湿刻设备的制造方法
【专利摘要】本发明的实施例涉及湿刻设备。该湿刻设备包括刻蚀室以及位于所述刻蚀室的顶部上的干燥腔。通过在刻蚀室的顶部上增加干燥腔，当刻蚀液中的水分的水蒸汽进入干燥腔后被干燥，这样可以有效阻止水蒸汽在刻蚀室顶部遇冷凝结并滴落回到被刻蚀物上的刻蚀液中，从而提高刻蚀均匀性，并因此提高最终产品的良品率。
【专利说明】
湿刻设备
技术领域
[0001]本发明的实施例一般地涉及微机械加工领域，特别涉及湿刻设备。
【背景技术】
[0002]在作为微机械加工工艺中的一种的湿刻工艺中，为了提高刻蚀速率，有时需要将刻蚀液进行加热，例如加热到36?45°C。在这种情况下，如图1所示，在刻蚀室I中，从喷嘴2向被刻蚀物3喷洒的刻蚀液中的水分会蒸发成水蒸汽，然后在刻蚀室I的顶部遇冷凝结，以水滴4的形式再滴落回喷洒到被刻蚀物3上的刻蚀液中。这样就会使得刻蚀液在水滴滴注处被稀释，导致刻蚀不均匀，产生白点。例如，如果被刻蚀目标是金属，水滴4的滴落会导致金属残留等不良。
【发明内容】
[0003]本发明的实施例提供一种湿刻设备，可以有效阻止刻蚀液中的水分的水蒸汽在刻蚀室顶部遇冷凝结并滴落到被刻蚀物上的刻蚀液中，由此，可以提高被刻蚀物的刻蚀均匀性，并提尚最终广品的良品率。
[0004]根据本发明实施例，提供一种湿刻设备，其包括:
[0005]刻蚀室；以及
[0006]位于所述刻蚀室的顶部上的干燥腔。
[0007]本发明实施例通过在刻蚀室的顶部上增加干燥腔，当刻蚀液中的水分的水蒸汽进入干燥腔后被干燥，这样可以有效阻止水蒸汽在刻蚀室顶部遇冷凝结并滴落回到被刻蚀物上的刻蚀液中，从而提尚被刻蚀物的刻蚀均勾性，并因此提尚最终广品的良品率。
[0008]在一个示例性实施例中，在所述干燥腔的邻近所述刻蚀室的壁上设置有吸水层。通过在干燥腔的邻近所述刻蚀室的壁上设置吸水层，刻蚀液中的水分蒸发的水蒸汽通过该吸水层被吸附到干燥腔内部，从而阻止水蒸汽在刻蚀室顶部遇冷凝结并滴落回到被刻蚀物上的刻蚀液中。
[0009]在一个示例性实施例中，在所述干燥腔的远离所述刻蚀室的壁中设置有多个通气孔，所述通气孔用于向所述干燥腔中通入干燥气体。通过在干燥腔的远离刻蚀室的壁中设置用于向干燥腔中通入干燥气体的通气孔，进入干燥腔中的水蒸汽被通入的干燥气体所干燥或带走，从而可以阻止水蒸汽在刻蚀室顶部遇冷凝结并滴落回到被刻蚀物上的刻蚀液中。
[0010]在一个示例性实施例中，所述吸水层为多孔材料。刻蚀室中的水蒸汽进入到多孔材料的细孔中，从而被吸入干燥腔内，阻止水蒸汽在刻蚀室顶部遇冷凝结并滴落回到被刻蚀物上的刻蚀液中。
[0011]在一个示例性实施例中，所述吸水层的材料包括脱脂棉、硅胶、海绵中的至少一种。这些材料具有较强的吸水性，能够有效地吸附刻蚀室中的水蒸汽而将水蒸汽吸入干燥腔内。
[0012]在一个示例性实施例中，所述吸水层的厚度范围为5mm?15mm。具有这样厚度范围的吸水层既可以保持干燥腔密闭度，又可以使吸附的水蒸汽被及时干燥。
[0013]在一个示例性实施例中，所述吸水层的厚度范围为10±1mm。这样的厚度范围可以更好地保持干燥腔密闭度和水蒸汽干燥的及时性。
[0014]在一个示例性实施例中，所述吸水层被设置在所述干燥腔的底壁上。由于干燥腔的底壁是干燥腔的与刻蚀室直接接触的壁，刻蚀室中的水蒸汽能够被该底壁上的吸水层高效地吸入干燥腔。
[0015]在一个示例性实施例中，所述多个通气孔为圆形、多边形、椭圆形、不规则形状中的至少一种的孔的阵列。通气孔采用孔阵列的形式，可以使干燥气体的流通更均匀、顺畅、及时地对被吸入干燥腔的水蒸汽进行干燥。
[0016]在一个示例性实施例中，所述干燥气体为氮气。氮气的化学性质较稳定，能够在不影响湿刻的情况下及时有效地干燥进入干燥腔的水蒸汽。
[0017]由上述技术方案可知，本发明实施例通过在刻蚀腔顶部设置干燥腔，当刻蚀液中的水分的水蒸汽进入干燥腔后被干燥，这样可以有效阻止水蒸汽在刻蚀室顶部遇冷凝结并滴落回到被刻蚀物上的刻蚀液中，从而提高被刻蚀物的刻蚀均匀性，并因此提高最终产品的良品率。
【附图说明】
[0018]为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作一简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0019]图1是现有技术中的湿刻设备的示意图；
[0020]图2是根据本发明的示例性实施例的湿刻设备的示意图；以及
[0021]图3是示出图2中椭圆形虚线所圈出的干燥腔顶壁的局部的示意性仰视图。
【具体实施方式】
[0022]为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0023]此外，在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
[0024]根据本发明的示例性实施例，提供了一种湿刻设备，其包括:
[0025]刻蚀室；以及
[0026]位于所述刻蚀室的顶部上的干燥腔。
[0027]图2是根据本发明的示例性实施例的湿刻设备的示意图。如图2所示，湿刻设备包括刻蚀室I以及位于刻蚀室I的顶部上的干燥腔5。
[0028]根据本发明的实施例，在刻蚀室I的顶部上增加干燥腔5ο这样，当从喷嘴2向被刻蚀物3喷洒的刻蚀液经历了加热时，刻蚀液中的水分会蒸发成水蒸汽而沿图2中所示的箭头的方向向上移动并进入干燥腔5 ο在干燥腔5中，水蒸汽被干燥而不会凝结成水滴。这样，可以有效阻止水蒸汽在刻蚀室I顶部遇冷凝结并滴落回到被刻蚀物上的刻蚀液中，从而提高刻蚀均匀性，并因此提高最终产品的良品率。
[0029]在图2中，由点线绘制的小椭圆形代表未凝结成水滴的水蒸汽，其沿箭头方向从刻蚀室I进入干燥腔5。
[0030]在一个示例性实施例中，在干燥腔5的邻近刻蚀室I的壁上设置有吸水层6。
[0031]通过在干燥腔5的邻近刻蚀室I的壁上设置吸水层6，刻蚀液中的水分蒸发的水蒸汽通过该吸水层6而被吸附到干燥腔5内部，从而阻止水蒸汽在刻蚀室I顶部遇冷凝结并滴落回到被刻蚀物3上的刻蚀液中。
[0032]在图2所示的示例性实施例中，吸水层6被设置在干燥腔5的底壁上。由于干燥腔5的底壁是干燥腔5的与刻蚀室I直接接触的壁，刻蚀室I中的水蒸汽能够被该底壁上的吸水层6高效地吸入干燥腔5。然而，本发明不限于此，吸水层6还可以被设置在干燥腔5的侧壁的下部中。
[0033]对干燥腔5的各个壁的形状没有限制，只要其形成独立的腔即可。干燥腔5的各个壁可以为如图2所示的平面形状。然而，本发明不限于此。例如，干燥腔5的底壁的周边可以具有向下弯折的部分。
[0034]对吸水层6的材料没有限制，只要其具备吸水特性即可。例如，吸水层6可以为多孔材料。刻蚀室I中的水蒸汽进入到该多孔材料的细孔中，从而被吸入干燥腔5内，由此可以阻止水蒸汽在刻蚀室I顶部遇冷凝结并滴落回到被刻蚀物3上的刻蚀液中。
[0035]具体而言，吸水层6的材料可以包括脱脂棉、硅胶、海绵中的至少一种。这些材料具有较强的吸水性，能够有效地吸附刻蚀室I中的水蒸汽而将水蒸汽吸入干燥腔5内。
[0036]对吸水层6的厚度没有限制，只要其既可以保持干燥腔5的密闭度，又可以使吸附的水蒸汽被及时干燥即可O例如，吸水层6的厚度范围可以为5mm?15mm，优选地为1 土 1_。
[0037]在一个示例性实施例中，在干燥腔5的远离刻蚀室I的壁中设置有多个通气孔7(参见图3)，通气孔7用于向干燥腔5中通入干燥气体。
[0038]通过在干燥腔5的远离刻蚀室I的壁中设置用于向干燥腔5中通入干燥气体的通气孔7，进入干燥腔5中的水蒸汽被通入的干燥气体所干燥或带走，从而可以阻止水蒸汽在刻蚀室I顶部遇冷凝结并滴落回到被刻蚀物3上的刻蚀液中。
[0039]在一个示例性实施例中，所述多个通气孔7可以被设置在干燥腔5的顶壁上。然而，本发明不限于此，通气孔7还可以被设置在干燥腔5的侧壁的上部中。
[0040]图3是示出图2中椭圆形虚线所圈出的干燥腔5的顶壁的局部的示意性仰视图。如图3所示，在干燥腔5的顶壁上排布有多个通气孔7。
[0041]对通气孔7的形状没有具体限制。例如，通气孔7可以为图3所示的圆形。然而，本发明不限于此。所述多个通气孔7可以为圆形、多边形、椭圆形、不规则形状中的至少一种的孔的阵列。多个通气孔7采用孔阵列的形式，可以使干燥气体的流通更均匀、顺畅而及时地对被吸入干燥腔的水蒸汽进行干燥。
[0042]对通气孔7的排列方式没有具体限制。例如，通气孔7可以为图3所示的矩形阵列的方式排列。然而，本发明不限于此。所述多个通气孔7可以按圆形、多边形、椭圆形或甚至不规则的阵列的方式排列。
[0043]干燥气体可以为氮气。氮气的化学性质较稳定，能够在不影响湿刻的情况下及时有效地干燥进入干燥腔5的水蒸汽。然而，本发明不限于此。干燥气体可以为任何能够吸收或带走水蒸汽的气体。
[0044]如上所述，本发明实施例通过在刻蚀腔I的顶部上设置干燥腔5，可以在湿刻工艺中使刻蚀液中的水分的水蒸汽在干燥腔5中被干燥，有效阻止水蒸汽在刻蚀室顶部遇冷凝结并滴落回到被刻蚀物上的刻蚀液中，进而降低被刻蚀物3的刻蚀不均匀，提高最终产品的良品率。
[0045]本发明实施例的湿刻设备适用于任何需要使用湿刻工艺进行微加工的实际应用中。例如，可以在TFT-LCD的阵列湿刻工艺等中使用本发明实施例的湿刻设备，由此可以防止刻蚀液中的水分的水蒸汽在刻蚀室顶部凝结成水滴而滴落回到基板上的刻蚀液中，从而降低面板不良的发生率。
[0046]本发明的说明书中，说明了大量具体细节。然而，能够理解，本发明的实施例可以在没有这些具体细节的情况下实践。在一些实施例中，并未详细示出公知的方法、结构和技术，以便不模糊对本说明书的理解。
[0047]最后应说明的是:以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制;尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。
【主权项】
1.一种湿刻设备，其特征在于包括: 亥Ij蚀室；以及 位于所述刻蚀室的顶部上的干燥腔。2.根据权利要求1所述的湿刻设备，其特征在于，在所述干燥腔的邻近所述刻蚀室的壁上设置有吸水层。3.根据权利要求1或2所述的湿刻设备，其特征在于，在所述干燥腔的远离所述刻蚀室的壁中设置有多个通气孔，所述通气孔用于向所述干燥腔中通入干燥气体。4.根据权利要求2所述的湿刻设备，其特征在于，所述吸水层为多孔材料。5.根据权利要求4所述的湿刻设备，其特征在于，所述吸水层的材料包括脱脂棉、硅胶、海绵中的至少一种。6.根据权利要求2所述的湿刻设备，其特征在于，所述吸水层的厚度范围为5mm?15mm。7.根据权利要求6所述的湿刻设备，其特征在于，所述吸水层的厚度范围为10±lmm。8.根据权利要求2所述的湿刻设备，其特征在于，所述吸水层被设置在所述干燥腔的底壁上。9.根据权利要求3所述的湿刻设备，其特征在于，所述多个通气孔为圆形、多边形、椭圆形、不规则形状中的至少一种的孔的阵列。10.根据权利要求3所述的湿刻设备，其特征在于，所述干燥气体为氮气。
【文档编号】H01L21/67GK105895565SQ201610405309
【公开日】2016年8月24日
【申请日】2016年6月12日
【发明人】薛静, 宋玉冰, 李鑫, 朱红, 孙凤英
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方光电科技有限公司