层叠体的制作方法

技术特征：

1.层叠体，其具有高分子膜(A)和保护膜(B)，

所述高分子膜(A)包含重均分子量为5万～100万的有机压电材料，利用微波透射型分子取向计测定的将基准厚度设定为50μm时的标准化分子取向MORc为1.0～15.0，利用DSC法得到的结晶度为20％～80％，相对于可见光线的内部雾度为50％以下，

所述保护膜(B)与所述高分子膜(A)的一个主面接触且可剥离，

利用纳米压痕法对所述保护膜(B)的与所述高分子膜(A)接触的面侧进行测定时的最大压入深度hmax为53nm～100nm。

2.如权利要求1所述的层叠体，其中，所述最大压入深度hmax为53nm～60nm。

3.如权利要求1或2所述的层叠体，其中，所述保护膜(B)具有基材层、和被设置在所述基材层的与所述高分子膜(A)相对侧的主面上的粘合层，

所述最大压入深度hmax为对所述保护膜(B)的所述粘合层侧进行测定时的最大压入深度。

4.如权利要求3所述的层叠体，其中，所述粘合层的酸值为10mgKOH/g以下。

5.如权利要求3或4所述的层叠体，其中，所述基材层由聚烯烃系树脂或聚对苯二甲酸乙二醇酯系树脂形成，所述粘合层包含丙烯酸系粘合剂。

6.如权利要求1～5中任一项所述的层叠体，其中，所述高分子膜(A)与所述保护膜(B)的T型剥离强度为0.07N/50mm～1N/50mm。

7.如权利要求1～6中任一项所述的层叠体，其中，对于所述高分子膜(A)而言，相对于可见光线的内部雾度为40％以下，并且，25℃时利用应力-电荷法测得的压电常数d14为1pC/N以上。

8.如权利要求7所述的层叠体，其中，所述内部雾度为1％以下。

9.如权利要求1～8中任一项所述的层叠体，其中，对于所述高分子膜(A)而言，所述标准化分子取向MORc为3.5～15.0，所述标准化分子取向MORc与所述结晶度的乘积为70～700。

10.如权利要求1～9中任一项所述的层叠体，其中，所述有机压电材料为具有光学活性的螺旋手性高分子(X)。

11.如权利要求10所述的层叠体，其中，所述螺旋手性高分子(X)为具有包含下述式(1)表示的重复单元的主链的聚乳酸系高分子，

[化学式1]

12.如权利要求10或11所述的层叠体，其中，所述螺旋手性高分子(X)的光学纯度为95.00％ee以上。

13.如权利要求10～12中任一项所述的层叠体，其中，所述高分子膜(A)中的所述螺旋手性高分子(X)的含量为80质量％以上。

14.如权利要求10～13中任一项所述的层叠体，其中，相对于所述螺旋手性高分子(X)100质量份而言，所述高分子膜(A)包含0.01质量份～10质量份选自由稳定剂(Y1)和稳定剂(Y2)组成的组中的1种以上的稳定剂(Y)，所述稳定剂(Y1)具有选自由碳二亚胺基、环氧基、及异氰酸酯基组成的组中的1种以上的官能团且重均分子量为200～60000，所述稳定剂(Y2)具有亚氨基醚基。

15.如权利要求1～14中任一项所述的层叠体，其中，所述保护膜(B)的弹性模量与高分子膜(A)的弹性模量满足以下的关系式(F)：

保护膜(B)的弹性模量/高分子膜(A)的弹性模量≥0.1(式F)。