专利名称：平面马达和包括这种平面马达的光刻设备的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种平面马达和包括这种平面马达的光刻设备。
背景技术：
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(ICs)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。通常，图案的转移是通过把图案成像到提供到衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行的。通常，单独的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包 括所谓的步进机，在步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；和所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步地扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。也可能通过将图案压印(imprinting)到衬底上的方式从图案形成装置将图案转移到衬底上。在光刻技术中，需要例如平面马达等高功率电动马达，例如以能够使得保持衬底的衬底台或保持图案形成装置的支撑结构移动。一方面，高的加速度需要功率高的马达。另一方面，高功率的马达带来重量大的移动部分，由于将要移动的结构的较大的质量，这对将要实现的最大加速度产生负面的影响。而且，兼容性起重要作用。在应用多个马达单元的情形中，例如用于沿X方向推进的马达单元和沿y方向推进的马达单元，与多个马达单元相互连接的结构的兼容性可能限制将要实现的移动的动态性能和最大带宽。
发明内容
期望提供一种平面马达，其能够提供高的加速度和高的带宽。根据本发明的一个实施例，提供一种光刻设备，设置有平面马达，所述平面马达包括定子，包括多个定子极，所述多个定子极以具有第一节距的重复布置方式布置，多个定子极面对移动平面的第一侧，动子，包括多个动子极，所述多个动子极以具有第二节距的重复布置方式布置，多个动子极面对移动平面的相对的第二侧，其中定子和动子中的至少一个的极设置有绕组，以便响应于通过相应的绕组的电流改变定子极和动子极中相应的一个内的磁场，其中定子和动子中的至少一个包括永磁体，用于产生从永磁体延伸经过定子和动子中的至少一个相应的极至定子和动子中的另一个并返回的磁场，其中第一节距和第二节距彼此不同，使得当动子的一个动子极与定子的一个定子极对准时，动子的其他动子极与定子的定子极不对准。
在本发明的另一实施例中，提供一种照射系统，配置成调节辐射束；支撑结构，构造成支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面上将图案赋予辐射束以形成图案化辐射束；衬底台，构造成保持衬底；和投影系统，配置成将图案化辐射束投影到衬底的目标部分上，其中光刻设备包括根据本发明的平面马达， 所述平面马达是支撑结构和衬底台中一个的驱动马达。
现在参照随附的示意性附图，仅以举例的方式，描述本发明的实施例，其中，在附图中相应的附图标记表示相应的部件，且其中图I示出根据本发明一个实施例设置于其中的光刻设备；图2示出根据本发明一个实施例的平面马达的示意侧视图；图3示意地示出根据本发明一个实施例的平面马达的侧视图；图4示出根据本发明一个实施例的平面马达的示意侧视图；图5示出根据本发明一个实施例的平面马达的示意侧视图；图6示出根据本发明一个实施例的平面马达的示意侧视图；图7示出根据本发明一个实施例的平面马达的示意俯视图；以及图8示出根据本发明一个实施例的平面马达的示意俯视图。
具体实施例方式图I示意地示出了根据本发明的一个实施例的光刻设备。所述光刻设备包括照射系统(照射器)IL，其配置用于调节辐射束B (例如，紫外(UV)辐射或任何其他合适的辐射)；掩模支撑结构(例如掩模台)MT，其构造用于支撑图案形成装置(例如掩模)MA，并与用于根据确定的参数精确地定位图案形成装置MA的第一定位装置PM相连。所述设备还包括衬底台(例如晶片台)WT或“衬底支撑结构”，其构造用于保持衬底(例如涂覆有抗蚀剂的晶片)W，并与配置用于根据确定的参数精确地定位衬底W的第二定位装置PW相连。所述设备还包括投影系统(例如折射式投影透镜系统)PS，其配置用于将由图案形成装置MA赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分C (例如包括一根或多根管芯)上。照射系统IL可以包括各种类型的光学部件，例如折射型、反射型、磁性型、电磁型、静电型或其它类型的光学部件、或其任意组合，以引导、成形、或控制辐射。所述掩模支撑结构MT支撑，即承载图案形成装置的重量。掩模支撑结构以依赖于图案形成装置MA的方向、光刻设备的设计以及诸如图案形成装置MA是否保持在真空环境中等其他条件的方式保持图案形成装置MA。所述掩模支撑结构MT可以采用机械的、真空的、静电的或其它夹持技术保持图案形成装置MA。所述掩模支撑结构MT可以是框架或台，例如，其可以根据需要成为固定的或可移动的。所述掩模支撑结构MT可以确保图案形成装置MA位于所需的位置上(例如相对于投影系统)。在这里任何使用的术语“掩模版”或“掩模”都可以认为与更上位的术语“图案形成装置”同义。这里所使用的术语“图案形成装置”应该被广义地理解为表示能够用于将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束、以便在衬底的目标部分上形成图案的任何装置。应当注意，被赋予辐射束的图案可能不与在衬底的目标部分上的所需图案完全相符(例如如果该图案包括相移特征或所谓的辅助特征)。通常，被赋予辐射束的图案将与在目标部分上形成的器件中的特定的功能层相对应，例如集成电路。图案形成装置MA可以是透射式的或反射式的。图案形成装置的示例包括掩模、可编程反射镜阵列以及可编程液晶显示(LCD)面板。掩模在光刻术中是公知的，并且包括诸如二元掩模类型、交替型相移掩模类型和衰减型相移掩模类型以及各种混合掩模类型之类的掩模类型。可编程反射镜阵列的示例采用小反射镜的矩阵布置，每一个小反射镜可以独立地倾斜，以便沿不同方向反射入射的辐射束。所述已倾斜的反射镜将图案赋予由所述反射镜矩阵反射的辐射束。这里使用的术语“投影系统”应该广义地解释为包括任意类型的投影系统，投影系统的类型可以包括折射型、反射型、反射折射型、磁性型、电磁型和静电型光学系统、或其任意组合，如对于所使用的曝光辐射所适合的、或对于诸如使用浸没液或使用真空之类的其他因素所适合的。这里使用的术语“投影透镜”可以认为是与更上位的术语“投影系统”同义。如这里所示的，所述设备是透射型的(例如，采用透射式掩模)。替代地，所述设备可以是反射型的(例如，采用如上所述类型的可编程反射镜阵列，或采用反射式掩模)。光刻设备可以是具有两个(双台)或更多衬底台或“衬底支撑结构”(和/或两个或多个掩模台或“掩模支撑结构”)的类型。在这种“多台”机器中，可以并行地使用附加的台或支撑结构，或可以在一个或更多个台或支撑结构上执行预备步骤的同时，将一个或更多个其它台或支撑结构用于曝光。光刻设备还可以是至少一部分衬底可以被具有相对高折射率的液体(例如水)覆盖、以便填充投影系统和衬底之间的空间的类型。浸没液体还可以被施加至光刻设备中的其它空间，例如在掩模和投影系统之间。浸没技术用于增加投影系统的数值孔径。如在此处所使用的术语“浸没”并不意味着诸如衬底等结构必须浸没在液体中，而是意味着在曝光期间液体位于投影系统和衬底之间。参照图1，所述照射器IL接收从辐射源SO发出的辐射束。该源SO和所述光刻设备可以是分立的实体(例如当该源为准分子激光器时)。在这种情况下，不会将该源SO看成形成光刻设备的一部分，并且通过包括例如合适的定向反射镜和/或扩束器的束传递系统BD的帮助，将所述辐射束从所述源SO传到所述照射器IL。在其它情况下，所述源SO可以是所述光刻设备的组成部分(例如当所述源SO是汞灯时)。可以将所述源SO和所述照射器IL、以及如果需要时设置的所述束传递系统BD —起称作辐射系统。所述照射器IL可以包括用于调整所述辐射束的角强度分布的调整器AD。通常，可以对所述照射器IL的光瞳平面中的强度分布的至少所述外部和/或内部径向范围(一般分别称为σ-外部和ο-内部)进行调整。此外，所述照射器IL可以包括各种其它部件，例如积分器IN和聚光器CO。可以将所述照射器用于调节所述辐射束，以在其横截面中具有所需的均匀性和强度分布。所述辐射束B入射到保持在掩模支撑结构(例如，掩模台)ΜΤ上的所述图案形成装置(例如，掩模)ΜΑ上，并且通过所述图案形成装置MA来形成图案。已经穿过掩模MA之、后，所述辐射束B通过投影系统PS，所述投影系统将辐射束聚焦到所述衬底W的目标部分C上。通过第二定位装置PW和位置传感器头IF(例如干涉仪装置、线性编码器或电容传感器)的帮助，可以精确地移动所述衬底台WT，例如以便将不同的目标部分C定位于所述辐射束B的路径中。类似地，例如在从掩模库的机械获取之后，或在扫描期间，可以将所述第一定位装置PM和另一个位置传感器(图I中未明确示出)用于相对于所述辐射束B的路径精确地定位掩模MA。通常，可以通过形成所述第一定位装置PM的一部分的长行程模块(粗定位)和短行程模块(精定位)的帮助来实现掩模台MT的移动。类似地，可以采用形成所述第二定位装置PW的一部分的长行程模块和短行程模块来实现所述衬底台WT或“衬底支撑结构”的移动。在步进机的情况下(与扫描器相反)，掩模台MT可以仅与短行程致动器相连，或可以是固定的。可以使用掩模对准标记Ml、M2和衬底对准标记P1、P2来对准掩模MA和衬底W。尽管所示的衬底对准标记占据了专用目标部分，但是它们可以位于目标部分C之间的空间(这些公知为划线对齐标记)中。类似地，在将多于一个的管芯设置在掩模MA上的情况下，掩模对准标记可以位于所述管芯之间。可以将所示的设备用于以下模式中的至少一种中 I.在步进模式中，在将掩模台MT或“掩模支撑结构”和衬底台WT或“衬底支撑结构”保持为基本静止的同时，将赋予所述辐射束的整个图案一次投影到目标部分C上(即，单一的静态曝光)。然后将所述衬底台WT或“掩模支撑结构”沿X和/或Y方向移动，使得可以对不同目标部分C曝光。在步进模式中，曝光场的最大尺寸限制了在单一的静态曝光中成像的所述目标部分C的尺寸。2.在扫描模式中，在对掩模台MT或“掩模支撑结构”和衬底台WT或“衬底支撑结构”同步地进行扫描的同时，将赋予所述辐射束B的图案投影到目标部分C上(即，单一的动态曝光)。衬底台WT或“衬底支撑结构”相对于掩模台MT或“掩模支撑结构”的速度和方向可以通过所述投影系统PS的(缩小)放大率和图像反转特征来确定。在扫描模式中，曝光场的最大尺寸限制了单一动态曝光中所述目标部分C的宽度(沿非扫描方向)，而所述扫描运动的长度确定了所述目标部分C的高度(沿所述扫描方向)。3.在另一个模式中，将用于保持可编程图案形成装置的掩模台MT或“掩模支撑结构”保持为基本静止，并且在对所述衬底台WT或“衬底支撑结构”进行移动或扫描的同时，将赋予所述辐射束的图案投影到目标部分C上。在这种模式中，通常采用脉冲辐射源，并且在所述衬底台WT或“衬底支撑结构”的每一次移动之后、或在扫描期间的连续辐射脉冲之间，根据需要更新所述可编程图案形成装置。这种操作模式可易于应用于利用可编程图案形成装置(例如，如上所述类型的可编程反射镜阵列)的无掩模光刻术中。也可以采用上述使用模式的组合和/或变体或完全不同的使用模式。图2示出根据本发明一个实施例的平面马达的示意侧视图。平面马达包括定子ST,具有定子极STP以第一节距重复布置的布置。定子极STP沿移动平面POM延伸并且由亚铁磁材料(或铁磁材料)形成，例如铁或包含这种亚铁磁材料或铁磁材料的组合物，诸如包含铁粉末的组合物。平面马达还包括动子MV，其沿移动平面POM相对于定子ST是可移动的。定子极STP延伸朝向移动平面POM的第一侧。动子极延伸朝向移动平面POM的相对侧。设置永磁体PMT (在该示例中，设置在动子MV中，但是也可以将永磁体设置在定子ST内)。永磁体PMT在本示例中(设置4个动子极)布置在连接至每个动子极MPS的动子基部MBS内中央位置处，使得在永磁体PMT的每一侧两个动子极MPS连接至动子基部MBS。动子的动子极因此全部连接至动子基部MBS，动子基部MBS由能够传导磁通量的材料形成，例如铁和/或永磁体，在本示例中例如是永磁体PMT。绕组WD (例如线圈)围绕每个动子极设置。替换地，绕组WD可以围绕定子极STP设置。如图2所示，在图示的位置处，从左边看，动子极MPS的第二个面对定子极STP中的一个，换句话说，与该定子极STP同相。从左边看的第一动子极MPS相对于定子极STP的重复图案一定程度不同相或异相在图示的位置中，从左边看的第一动子极MPS是180度异相，同时第三和第四动子极MPS分别为270度和90度异相。在这个位置中，永磁体PMT的磁场延伸经过动子极MPS的第二个至定子ST，并从定子ST经过第三和第四动子极MPS和相应的定子极STP回到动子MV的永磁体PMT。假设第三和第四动子极MPS与相应的定子极STP的重叠基本上相同，则基本上相同的磁场流过(只要绕组WD没有通电)第三和第四动子 极MPS。当一个或多个绕组WD由各自的电流通电时，可以产生力以相反方向的电流给第三和第四动子极MPS的绕组WD通电将增大第三和第四动子极MPS中的一个内的磁场,并降低另一个内的磁场，由此产生朝向左或朝向右的力(依赖于电流的方向)。当动子MV移动时，动子极MPS与定子极STP的重叠改变作为一个示例，当朝向左移动，第一动子极的重叠增大，第二动子极的重叠减少，第三动子极的重叠减少，以及第四动子极的重叠增大。结果，磁场本身“重新分布”，由此重叠减少的动子极倾向于降低场强度，反之亦然。当动子移动时，绕组的功率改变。在本实施例中绕组被整流作为动子的位置相对于定子的函数，更精确地，作为动子相对于定子极的重复图案的相的函数。结果，可以提供有效率的平面马达，其允许结合轻量的动子产生高的马达力，使得可以产生高的加速度。为了在定子上提供平面马达的类似的行为，定子极可以以恒定的节距设置。在图示的示例中，设置4个动子极，由此允许实现提供低的力波动、大的力以及低的动子质量的有效的结构。可以在其他数量的动子极的情况下应用相同的原理，但是需要最少3个动子极。动子极的节距与定子极的节距不同，使得当动子沿移动平面移动时，动子极一个接一个面对相应的定子极，由此允许沿移动平面相对于定子在动子的每个位置处产生力。因此，当移动动子时，动子极被一个接一个与定子极对准(即，面对)。当动子极布置成以由动子的极数分割360度的相差定位时，可以提供允许相对的波动自由、因而允许相对恒定的力的有效布置。因而，在4个动子极的情况下，在动子极之间提供90度的相差。在图2示出的实施例中可以看到这种90度的相差在动子的图示位置处，动子极相对于定子极处于180、0、90以及270度(或依赖于限定，为180、0、270以及90度)的相位关系。可以设置其他动子极节距，例如以便提供0、180、90以及270度的相位关系。在这些示例中，实现下面的关系动子的左边极对的节距被设置为定子极的节距的N+1/2(N是整数0、1、2...)倍，动子的右边极对的节距同样设置成定子极的节距的N+1/2 (N是整数0、1、2...)倍，动子的左边极对的节距相对于右边极对设置成定子极的节距的N+1/4倍或N+3/4(N是整数0、1、2...)倍。在本文中，定子极的节距可以称为第一节距，动子极的节距可以称为第二节距。术语“极的节距”被理解为两个相邻极的中心之间的距离(或两个相邻极的对应左边缘之间的距离，或两个相邻极的对应右边缘之间的距离，等等)。此外，如图2所示，在本示例中，动子极的节距是成对的恒定的左边极对的节距与右边极对的节距相等。左边一对和右边一对的节距设置成提供相对于定子极图案的180度的相互相差，同时在左边一对和右边一对之间提供90度(或270度)的相移。在图2示出的实施例中，动子包括永磁体和绕组，使得需要最小数量的永磁体(I)和最小数量的绕组(4)。定子极之间的间隔可以填充非磁性材料，以便获得平的表面，动子例如通过使用空气轴承在这种平的表面上移动。非磁性材料可以是瓷漆。为了驱动绕组，可以设置驱动布置以整流线圈作为动子相对于定子的位置的函数。可以设置位置传感器以测量动子的位置，驱动布置由此布置成响应来自位置传感器的测量的位置而驱动绕组。可以应用绕组的阻塞信号类型的整流。当驱动布置整流具有基本上正弦形状的电流的线圈时，获得低的力波动和低的振动。
图3示出与图2中类似的实施例，然而定子的每个极和动子的每个极被双重开槽。这意味着每个极(例如如图2所示的每个极)被分成两个较小极。在图4中示出类似的、三倍开槽的布置，其中定子的每个极和动子的每个极被三倍开槽。因此，每个极被分成三个较小极。由此，可以形成较高的d (phi)/dx或delta (phi)/delta (X),并因此形成较大的力，但是另一方面总的通量减小。图5中示出另一实施例，其与图3中的实施例类似，其中定子极和动子极设置有锥形边缘。结果，可以实现改进的磁通量“循环”，因而实现较高的力密度。要注意的是，虽然图5中示出在具有双重开槽的极的结构中的锥形边缘，但是锥形边缘可以同样设置在例如图2所示的具有单开槽的极的结构中，或设置在如图4所示的具有三倍开槽的极的结构中。图6示出还一实施例，其中动子极朝向移动平面形成锥形。要注意的是，定子极也可以是锥形。因为离开移动平面的磁场线密度可以稍微更密，因而稍微较宽的极允许承载这种较高的密度而不会饱和。这种锥形极因此允许实现较高的磁场，并因此实现高的力，并因此在使用适宜的材料的情况下实现优化的重量。要注意的是，图2-6中示出的定子图案是一维的。但是，可以设置沿移动平面延伸的二维图案，由此允许提供二维平面马达，如下面详细地介绍的。当使用单个动子时，例如如图2-6所示并描述的，当动子沿定子移动时可以出现力波动，力波动具有与定子和/或动子的节距相关的周期性。这种力波动可以被至少部分地补偿，如参照图7介绍的。图7示出平面马达的多个动子MV1、MV2、MV3和MV4的简单示意俯视图。动子MV1-MV4相互机械连接以便作为单个单元移动。动子MVl和MV2沿X方向相对于彼此位移，并构造成产生沿X方向的力。动子MV1-MV4可以相对于彼此水平地被约束。动子MV1-MV4可以被定子ST垂直地约束。每个动子MV1-MV4可以使用由定子ST提供轴承表面的空气轴承而被支撑。动子MV1-MV4可以每一个通过空气轴承单独地支撑，使得每个动子MV1-MV4可以优选与定子ST对准。动子M1-M4和定子ST之间的空气间隙以这种方式最小化，从而导致马达性能提高。在一个实施例中，动子M1-M4可以彼此用挠性铰链连接，该挠性铰链沿垂直方向是挠性的而沿水平方向是刚性的。动子MVl和MV2之间的偏移被设定成使得它们的力波动基本上是180度异相。由此，动子MVl和MV2之间的距离被设定成被每个动子的极数量分割定子节距加上偏移，以便使得动子的力波动基本上是180度异相，该偏移基本上等于由动子的极的数量分割定子节距的一半。当平面马达操作期间，动子的移动导致马达力的施加点改变，即在动子极之间改变，在马达的动子移动期间会发生扭矩波动。这种扭矩波动至少部分地被第二对动子MV，SP第三和第四动子MV3和MV4补偿。MV3和MV4分别相对于MVl和MV2沿y方向位移。此外，MV3相对于MVl沿X方向偏移，并且类似地，MV4相对于MV2沿x方向偏移。这种偏移被选择成以便使得动子MV3和MV4的扭矩波动相对于动子MVl和MV2的扭矩波动是基本上180异相。由此，MVl和MV3之间、MV2和MV4之间沿X方向(即，马达力的方向)的偏移分别设置成定子节距的一半。因此，使用4个相互连接的动子的象限，对于一个方向马达(在本示例中是X方向马达)可以至少部分地补偿力波动和扭矩波动。
参照图8描述允许沿X和y方向，即沿移动平面的两个方向推进的平面马达。图8示出平面马达的动子组件的简单示意俯视图。提供动子的四个象限Q1-Q4，每一个象限依次包括四个动子。象限Ql和Q4的动子对应参照图7描述的动子的象限，并允许产生沿X方向的力。象限Q2和Q3的动子也对应参照图7描述的象限的动子，但是在移动平面内转动90度，使得它们布置成提供沿y方向的力。因此，动子的四个象限的组合允许提供二维平面马达，具有如上所述的力波动和扭矩波动降低。复杂性较低的平面马达可以设置有4个动子，两个沿X方向，两个沿I方向，而不是每4个动子的四个象限。虽然本说明书详述了光刻设备在制造ICs中的应用，应该理解到，这里描述的光刻设备可以有制造具有微米尺度、甚至纳米尺度的特征的部件的其他应用，例如制造集成光学系统、磁畴存储器的引导和检测图案、平板显示器、液晶显示器(LCDs)、薄膜磁头等。本领域技术人员应该看到，在这种替代应用的情况中，可以将其中使用的任意术语“晶片”或“管芯”分别认为是与更上位的术语“衬底”或“目标部分”同义。这里所指的衬底可以在曝光之前或之后进行处理，例如在轨道(一种典型地将抗蚀剂层涂到衬底上，并且对已曝光的抗蚀剂进行显影的工具)、量测工具和/或检验工具中。在可应用的情况下，可以将这里公开内容应用于这种和其他衬底处理工具中。另外，所述衬底可以处理一次以上，例如为产生多层1C，使得这里使用的所述术语“衬底”也可以表示已经包含多个已处理层的衬底。虽然上面详述了本发明的实施例在光刻设备的应用，应该注意到，本发明可以有其它的应用，例如压印光刻，并且只要情况允许，不局限于光学光刻。在压印光刻中，图案形成装置中的拓扑限定了在衬底上产生的图案。可以将所述图案形成装置的拓扑印刷到提供给所述衬底的抗蚀剂层中，在其上通过施加电磁辐射、热、压力或其组合来使所述抗蚀剂固化。在所述抗蚀剂固化之后，所述图案形成装置从所述抗蚀剂上移走，并在抗蚀剂中留下图案。这里使用的术语“辐射”和“束”包含全部类型的电磁辐射，包括紫外辐射(UV)(例如具有或约为365、248、193、157或126nm的波长)和极紫外(EUV)辐射(例如具有在5-20nm范围内的波长)，以及粒子束，例如离子束或电子束。在允许的情况下术语“透镜”可以表示不同类型的光学构件中的任何一种或其组合，包括折射式的、反射式的、磁性的以及静电的光学构件。尽管以上已经描述了本发明的具体实施例，但应该认识到，本发明可以以与上述不同的方式来实现。例如，本发明可以采用包含用于描述一种如上面公开的方法的一个或更多个机器可读指令序列的计算机程序的形式，或具有存储其中的所述计算机程序的数据存储介质(例如半导体存储器、磁盘或光盘)的形式。
上述说明书是示例性的而非限制性的。因此，在不脱离权利要求的保护范围的情况下，对本发明进行修改对本领域技术人员是显而易见的。
权利要求
1.一种设置有平面马达的光刻设备，所述平面马达包括 定子，包括多个定子极，所述多个定子极以具有第一节距的重复布置方式布置，多个定子极面对移动平面的第一侧， 动子，包括多个动子极，所述多个动子极以具有第二节距的重复布置方式布置，多个动子极面对移动平面的相対的第二侧， 其中所述定子和动子中的至少ー个的极设置有绕组，以便响应于通过相应的绕组的电流改变定子极和动子极中相应的极内的磁场， 其中所述定子和动子中的至少ー个包括永磁体，用于产生从永磁体延伸经过定子和动子的至少ー个相应的极至定子和动子中的另ー个并返回的磁场， 其中第一节距和第二节距彼此不同，使得当动子的动子极中的一个与定子的定子极中的ー个对准时，动子的其他动子极与定子的定子极不对准。
2.如权利要求I所述的光刻设备，其中所述定子极和动子极朝向移动平面形成锥形。
3.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中所述定子极和动子极在其一侧设置有面对移动平面的锥形边缘。
4.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中所述定子极和动子极是至少双开槽的。
5.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中所述第一节距是恒定节距，且第二节距被设置成使得动子极以360度除以N的相差设置，其中N等于动子的动子极的数量。
6.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中所述动子包括至少三个动子扱。
7.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中所述动子包括四个动子扱。
8.如权利要求7所述光刻设备，其中所述第一节距是恒定节距，并且第二节距是成对恒定的。
9.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中所述动子包括永磁体和绕组。
10.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中所述定子极之间的间隔填充非磁导材料。
11.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，包括用以驱动线圈的驱动布置，其中所述驱动布置构造成整流线圈作为动子相对于定子的位置的函数。
12.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中所述定子极和动子极由铁磁材料或亚铁磁材料形成。
13.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中所述平面马达包括第一对动子，构造用于在基本上平行于移动平面的基本上相同的第一方向上产生力，第一对动子彼此机械连接并且第一对的动子在移动平面内在作为第一对的各个动子的位置函数的カ波动方面相对于彼此相位偏移基本上180度。
14.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备，其中所述平面马达包括布置在移动平面内的第一对动子和第二对动子，第一对和第二对的动子彼此机械地连接并且基本上以象限布置的方式沿移动平面定位，其中第一对的动子和第二对的动子就作为动子位置的函数的动子的马达カ作用点带来的扭矩波动方面来说、相对于彼此在第一方向上相位偏移大约180 度。
15.如前述权利要求中任一项所述的光刻设备,包括照射系统，配置成调节辐射束； 支撑结构，构造成支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够在辐射束的横截面上将图案赋予辐射束以形成图案化辐射束； 衬底台，构造成保持衬底；和 投影系统，配置成将图案化辐射束投影到衬底的目标部分上， 其中所述平面马达是支撑结构和衬底台中的ー个的驱动马达。
全文摘要
本发明公开了一种平面马达以及包括该平面马达的光刻设备。该平面马达包括定子，包括多个定子极，多个定子极以具有第一节距的重复布置的方式布置，多个定子极面对移动平面的第一侧；和动子，包括多个动子极，多个定子极以具有第二节距的重复布置的方式布置，多个动子极面对移动平面的相对的第二侧。定子和动子的至少一个的极设置有绕组以响应于通过相应绕组的电流改变定子极和动子极相应一个内的磁场。定子和动子的至少一个包括永磁体，用于产生从永磁体延伸经过定子和动子的至少一个相应的极至定子和动子的另一个并返回的磁场。第一和第二节距彼此不同，使得当动子的一个动子极与定子的一个定子极对准，动子的其他动子极与定子的定子极不对准。
文档编号H02K33/18GK102736439SQ20121008238
公开日2012年10月17日 申请日期2012年3月26日 优先权日2011年3月30日
发明者E·J·布斯, E·维基恩, S·A·J·霍尔 申请人:Asml荷兰有限公司