光场采集控制方法和装置、光场采集设备的制作方法

文档序号:7824063阅读:297来源:国知局
光场采集控制方法和装置、光场采集设备的制作方法
【专利摘要】本申请实施例公开了一种光场采集控制方法和装置以及一种光场采集设备,其中一种光场采集控制方法包括:获取光场相机的主透镜光圈参数;根据所述主透镜光圈参数确定所述光场相机的图像传感器中与所述光场相机的子透镜阵列中至少一子透镜对应的成像区域的局部为第一成像区域;调整所述图像传感器的像素密度分布,以使调整后所述第一成像区域的像素密度异于所述成像区域的其他部分;经调整后的所述光场相机对待摄场景进行光场采集。本申请实施例提高基于光场相机进行待摄场景的光场采集过程中图像传感器像素的利用率,进而提高光场图像的成像质量。
【专利说明】光场采集控制方法和装置、光场采集设备

【技术领域】
[0001] 本申请涉及光场采集【技术领域】,特别是涉及一种光场采集控制方法和装置以及一 种光场采集设备。

【背景技术】
[0002] 光场相机是一种利用子透镜阵列来记录和再现三维场景的成像技术,其通常是在 主透镜和如CCD等图像传感器之间放置一子透镜阵列,通过子透镜阵列将三维场景不同方 向的光场信息在子透镜阵列的焦平面上进行记录。
[0003]与传统相机的二维图像采集方式不同,光场相机通过单次曝光可以记录三维场景 的空间、视角等四维光场信息,支持"先拍摄后调焦"(即拍摄时不需要对焦),通过对拍摄 后的图像进行处理即可以生成丰富的图像效果,可满足例如数字重对焦、视角变化、深度图 像、三维重构、全对焦图像等一种或多种成像应用。
[0004]然而,光场相机虽然增加了单次曝光成像的上述灵活性,但是光场相机是通过损 失图像的空间分辨率来记录物体光线的视角方向信息,基于光场相机进行待摄场景的光场 采集过程中,所述光场相机的图像传感器用于进行光场采集的图像传感器像素有限,部分 图像传感器像素没有参与到光场采集中,图像传感器像素利用率较低,影响了光场图像的 成像质量。


【发明内容】

[0005]在下文中给出了关于本申请的简要概述,以便提供关于本申请的某些方面的基本 理解。应当理解,这个概述并不是关于本申请的穷举性概述。它并不是意图确定本申请的 关键或重要部分,也不是意图限定本申请的范围。其目的仅仅是以简化的形式给出某些概 念,以此作为稍后论述的更详细描述的前序。
[0006]本申请提供一种光场采集控制方法和装置以及一种图像采集设备。
[0007]-方面,本申请实施例提供了一种光场采集控制方法,包括:
[0008]获取光场相机的主透镜光圈参数;
[0009]根据所述主透镜光圈参数确定所述光场相机的图像传感器中与所述光场相机的 子透镜阵列中至少一子透镜对应的成像区域的局部为第一成像区域;
[0010] 调整所述图像传感器的像素密度分布,以使调整后所述第一成像区域的像素密度 异于所述成像区域的其他部分;
[0011] 经调整后的所述光场相机对待摄场景进行光场采集。
[0012] 结合本申请实施例一方面提供的任一种实现方式,可选的,获取所述主透镜光圈 参数之前,还包括:调整所述主透镜光圈参数。
[0013]结合本申请实施例一方面提供的任一种实现方式,可选的,调整所述主透镜光圈 参数包括:根据所述光场相机的子透镜光圈参数确定主透镜光圈参数调整范围;根据所述 主透镜光圈参数调整范围调整所述主透镜光圈参数。
[0014] 结合本申请实施例一方面提供的任一种实现方式,可选的,确定所述第一成像区 域,包括:获取所述主透镜和所述子透镜阵列之间的第一距离以及所述子透镜阵列与所述 图像传感器之间的第二距离;根据所述主透镜光圈参数、所述第一距离和所述第二距离,确 定成像区域弥散圆信息;确定所述至少一子透镜对应的成像区域中与所述成像区域弥散圆 信息对应的局部为所述第一成像区域。
[0015] 结合本申请实施例一方面提供的任一种实现方式,可选的,所述光场采集控制方 法还包括:根据所述主透镜光圈参数确定所述光场相机的重对焦能力范围。
[0016] 结合本申请实施例一方面提供的光场采集控制方法的任一种实现方式,可选的, 获取所述重对焦能力范围之后,还包括:获取所述待摄场景的预览图像的像素点在深度方 向的分布信息;显示所述分布信息与所述重对焦能力范围的对应关系。
[0017] 结合本申请实施例一方面提供的任一种实现方式,可选的,获取所述重对焦能力 范围之后,还包括:获取所述待摄场景的期望对焦深度范围信息;根据所述重对焦能力信 息和所述期望对焦深度范围信息对所述光场相机进行对焦处理。
[0018] 结合本申请实施例一方面提供的任一种实现方式,可选的,获取所述期望对焦深 度范围信息,包括:经所述预览图像获取至少二个不同深度的期望对焦点;根据所述至少 二个不同深度的期望对焦点确定所述期望对焦深度范围信息。
[0019] 另一方面,本申请实施例还提供了一种光场采集控制装置,包括:
[0020] 一主透镜光圈参数获取模块,用于获取光场相机的主透镜光圈参数;
[0021] 一第一成像区域确定模块,用于根据所述主透镜光圈参数确定所述光场相机的图 像传感器中与所述光场相机的子透镜阵列中至少一子透镜对应的成像区域的局部为第一 成像区域;
[0022] 一像素密度分布调整模块,用于调整所述图像传感器的像素密度分布,以使调整 后所述第一成像区域的像素密度异于所述成像区域的其他部分;
[0023] 一光场采集控制模块,用于经调整后的所述光场相机对待摄场景进行光场采集。
[0024] 结合本申请实施例另一方面提供的光场采集控制装置的任一种实现方式,可选 的,所述光场采集控制装置还包括:一主透镜光圈参数调整模块,用于调整所述主透镜光圈 参数。
[0025] 结合本申请实施例另一方面提供的光场采集控制装置的任一种实现方式,可选 的,所述主透镜光圈参数调整模块包括:一调整范围确定子模块,用于根据所述光场相机的 子透镜光圈参数确定主透镜光圈参数调整范围;一主透镜光圈参数调整子模块,用于根据 所述主透镜光圈参数调整范围调整所述主透镜光圈参数。
[0026] 结合本申请实施例另一方面提供的光场采集控制装置的任一种实现方式,可选 的,所述第一成像区域确定模块包括:一距离获取子模块,用于获取所述主透镜和所述子透 镜阵列之间的第一距离以及所述子透镜阵列与所述图像传感器之间的第二距离;一弥散圆 信息确定子模块,用于根据所述主透镜光圈参数、所述第一距离和所述第二距离,确定成像 区域弥散圆信息;一第一成像区域确定子模块,用于确定所述至少一子透镜对应的成像区 域中与所述成像区域弥散圆信息对应的局部为所述第一成像区域。
[0027] 结合本申请实施例另一方面提供的光场采集控制装置的任一种实现方式,可选 的,所述光场采集控制装置还包括:一重对焦能力范围确定模块,用于根据所述主透镜光圈 参数确定所述光场相机的重对焦能力范围。
[0028] 结合本申请实施例另一方面提供的光场采集控制装置的任一种实现方式,可选 的,所述光场采集控制装置还包括:一深度分布信息确定模块,用于获取所述待摄场景的预 览图像的像素点在深度方向的分布信息;一对应关系显示控制模块,用于显示所述分布信 息与所述重对焦能力范围的对应关系。
[0029] 结合本申请实施例另一方面提供的光场采集控制装置的任一种实现方式,可选 的,所述光场采集控制装置还包括:一期望对焦信息获取模块,用于获取所述待摄场景的期 望对焦深度范围信息;一调焦处理模块,用于根据所述重对焦能力信息和所述期望对焦深 度范围信息对所述光场相机进行对焦处理。
[0030] 结合本申请实施例另一方面提供的光场采集控制装置的任一种实现方式,可选 的,所述期望对焦信息获取模块包括:一期望对焦点获取子模块,用于经所述预览图像获取 至少二个不同深度的期望对焦点;一期望对焦信息获取子模块,用于根据所述至少二个不 同深度的期望对焦点确定所述期望对焦深度范围信息。
[0031] 又一方面,本申请实施例还提供了一种光场米集设备,包括一光场相机和一上述 任一所述的光场采集控制装置,所述光场采集控制装置与所述光场相机连接。
[0032] 本申请实施例提供的技术方案根据光场相机的主透镜光圈参数确定所述光场相 机的图像传感器中与所述光场相机的子透镜阵列中至少一子透镜对应的成像区域的局部 为第一成像区域,调整所述图像传感器的像素密度分布,以使调整后所述第一成像区域的 像素密度异于所述成像区域的其他部分,并经调整后的所述光场相机对待摄场景进行光场 采集,使得与所述主透镜光圈参数对应的有效成像区域的图像传感器像素密度更高,由此 提高基于光场相机进行待摄场景的光场采集过程中图像传感器像素的利用率,进而提高光 场图像的成像质量。
[0033] 通过以下结合附图对本申请的可选实施例的详细说明,本申请的这些以及其它的 优点将更加明显。

【专利附图】

【附图说明】
[0034] 本申请可以通过参考下文中结合附图所给出的描述而得到更好的理解,其中在所 有附图中使用了相同或相似的附图标记来表示相同或者相似的部件。所述附图连同下面的 详细说明一起包含在本说明书中并且形成本说明书的一部分,而且用来进一步举例说明本 申请的可选实施例和解释本申请的原理和优点。在附图中:
[0035] 图1为本申请实施例提供的一种光场采集控制方法的流程图;
[0036] 图2a为本申请实施例提供的主透镜光圈参数、子透镜光圈参数、成像弥散圆对应 关系的可选示例一;
[0037] 图2b为本申请实施例提供的主透镜光圈参数、子透镜光圈参数、成像弥散圆对应 关系的可选示例二;
[0038] 图2c为本申请实施例提供的主透镜光圈参数、子透镜光圈参数、成像弥散圆对应 关系的可选示例三;
[0039] 图3为本申请实施例提供的一种光场采集的可选光路示例;
[0040] 图4为本申请实施例提供的另一种光场米集的可选光路不例;
[0041] 图5为本申请实施例提供的一种光场采集控制装置的逻辑框图;
[0042] 图6为本申请实施例提供的另一种光场采集控制装置的逻辑框图;
[0043] 图7为本申请实施例提供的又一种光场采集控制装置的逻辑框图;
[0044]图8为本申请实施例提供的一种光场采集设备的逻辑框图。
[0045] 本领域技术人员应当理解,附图中的元件仅仅是为了简单和清楚起见而示出的, 而且不一定是按比例绘制的。例如,附图中某些元件的尺寸可能相对于其他元件放大了,以 便有助于提高对本申请实施例的理解。

【具体实施方式】
[0046] 在下文中将结合附图对本申请的示范性实施例进行详细描述。为了清楚和简明起 见,在说明书中并未描述实际实施方式的所有特征。然而,应该了解,在开发任何这种实际 实施例的过程中必须做出很多特定于实施方式的决定,以便实现开发人员的具体目标,例 如,符合与系统及业务相关的那些限制条件,并且这些限制条件可能会随着实施方式的不 同而有所改变。此外,还应该了解,虽然开发工作有可能是非常复杂和费时的,但对得益于 本公开内容的本领域技术人员来说,这种开发工作仅仅是例行的任务。
[0047] 在此,还需要说明的一点是,为了避免因不必要的细节而模糊了本申请,在附图和 说明中仅仅描述了与根据本申请的方案密切相关的装置结构和/或处理步骤,而省略了对 与本申请关系不大的、本领域普通技术人员已知的部件和处理的表示和描述。
[0048] 下面结合附图(若干附图中相同的标号表示相同的元素)和实施例,对本申请的

【具体实施方式】作进一步详细说明。以下实施例用于说明本申请,但不用来限制本申请的范 围。
[0049] 本领域技术人员可以理解,本申请中的"第一"、"第二"等术语仅用于区别不同步 骤、设备或模块等,既不代表任何特定技术含义,也不表示它们之间的必然逻辑顺序。
[0050] 图1为本申请实施例提供的一种光场采集控制方法的流程图。本申请实施例提供 的光场采集控制方法的执行主体可为某一光场采集控制装置,所述光场采集控制装置可在 但不限于拍照、摄像、摄影、视频监控等应用过程中通过执行该光场采集控制方法进行静态 或动态的光场采集控制。所述光场采集控制装置的设备表现形式不受限制,例如所述光场 采集控制装置可为某一独立的部件,该部件与光场相机配合通信;或者,所述光场采集控制 装置可作为某一功能模块集成在一包括有光场相机的图像采集设备中,所述图像采集设备 可包括但不限于照相机、摄像机、手机等等,本申请实施例对此并不限制。具体如图1所示, 本申请实施例提供的一种光场采集控制方法包括:
[0051] S101 :获取光场相机的主透镜光圈参数。
[0052] 所述光场相机通常包括依次设置的主透镜、子透镜阵列和图像传感器,所述子透 镜阵列包括多个阵列分布的子透镜。待摄场景为三维场景。来自所述待摄场景不同物点的 不同方向光线经主透镜汇聚到所述子透镜阵列的至少一个子透镜上,经所述至少一个子透 镜对主透镜汇聚的光线进行分离,分离的光线通过图像传感器进行光线强弱、方向等信息 的记录,由此采集得到所述待摄场景多个视角方向的成像信息(即光场信息),采集到的光 场信息可表现为相互穿插排列的多幅视差图像,不妨称为光场图像。用于描述所述光场相 机的主透镜的光圈参数不妨称为主透镜光圈参数,主透镜光圈参数可包括但不限于主透镜 光圈大小、主透镜光圈半径等一种或多种参数。
[0053] S102:根据所述主透镜光圈参数确定所述光场相机的图像传感器中与所述光场相 机的子透镜阵列中至少一子透镜对应的成像区域的局部为第一成像区域。
[0054] 在所述光场相机中,所述子透镜阵列的子透镜分布与图像传感器的成像区域之间 可存在某种预先确定的对应关系,根据该对应关系可确定与至少一个子透镜对应的所述图 像传感器的成像区域,例如,所述子透镜阵列中,一子透镜对应一成像区域,每个成像区域 包括多个图像传感器像素。所述主透镜光圈不同,一子透镜对应成像区域中参与到光场采 集的区域不尽相同。实际应用中,可根据所述主透镜光圈参数确定一个子透镜或多个子透 镜中,各子透镜分别对应的有效成像区域的局部为第一成像区域。
[0055] S103 :调整所述图像传感器的像素密度分布,以使调整后所述第一成像区域的像 素密度异于所述成像区域的其他部分。
[0056] 本申请实施例中的图像传感器为像素密度可调的图像传感器。例如,所述像素密 度可调的图像传感器可包括柔性图像传感器,所述柔性图像传感器包括柔性衬底以及在所 述柔性衬底上形成的多个图像传感器像素,其中所述柔性衬底在满足一定条件时可以发生 伸缩、弯曲等变化来调整其像素密度分布。又例如,所述像素密度可调的图像传感器可包括 阵列分布的多个图像传感器像素和一可控变形材料部,所述可控变形材料部分别与多个所 述图像传感器像素连接;所述可控变形材料部在外场作用下可发生形变、并通过所述形变 相应调整多个所述图像传感器像素的密度分布;所述外场由所述光场采集控制装置控制。 其中,所述可控变形材料部即为通过改变作用其上的某外部作用因素(如外场)可使其发 生形变,在作用其上的外场撤销或改变时,所述可控变形材料部的形变可以恢复;所述可控 变形材料部至少由以下一种或多种可控变形材料制备而成:压电材料、电活性聚合物、光致 形变材料、磁致伸缩材料;根据所述可控变形材料部选用的可控变形材料不同,可确定于所 述可控变形材料的特性采用对应的外场进行控制,所述外场可包括但不限于电场、磁场、光 场等等。
[0057] 结合所述图像传感器像素密度分布可调的这一特性,本申请实施例对所述图像传 感器的像素密度分布进行调整,使得所述图像传感器与一个子透镜对应的一成像区域(或 者与多个子透镜对应的多个成像区域的每个成像区域)中,所述第一成像区域的像素密度 (在非均匀分布情形下,本申请实施例所述的像素密度通常指平均像素密度)异于该成像 区域的其他部分(不妨称为第二成像区域)。也就是说,与一子透镜对应的一成像区域包 括一第一成像区域和一第二成像区域,第一成像区域的平均像素密度异于或不同于所述第 二成像区域的像素密度。本申请实施例的所述"异于"即"不同于",包括"大于"或"小于", 也就是说:对于一个子透镜对应的一成像区域而言,确定的一第一成像区域可能为与一子 透镜对应一成像区域中参与到光场采集的有效部分,该情形下可通过调整图像传感器的像 素密度分布,使得所述第一成像区域的平均像素密度大于所述第二成像区域的平均像素密 度;或者,对于一个子透镜对应的一成像区域而言,确定的一第一成像区域可能为与一子透 镜对应一成像区域中没有参与到光场采集的其他部分成像区域,该情形下可通过调整图像 传感器的像素密度分布,使得所述第一成像区域的平均像素密度小于所述第二成像区域的 平均像素密度。
[0058] S104 :经调整后的所述光场相机对待摄场景进行光场采集。
[0059] 光圈会影响图像传感器实际进行光场采集的有效图像传感器像素的数量,例如, 在保持图像传感器的像素不变的情形下,减小光圈,图像传感器实际进行光场采集的有效 图像传感器像素的数量就会相应减小,即影响光场相机的图像传感器像素利用率。由于光 场相机传统结构的限制等原因,基于光场相机进行待摄场景的光场采集过程中,参与光场 采集的有效图像传感器像素有限。为了避免因光圈的调整进一步降低图像传感器像素的 利用率,本申请实施例提供的技术方案根据光场相机的主透镜光圈参数确定所述光场相机 的图像传感器中与所述光场相机的子透镜阵列中至少一子透镜对应的成像区域的局部为 第一成像区域,调整所述图像传感器的像素密度分布,以使调整后所述第一成像区域的像 素密度异于所述成像区域的其他部分,并经调整后的所述光场相机对待摄场景进行光场采 集,使得与所述主透镜光圈参数对应的有效成像区域的图像传感器像素密度更高,由此提 高基于光场相机进行待摄场景的光场采集过程中图像传感器像素的利用率,进而提高光场 图像的成像质量。
[0060] 本申请实施例提供的技术方案中,可选的,获取所述主透镜光圈参数之前,所述光 场采集控制方法还包括:调整所述主透镜光圈参数。由于光场相机的图像传感器像素利用 率相对传统的非光场相机低,为了避免因光圈调整如强光环境下减小光圈进行光场采集等 应用进一步减少参与光场采集的有效图像传感器像素,光场相机的光圈可设置为不可调的 一恒定光圈,基于该结构的光场相机进行光场采集的过程中,即便待摄场景的光照很强,用 户无法通过缩小光圈来减少进光量,而采过诸如增加灰度滤镜等其他方式降低环境光照, 由此浪费了有效的光照信息;此外,对支持不同光圈的镜头更换等技术就无法在光圈不可 调的光场相机中使用,一定程度上限制了光场相机的应用范围,给用户使用带来了不便。而 本申请实施例提供的技术方案,为权衡光场相机的有效图像传感器利用率和光圈可调等二 方面性能提供了解决方案,拓宽了光场相机的应用范围,提高用户使用的方便性。
[0061] 可选的,调整所述主透镜光圈参数包括:根据所述光场相机的子透镜光圈参数确 定主透镜光圈参数调整范围;根据所述主透镜光圈参数调整范围调整所述主透镜光圈参 数。用于描述所述光场相机的子透镜阵列中的一子透镜的光圈参数不妨称为子透镜光圈 参数,子透镜光圈参数可包括但不限于子透镜光圈大小、子透镜光圈半径等一种或多种参 数。本申请发明人在实践本申请实施例过程中发现,由于基于光场相机进行待摄场景的光 场采集应用,是通过图像传感器的多个图像传感器像素点记录所述待摄场景的某一物点的 光亮、视角等光场信息。为了降低在基于光场图像进行后期处理(如获取重对焦图像等)的 计算复杂度,在光场采集过程中要尽量避免或减小同一图像传感器像素点记录待摄场景的 不同物点的光场信息的概率,而待摄场景的光场信息在图像传感器的成像区域的成像大小 (通常采用弥散圆来表示)分别与主透镜光圈参数和子透镜光圈参数均存在一定的对应关 系。例如图2a-图2c所示的可选场景中,光场相机中图像传感器设置在子透镜阵列的焦平 面。调整主透镜光圈参数Nfm,使得调整后的主透镜光圈(NfJi与子透镜光圈Nf大小相等, 如图2a所示,该情形下图像传感器成像区域待摄物点的成像弥散圆较大,相邻成像弥散圆 间隔较小。继续调整主透镜光圈参数Nfm,使得调整后的主透镜光圈(NfJ2小于子透镜光 圈Nf,如图2b所示,该情形下图像传感器成像区域待摄物点的成像弥散圆减小,相邻成像 弥散圆间隔增加。继续调整主透镜光圈参数Nfm,使得调整后的主透镜光圈"4)3大于子透 镜光圈Nf,如图2c所示,该情形下图像传感器成像区域待摄物点的成像弥散圆增大,但相 邻成像弥散圆出现了至少局部重叠,重叠的弥散圆部分相当于同一图像传感器像素记录了 不同物点的光场信息。由此可见,本申请实施例可根据子透镜光圈参数确定主透镜光圈参 数调整范围,例如,所述主透镜光圈参数调整范围为(〇,Nf),采用该方案对主透镜的光圈进 行调整,有利于避免或减小因图像传感器像素密度调整可能导致同一图像传感器像素点记 录待摄场景的不同物点的光场信息的概率,进而降低在基于光场图像进行后期处理的计算 复杂度。
[0062] 可选的,在任一子透镜对应的一成像区域中确定一第一成像区域,包括:获取所述 主透镜和所述子透镜阵列之间的第一距离以及所述子透镜阵列与所述图像传感器之间的 第二距离;根据所述主透镜光圈参数、所述第一距离和所述第二距离,确定成像区域弥散圆 信息;确定所述至少一子透镜对应的成像区域中与所述成像区域弥散圆信息对应的局部为 所述第一成像区域。光场相机的一个可选光路如图3所示,图像传感器可位于子透镜阵列 的焦平面,子透镜阵列可位于主透镜的成像面,根据几何光学成像原理可知,主透镜光圈半 径和一成像区域的一成像弥散圆半径满足以下关系:

【权利要求】
1. 一种光场采集控制方法,其特征在于,包括: 获取光场相机的主透镜光圈参数; 根据所述主透镜光圈参数确定所述光场相机的图像传感器中与所述光场相机的子透 镜阵列中至少一子透镜对应的成像区域的局部为第一成像区域; 调整所述图像传感器的像素密度分布,以使调整后所述第一成像区域的像素密度异于 所述成像区域的其他部分; 经调整后的所述光场相机对待摄场景进行光场采集。
2. 根据权利要求1所述的方法,其特征在于,获取所述主透镜光圈参数之前,还包括: 调整所述主透镜光圈参数。
3. 根据权利要求2所述的方法,其特征在于,调整所述主透镜光圈参数包括: 根据所述光场相机的子透镜光圈参数确定主透镜光圈参数调整范围; 根据所述主透镜光圈参数调整范围调整所述主透镜光圈参数。
4. 根据权利要求1-3任一所述的方法,其特征在于,确定所述第一成像区域,包括: 获取所述主透镜和所述子透镜阵列之间的第一距离以及所述子透镜阵列与所述图像 传感器之间的第二距离; 根据所述主透镜光圈参数、所述第一距离和所述第二距离,确定成像区域弥散圆信 息; 确定所述至少一子透镜对应的成像区域中与所述成像区域弥散圆信息对应的局部为 所述第一成像区域。
5. 根据权利要求1-4任一所述的方法,其特征在于,还包括:根据所述主透镜光圈参数 确定所述光场相机的重对焦能力范围。
6. -种光场采集控制装置,其特征在于,包括: 一主透镜光圈参数获取模块,用于获取光场相机的主透镜光圈参数; 一第一成像区域确定模块,用于根据所述主透镜光圈参数确定所述光场相机的图像传 感器中与所述光场相机的子透镜阵列中至少一子透镜对应的成像区域的局部为第一成像 区域; 一像素密度分布调整模块,用于调整所述图像传感器的像素密度分布,以使调整后所 述第一成像区域的像素密度异于所述成像区域的其他部分; 一光场采集控制模块,用于经调整后的所述光场相机对待摄场景进行光场采集。
7. 根据权利要求6所述的装置,其特征在于,还包括: 一主透镜光圈参数调整模块,用于调整所述主透镜光圈参数。
8. 根据权利要求7所述的装置,其特征在于,所述主透镜光圈参数调整模块包括: 一调整范围确定子模块,用于根据所述光场相机的子透镜光圈参数确定主透镜光圈参 数调整范围; 一主透镜光圈参数调整子模块,用于根据所述主透镜光圈参数调整范围调整所述主透 镜光圈参数。
9. 根据权利要求6-8任一所述的装置,其特征在于,所述第一成像区域确定模块包括: 一距离获取子模块,用于获取所述主透镜和所述子透镜阵列之间的第一距离以及所述 子透镜阵列与所述图像传感器之间的第二距离; 一弥散圆信息确定子模块,用于根据所述主透镜光圈参数、所述第一距离和所述第二 距离,确定成像区域弥散圆信息; 一第一成像区域确定子模块,用于确定所述至少一子透镜对应的成像区域中与所述成 像区域弥散圆信息对应的局部为所述第一成像区域。
10. -种光场米集设备,其特征在于,包括一光场相机和一如权利要求6-9任一所述的 光场采集控制装置,所述光场采集控制装置与所述光场相机连接。
【文档编号】H04N5/225GK104506762SQ201410829721
【公开日】2015年4月8日 申请日期:2014年12月25日 优先权日:2014年12月25日
【发明者】杜琳 申请人:北京智谷睿拓技术服务有限公司
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