电子设备的壳体及其制备方法与流程

文档序号:14685353发布日期:2018-06-12 23:27
电子设备的壳体及其制备方法与流程

本公开涉及壳体处理技术领域,尤其涉及一种电子设备的壳体及其制备方法。



背景技术:

氧化锆陶瓷是一种新型陶瓷材料,具备耐磨、耐腐蚀、高强度、高韧性、热稳定性好等诸多优良特性。与金属和塑料相比,氧化锆陶瓷具有莫氏硬度高、介电常数高、无信号屏蔽且生物相容性好的特点,在智能手机、可穿戴设备上具有广阔的应用前景,这使得氧化锆陶瓷以指纹识别盖板、手机后盖为起点,还将逐步切入移动终端产业链,成为继塑料和金属之后的第三大手机背板材料。

目前,用于电子设备的氧化锆陶瓷壳体的表面制造字符时,字符背面存在阴影,这严重影响了电子设备外壳的精致度。



技术实现要素:

本公开提供一种电子设备的壳体及其制备方法,能够解决壳体表面的字符存在阴影的问题。

根据本公开实施例的第一方面,提供一种电子设备的壳体的制备方法,包括:

提供半透明材质的基材,所述基材包括第一表面和与所述第一表面相对的第二表面,所述第一表面为电子设备的壳体的外表面;

在所述基材的第一表面制备形成斜入射光学膜,在所述基材的第二表面制备形成半透半反型光学膜;

在所述斜入射光学膜的表面制备形成字符层,得到电子设备的壳体。

可选地,所述半透明材质的基材为白色氧化锆陶瓷。

可选地,在所述基材的第一表面采用真空镀膜法沉积形成所述斜入射光学膜;在所述基材的第二表面采用真空镀膜法沉积形成所述半透半反型光学膜;在所述斜入射光学膜的表面采用真空镀膜法沉积形成所述字符层。

可选地,在所述基材的第二表面制备形成半透半反型光学膜之后,还包括:

在所述半透半反型光学膜的表面制备形成彩色或白色的油墨层。

可选地,所述半透半反型光学膜的透过率和反射率的比例为1/9~9/1。

可选地,所述半透半反型光学膜的厚度为0.1μm~5μm。

可选地,所述斜入射光学膜为多层膜结构,所述多层膜结构包括:

两层氧化钛膜层以及制备于所述两层氧化钛膜层之间的钛膜层;或

两层氧化镧膜层以及制备于所述两层氧化镧膜层之间的镧膜层。

可选地,所述半透半反型光学膜的材料为氧化硅、氧化钛、氮化硅、锆酸镧以及氧化铌中的任意一种。

根据本公开实施例的第二方面,提供一种电子设备的壳体,包括:

半透明材质的基材,所述基材包括第一表面和与所述第一表面相对的第二表面,所述第一表面为电子设备的壳体的外表面;

斜入射光学膜,制备于所述基材的第一表面;

字符层,制备于所述斜入射光学膜的表面;

半透半反型光学膜,制备于所述基材的第二表面。

可选地,还包括油墨层,制备于所述半透半反型光学膜的表面。

可选地,所述半透明材质的基材为白色氧化锆陶瓷。

可选地,所述半透半反型光学膜的透过率和反射率的比例为1/9~9/1。

可选地,所述半透半反型光学膜的厚度为0.1μm~5μm。

可选地,所述斜入射光学膜为多层膜结构,所述多层膜结构包括:

两层氧化钛膜层以及制备于所述两层氧化钛膜层之间的钛膜层;或

两层氧化镧膜层以及制备于所述两层氧化镧膜层之间的镧膜层。

可选地,所述半透半反型光学膜的材料为氧化硅、氧化钛、氮化硅、锆酸镧以及氧化铌中的任意一种。

本公开的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果:

由上述实施例可知,本公开将斜入射光学膜与半透半反型光学膜配合使用,半透半反型光学膜可以改变壳体表面的反射和透射特性,起到虚化背景的作用,斜入射光学膜可以使用户在斜入射视角下观看字符与在垂直入射视角下观看字符达到同样的视觉效果,进而扩大用户能够清晰观看字符的视角范围,因此将斜入射光学膜与半透半反型光学膜配合使用,可以解决壳体表面的字符存在阴影的问题,以提高电子设备的外观质感。

应当理解的是,以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的,并不能限制本公开。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分,示出了符合本公开的实施例,并与说明书一起用于解释本公开的原理。

图1是根据一示例性实施例示出的一种电子设备的壳体的制备方法的流程图。

图2是根据一示例性实施例示出的一种电子设备的壳体的光学曲线图。

图3是根据一示例性实施例示出的一种电子设备的壳体的结构示意图。

图4是根据一示例性实施例示出的另一种电子设备的壳体的结构示意图。

具体实施方式

这里将详细地对示例性实施例进行说明,其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时,除非另有表示,不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本公开相一致的所有实施方式。相反,它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本公开的一些方面相一致的装置和方法的例子。

本公开提供一种电子设备的壳体及其制备方法,能够解决壳体表面的字符存在阴影的问题。下面结合附图,对本公开的电子设备的壳体及其制备方法进行详细介绍。在不冲突的情况下,下述的实施例及实施方式中的特征可以相互组合。

参见图1所示,本公开实施例提供一种电子设备的壳体的制备方法,包括:

步骤S11:提供半透明材质的基材,所述基材包括第一表面和与所述第一表面相对的第二表面,所述第一表面为电子设备的壳体的外表面。可选地,所述半透明材质的基材为白色氧化锆陶瓷。需要说明的是,本公开中所述的电子设备可以是移动设备(例如手机)、可穿戴式设备或是其他电子设备。以电子设备为手机为例,则所述基材的第一表面作为手机的外表面,所述基材的第二表面作为手机的内表面。

步骤S12:在所述基材的第一表面制备形成斜入射光学膜,在所述基材的第二表面制备形成半透半反型光学膜。

步骤S13:在所述斜入射光学膜的表面制备形成字符层,得到电子设备的壳体。可选地,所述字符层可以是银色、金色或是其他颜色的logo字符或是其它需要展示的字符。

由上述实施例可知,本公开将斜入射光学膜与半透半反型光学膜配合使用,半透半反型光学膜可以改变壳体表面的反射和透射特性,起到虚化背景的作用,斜入射光学膜可以使用户在斜入射视角下观看字符与在垂直入射视角下观看字符达到同样的视觉效果,进而扩大用户能够清晰观看壳体表面字符的视角范围,因此将斜入射光学膜与半透半反型光学膜配合使用,可以解决壳体表面的字符存在阴影的问题,以提高电子设备的外观质感和提高用户的使用体验。

在一可选的实施方式中,在所述基材的第一表面可以采用真空镀膜法沉积形成所述斜入射光学膜,在所述基材的第二表面可以采用真空镀膜法沉积形成所述半透半反型光学膜,在所述斜入射光学膜的表面可以采用真空镀膜法沉积形成所述字符层。

其中,真空镀膜法即为PVD(Physical Vapor Deposition,物理气相沉积),是指在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。真空镀膜法具有优良的环境耐候性能、环保无毒、材料适应范围广等优点。真空镀膜法可以包括电子束蒸发镀、反应磁控溅射镀、热丝蒸发镀以及离子镀中的任意一种。需要说明的是,上述的电子束蒸发镀、反应磁控溅射镀、热丝蒸发镀以及离子镀均属于本领域的常规技术手段,故在此不再赘述。

在一可选的实施方式中,上述步骤S12中,在所述基材的第二表面制备形成半透半反型光学膜之后,可以进一步在所述半透半反型光学膜的表面制备形成彩色或白色的油墨层。可选地,所述油墨层可以采用油漆或油墨,并且可以通过喷涂或印刷的方式制备形成。油墨层可以起到保护所述半透半反型光学膜的作用,也可以作为壳体的背景色,增加壳体的表面颜色表现力。例如,油墨层为红色油墨层,可以使壳体呈现红色的颜色效果。油墨层为绿色油墨层,可以使壳体呈现绿色的颜色效果。油墨层为白色油墨层,可以使壳体呈现氧化锆陶瓷本身所具有的白色的颜色效果。

在一可选的实施方式中,上述步骤S12中,在所述基材的第二表面制备形成半透半反型光学膜之前,可以采用光度计在所述基材的第一表面预先测试得到反射光学曲线,再根据该反射光学曲线计算得到半透半反型光学膜合适的膜层参数,然后再根据计算得到的膜层参数在所述基材的第二表面制备形成所述半透半反型光学膜。这样,可以有效消除白色氧化锆陶瓷的灰相,进而达到提高壳体明度的效果。

其中,所述半透半反型光学膜的膜层参数包括膜层种类、膜层厚度以及膜层材料中的至少一种。在本实施例中,所述半透半反型光学膜的透过率(T%)和反射率(R%)的比例T%:R%为1/9~9/1。所述半透半反型光学膜的厚度为0.1μm~5μm。所述半透半反型光学膜的材料可以采用氧化硅、氧化钛、氮化硅、锆酸镧以及氧化铌中的任意一种。根据不同加工要求的颜色需要,可以对半透半反型光学膜的厚度和半透半反型光学膜的材料进行调整,以达到不同的颜色设计需要。

参见图2所示,以半透明材质的基材为白色氧化锆陶瓷为例,为消除白色氧化锆陶瓷的灰相,则需提高半透半反型光学膜的反射率以降低灰度,进而达到提高明度的效果,故设计的半透半反型光学膜的光学曲线(如图2中A1曲线所示)要与氧化锆陶瓷的反射光学曲线(如图2中A2曲线所示)形状保持一致且具有一定的反射率,这样最后成品的氧化锆陶瓷产品的反射光学曲线(如图2中A3曲线所示)的反射率才会有所提高以降低灰度,进而达到提高壳体明度的效果。

在一可选的实施方式中,所述斜入射光学膜采用多层膜结构,例如,所述多层膜结构可以包括两层氧化钛膜层以及制备于所述两层氧化钛膜层之间的钛膜层(即相当于是TiO2/Ti/TiO2的夹心膜层结构),或所述多层膜结构可以包括两层氧化镧膜层以及制备于所述两层氧化镧膜层之间的镧膜层(即相当于是La2O3/La/La2O3的夹心膜层结构),采用这种“金属氧化物薄膜/金属薄膜/金属氧化物薄膜”的夹心膜层结构,可以进一步扩大用户能够清晰观看壳体表面字符的视角范围,以提高电子设备的外观质感和提高用户的使用体验。

参见图3所示,本公开实施例还提供一种电子设备的壳体100,包括:半透明材质的基材10、斜入射光学膜20、字符层30以及半透半反型光学膜40。其中,所述基材10包括第一表面101和与第一表面101相对的第二表面102,所述第一表面101为电子设备的壳体100的外表面。所述斜入射光学膜20制备于所述基材10的第一表面101。所述半透半反型光学膜40制备于所述基材10的第二表面102。所述字符层30制备于所述斜入射光学膜20的表面。需要说明的是,本公开中所述的电子设备可以是移动设备(例如手机)、可穿戴式设备或是其他电子设备。以电子设备100为手机为例,则所述基材10的第一表面101作为手机的外表面,所述基材10的第二表面102作为手机的内表面。

由上述实施例可知,本公开将斜入射光学膜20与半透半反型光学膜40配合使用,半透半反型光学膜40可以改变壳体表面的反射和透射特性,起到虚化背景的作用,斜入射光学膜20可以使用户在斜入射视角下观看字符与在垂直入射视角下观看字符达到同样的视觉效果,进而扩大用户能够清晰观看字符的视角范围,因此将斜入射光学膜20与半透半反型光学膜40配合使用,可以解决壳体表面的字符存在阴影的问题,以提高电子设备100的外观质感。

参见图4所示,在一可选的实施方式中,本公开实施例的电子设备的壳体100,包括半透明材质的基材10、斜入射光学膜20、字符层30、半透半反型光学膜40、以及油墨层50。其中,所述基材10包括相对设置的第一表面101和第二表面102,所述第一表面101为电子设备的壳体100的外表面。所述斜入射光学膜20制备于所述基材10的第一表面101。所述半透半反型光学膜40制备于所述基材的第二表面102。所述字符层30制备于所述斜入射光学膜20的表面。所述油墨层50制备于所述半透半反型光学膜40的表面。

其中,所述油墨层50可以是彩色或白色的油墨层,所述油墨层50可以采用油漆或油墨,并且可以通过喷涂或印刷的方式制备形成。油墨层50可以起到保护所述半透半反型光学膜40的作用,也可以作为壳体的背景色,增加壳体的表面颜色表现力。例如,油墨层50为红色油墨层,可以使壳体呈现红色的颜色效果。油墨层50为绿色油墨层,可以使壳体呈现绿色的颜色效果。油墨层50为白色油墨层,可以使壳体呈现氧化锆陶瓷本身所具有的白色的颜色效果。

在一可选的实施方式中,所述半透半反型光学膜40的透过率(T%)和反射率(R%)的比例T%:R%为1/9~9/1。所述半透半反型光学膜40的厚度为0.1μm~5μm。所述半透半反型光学膜40的材料可以采用氧化硅、氧化钛、氮化硅、锆酸镧以及氧化铌中的任意一种。根据不同加工要求的颜色需要,可以对半透半反型光学膜的厚度和半透半反型光学膜的材料进行调整,以达到不同的颜色设计需要。

在一可选的实施方式中,所述斜入射光学膜20采用多层膜结构,例如,所述多层膜结构可以包括两层氧化钛膜层以及制备于所述两层氧化钛膜层之间的钛膜层(即相当于是TiO2/Ti/TiO2的夹心膜层结构),或所述多层膜结构可以包括两层氧化镧膜层以及制备于所述两层氧化镧膜层之间的镧膜层(即相当于是La2O3/La/La2O3的夹心膜层结构),采用这种“金属氧化物薄膜/金属薄膜/金属氧化物薄膜”的夹心膜层结构,可以进一步扩大用户能够清晰观看壳体表面字符的视角范围,以提高电子设备的外观质感和提高用户的使用体验。

本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的公开后,将容易想到本公开的其它实施方案。本公开旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化,这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的,本公开的真正范围和精神由下面的权利要求指出。

应当理解的是,本公开并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构,并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本公开的范围仅由所附的权利要求来限制。

再多了解一些
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