019]4—晶片。
【具体实施方式】
[0020]下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
[0021]如图3和图4所示，本实用新型实施例提供了一种托盘系统，包括托盘1、盖板2和密封圈3，其中，托盘I具有至少一个凸台11，用于承载晶片4，密封圈3设置于凸台11的边缘上，用于密封凸台11和晶片4之间的空间，防止冷却介质泄漏，盖板2包括本体21和设置在本体21上至少一个通孔，通孔与凸台11一一对应，通孔的边缘上设置有至少一个压爪22，通孔的边缘上还设置有至少一个裙边23，当在托盘系统使用过程中，将托盘I和盖板2装配后，裙边23的遮盖凸台11的边缘，从而使得在对晶片4进行刻蚀的过程中，裙边23对凸台11的边缘具有保护作用，能够有效阻挡刻蚀粒子到达凸台11的边缘，进而避免了密封圈3的损坏，保证了密封圈2的密封效果，有效防止了冷却介质泄漏，进而能够维持托盘系统的正常使用。
[0022]其中，通孔的边缘上可以设有多个压爪22和多个裙边23，压爪22和裙边23沿通孔的边缘均匀分布，且交替设置。盖板2包括的本体21、压爪22和裙边23可以一体成型。如图3和图4所示，密封圈3可以内嵌在凸台11的边缘上的凹槽13中。如图5所示，凸台11上可以设置有多个气孔12，以向晶片4 (例如蓝宝石衬底)和凸台11之间的空间内通入冷却介质(例如氦气)，以对放置于凸台11上的晶片4进行冷却，保证刻蚀的顺利进行。
[0023]进一步地，盖板2还可以包括位于本体21内侧，且位于裙边23下方的填充部(图中未示出)，托盘I和盖板2装配后，填充部的侧面与凸台11的侧面接触，由于填充部对裙边23具有支撑作用，从而能够有效提高裙边23的强度和寿命，进而提高托盘系统的寿命。优选地，填充部、本体21、压爪22和裙边23—体成型。
[0024]可选地，托盘I的材质为Al(铝)，盖板2的材质可以为石英、陶瓷、SiC(碳化硅)或AI。本申请的发明人发现，盖板2的材质会对刻蚀结果产生影响，因此，盖板2的材质应该根据实际情况(例如晶片4上的图形形貌)进行选择。示例性地，对于提高蓝光LED的出光效率的效果最好的侧壁平直的圆锥形貌而言，盖板2的材质应选择为具有相对硬度高、寿命长、易维护、刻蚀选择比高等优点的Al。
[0025]可选地，如图3和图4所示，本实用新型实施例中的凹槽13优选为燕尾槽，与侧壁垂直的凹槽相比，燕尾槽具有开口较小，且两侧厚度较大的优点，从而能够更好地固定密封圈3。
[0026]需要说明的是，上述裙边23的具体形状可以有多种，只要其能阻挡刻蚀粒子即可，本实用新型实施例对此不进行限定。本实用新型实施例中，为了防止裙边23对凸台11的上表面造成刮伤，优选如图3所示，裙边23的下表面为与凸台11的上表面平行的平面。进一步地，如图3所示，裙边23的上表面和裙边23的下表面均为与凸台11的上表面平行的平面;或者，裙边23的上表面为斜面或者曲面，裙边23的下表面为与凸台11的上表面平行的平面。
[0027]本申请的发明人发现，当托盘I和盖板2的材质均为Al时，由于Al为良导体，从而使得托盘I和盖板2在刻蚀环境中会产生自偏压分