1.一种用于在相干光学发射机中使用的集成光学块，所述光学块包括：
分束器，其配置成接收输入光信号，将所述输入光信号分成第一输入光信号和第二输入光信号，输出所述第一输入光信号用于在光学发射机芯片中使用，并输出所述第二输入光信号用于用作本机振荡器信号；
偏振组合器，其配置成从光学发射机芯片接收第一调制光信号和第二调制光信号，并组合所述第一调制光信号和第二调制光信号以形成输出；以及
偏振旋转器，其配置成旋转所述第二调制光信号的偏振，使得它在组合之前实质上正交于所述第一调制光信号的偏振。
2.如权利要求1所述的集成光学块，其中所述分束器包括棱镜。
3.如权利要求2所述的集成光学块，其中所述第一输入光信号所穿过的所述棱镜的表面邻接所述偏振组合器的表面，以及其中所述第一输入光信号在输出到光学发射机芯片之前穿过所述偏振组合器。
4.如任一前述权利要求所述的集成光学块，其中所述偏振组合器配置成接收所述第一调制光信号并将所述第一调制光信号直接传递到信号输出。
5.如权利要求4所述的集成光学块，其中所述偏振旋转器邻接所述偏振组合器的表面，并配置成在进入到所述偏振组合器内之前旋转所述第二调制光信号的偏振。
6.如任一权利要求所述的集成光学块，其中所述第一调制光信号和第二调制光信号在空间上分离，以及其中所述偏振组合器配置成引导所述第二调制光信号以与所述第一调制光信号对准，用于组合。
7.一种用在相干光学接收机中的集成光学块，所述光学块包括：
偏振分裂器，其配置成接收调制光信号并将所述调制光信号分裂成具有第一偏振的调制光信号的第一分量和具有实质上正交于所述第一偏振的第二偏振的所述调制光信号的第二分量；以及
偏振旋转器，其用于将所述调制光信号的所述第二分量的偏振旋转实质上90度，其中所述偏振分裂器还配置成将所述调制光信号的所述第二分量引导到所述偏振旋转器。
8.如任一权利要求所述的集成光学块，还包括配置成测量来自所述光学平面的所述输入光信号的功率的至少一个监测器。
9.如权利要求8所述的集成光学块，其中所述至少一个监测器配置成测量在所述光学平面之外的一个或多个调制光信号的功率。
10.如权利要求8或9所述的集成光学块，其中所述监测器包括配置成使待监测的光信号的一部分偏转到检测器的介质层。
11.如权利要求10所述的集成光学块，其中所述监测器包括PIN二极管。
12.如权利要求8到11中的任一项所述的集成光学块，其中所述监测器还包括配置成将待监测的光信号聚焦到所述监测器上的微透镜。
13.如任一前述权利要求所述的集成光学块，还包括配置成基于至少一个光功率测量来使光信号中的功率衰减的可变光学衰减器。
14.如权利要求13所述的集成光学块，当从属于权利要求8到12中的任一项时，其中所述至少一个光功率测量由所述至少一个监测器提供。
15.如权利要求13或14所述的集成光学块，其中所述可变光学衰减器包括配置成传递入射在所述介质层上的光信号的一部分并反射所述光信号的剩余部分的介质区。
16.如权利要求15所述的集成光学块，其中所述介质区包括在两个光学透射部件之间的间隙。
17.如权利要求16所述的集成光学块，其中所述间隙包括真空、空气和介质材料其中之一。
18.如权利要求15到17中的任一项所述的集成光学块，其中所述可变光学衰减器包括由所述介质区分离的第一棱镜和第二棱镜。
19.如权利要求15到18中的任一项所述的集成光学块，其中所述可变光学衰减器包括配置成改变所述界面以改变穿过的所述光信号的所述部分的控制机构。
20.如权利要求19所述的集成光学块，其中所述控制机构的至少部分连接到所述可变光学衰减器的表面，使得其偏转改变所述界面，以及其中所述控制机构包括热控双金属条和压电元件之一。
21.如权利要求13到20中的任一项所述的集成光学块，其中所述可变光学衰减器配置成作为光学快门来操作。
22.如任一前述权利要求所述的集成光学块，还包括配置成改变通过所述光学块传播的一个或多个光信号的方向用于减轻所述光学块的一个或多个元件的未对准的对准微调器。
23.如权利要求22所述的集成光学块，其中所述对准微调器包括配置成反射具有第一偏振的光并使具有与所述第一偏振正交的第二偏振的光通过的介质层，且还包括至少一个偏振旋转镜，其配置成反射光信号使得所反射的光信号具有旋转了实质上90度的其偏振，并布置成从介质层接收述反射光信号并改变所述反射光信号的角度。
24.如权利要求23所述的集成光学块，其中所述对准微调器还包括由所述介质层分离的第一棱镜和第二棱镜。
25.如权利要求23或24所述的集成光学块，其中所述对准微调器还包括在所述对准微调器的相对表面上的第一偏转旋转镜和第二偏振旋转镜，
其中所述第一偏振旋转镜配置成接收进入所述对准微调器并从所述介质层反射的具有第一偏振的第一光信号并反射所述第一光信号以产生具有实质上正交于所述第一偏振的第二偏振的第二光信号，使得所述第二光信号可穿过所述介质层，
以及其中所述第二偏振旋转镜配置成接收所述第二光信号并反射所述第二光信号以产生具有所述第一偏振的第三光信号，使得所述第三光信号由所述介质层反射并离开所述对准微调器，
以及其中所述第一偏振旋转镜和第二偏振旋转镜中的一个或两个被对准，使得所述第三光信号以与所述第一光信号进入所述对准微调器时的角度不同的角度离开所述对准微调器。
26.如权利要求23到25中的任一项所述的集成光学块，其中所述至少一个偏振旋转镜通过粘合剂保持在适当的位置上，并可在所述粘合剂固化之前被设置到期望对准。
27.如权利要求23到26中的任一项所述的集成光学块，其中所述至少一个偏振旋转镜包括弯曲反射表面。
28.如权利要求23到27中的任一项所述的集成光学块，其中所述对准微调器还包括在所述至少一个偏振旋转镜和对准微调器的相应表面之间的光学透射块。
29.如权利要求22所述的集成光学块，其中所述对准微调器包括：透射光学元件，其包括第一内部小面和第二内部小面；以及至少一个镜，其中所述对准微调器配置成从所述第一内部小面、从所述至少一个镜和所述第二内部小面反射所接收的光信号以在由所述镜的对准确定的角度下从所述对准微调器输出。
30.如任一前述权利要求所述的集成光学块，还包括配置成控制在从所述光学块输出和输入到所述光学块的光信号之间的间距的间距转换器，所述间距转换器包括：
透射光学元件，其包括布置成相对于所接收的光信号的方向成一角度的相对的实质上平行的表面，其中所述相对的表面配置成使得所接收的光信号从每个所述相对的表面反射并实质上平行于所接收的光信号的方向和从所接收的光信号的方向偏移而从所述间距转换器输出。
31.如权利要求30所述的集成光学块，包括布置成提供多个输出和/或输入并具有实质上250微米的共同间距的多个间距调节器。
32.一种包括根据权利要求1到31中的任一项的一个或多个集成光学块的光学部件。
33.一种包括根据权利要求1到31的一个或多个集成光学块的相干光学发射机和/或接收机设备。
34.如权利要求33所述的相干光学发射机和/或接收机，包括一个或多个光学芯片，其中所述一个或多个集成光学块布置成将光信号发射到所述一个或多个光学芯片并从所述一个或多个光学芯片接收光信号。
35.如权利要求34所述的相干光学发射机和/或接收机，其中所述一个或多个光学芯片包括光学芯片，所述光学芯片包括多个光学发射机、多个光学接收机或至少一个光学发射机和至少一个光学接收机。
36.如权利要求34或35所述的相干光学发射机和/或接收机，还包括位于所述一个或多个集成光学块和所述一个或多个光学芯片之间的透镜的一个或多个阵列，其中在透镜的所述阵列中的多个透镜配置成聚焦在所述集成光学块和所述光学芯片之间穿过的光。
37.如权利要求33到36中的任一项所述的相干光学发射机和/或接收机，包括多个光学发射机芯片和/或光学接收机芯片，其中所述集成光学块布置成将光信号发射到所述多个光学发射机芯片和/或光学接收机芯片之一并从所述多个光学发射机芯片和/或光学接收机芯片之一接收光信号。
38.如权利要求37所述的相干光学发射机和/或接收机，包括布置成形成单个单片结构的多个集成光学块。
39.如权利要求34到38中的任一项所述的相干光学发射机和/或接收机，其中所述一个或多个光学块配置成从横贯进入和离开所述一个或多个光学芯片的光信号的方向的方向接收输入光信号。
40.如权利要求33到39所述的相干光学发射机和/或接收机，还包括配置成向所述一个或多个光学块提供输入光信号的一个或多个可调谐激光器。
41.一种用于监测光信号的功率的监测器，所述监测器包括：
介质层，其用于放置在待监测的光信号的光学平面中；以及
检测器，其配置成当所述介质层在待监测的光信号的所述光学平面中时在待监测的光信号的所述光学平面中之外，
其中所述介质层配置成将待监测的光信号的一部分偏转到所述检测器。
42.如权利要求41所述的监测器，还包括第一棱镜和第二棱镜，所述第一棱镜和第二棱镜布置成使得所述介质层分离所述第一棱镜的表面与所述第二棱镜的表面以形成界面。
43.如权利要求41或42所述的监测器，其中所述监测器包括PIN二极管。
44.一种用于控制光信号的衰减的可变光学衰减器，所述可变光学衰减器包括：
介质区，其配置成使入射在所述介质层上的光信号的一部分通过并反射所述光信号的剩余部分；以及
控制机构，其配置成改变所述界面以改变穿过的所述光信号的所述部分。
45.如权利要求44所述的可变光学衰减器，包括由所述介质区分离的第一棱镜和第二棱镜。
46.如权利要求45所述的可变光学衰减器，其中所述介质区包括在所述两个光学透射部件之间的间隙。
47.如权利要求46所述的可变光学衰减器，其中所述间隙包括真空、空气和介质材料之一。
48.如权利要求44到47中的任一项所述的可变光学衰减器，其中所述控制机构的至少部分连接到所述可变光学衰减器的表面，使得其偏转改变所述界面，以及其中所述控制机构包括热控双金属条和压电元件之一。
49.如权利要求44到48中的任一项所述的可变光学衰减器，其中所述可变光学衰减器配置成作为光学快门来操作。
50.一种用于改变一个或多个光信号的方向的对准微调器，所述对准微调器包括：
介质层，器配置成反射具有第一偏振的光并使具有与所述第一偏振正交的第二偏振的光通过；以及
至少一个偏振旋转镜，其配置成反射光信号使得所反射的光信号具有旋转了实质上90度的其偏振，其中所述至少一个偏振镜布置成从所述介质层接收所述反射光信号并改变所述反射光信号的角度。
51.如权利要求50所述的可变光学衰减器，还包括由所述介质层分离的第一棱镜和第二棱镜。
52.如权利要求51所述的对准微调器，包括在所述对准微调器的相对表面上的第一偏振旋转镜和第二偏振旋转镜，
其中所述第一偏振旋转镜配置成接收进入所述对准微调器并从所述介质层反射的具有第一偏振的第一光信号并反射所述第一光信号以产生具有实质上正交于所述第一偏振的第二偏振的第二光信号，使得所述第二光信号可穿过所述介质层，
以及其中所述第二偏振旋转镜配置成接收所述第二光信号并反射所述第二光信号以产生具有所述第一偏振的第三光信号，使得所述第三光信号由所述介质层反射并离开所述对准微调器，
以及其中所述第一偏振旋转镜和第二偏振旋转镜中的一个或两个被对准，使得所述第三光信号以与所述第一光信号进入所述对准微调器时的角度不同的角度离开所述对准微调器。
53.如权利要求50到52中的任一项所述的对准微调器，其中所述至少一个偏振旋转镜通过粘合剂保持在适当的位置上，并可在所述粘合剂固化之前被设置到期望对准。
54.如权利要求50到53中的任一项所述的对准微调器，其中所述至少一个偏振旋转镜包括凹或凸反射表面。
55.如权利要求50到54中的任一项所述的对准微调器，其中所述对准微调器还包括在所述至少一个偏振旋转镜和所述对准微调器的相应表面之间的光学透射块。
56.一种用于改变一个或多个光信号的方向的对准微调器，所述对准微调器包括：
透射光学元件，其包括第一内部小面和第二内部小面；以及
至少一个镜，其中所述对准微调器配置成从所述第一内部小面、从所述至少一个镜和所述第二内部小面反射所接收的光信号以在由所述镜的对准确定的角度下从所述对准微调器输出。
57.如权利要求56所述的对准微调器，其中所述至少一个偏振旋转镜通过粘合剂保持在适当的位置上，并可在所述粘合剂固化之前被设置到期望对准。
58.如权利要求56或57所述的对准微调器，其中所述至少一个偏振旋转镜包括弯曲反射表面。
59.如权利要求56到58中的任一项所述的对准微调器，其中所述对准微调器还包括在所述至少一个偏振旋转镜和所述对准微调器的相应表面之间的光学透射块。