本发明涉及触摸屏防蓝光技术领域，具体是一种减少触摸屏蓝光溢出方法。
背景技术：
短波蓝光是波长处于400nm-480nm之间具有相对较高能量的光线。该波长内的蓝光会使眼睛内的黄斑区毒素量增高，严重威胁我们的眼底健康。蓝光诱发致盲眼病，现在人们日常会花费大量的时间使用手机电脑等，很多手机和电脑都没有进行防蓝光处理，沿着维护健康，所以为了从根源上杜绝蓝光影响，对手机电脑等触摸屏的制造从内部和外部解决蓝光问题，因此，需要一种少触摸屏蓝光溢出方法。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种减少触摸屏蓝光溢出方法，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种减少触摸屏蓝光溢出方法，触摸屏由底层材料、中层材料和表层材料通过粘合剂粘合而成，其中底层材料由树脂材料、助剂以及紫外吸收剂的原料混合而成；中层材料由玻璃材料、助剂、防蓝光原料混合而成；表层材料由树脂材料、助剂、疏水原料混合而成，其特征在于，包括以下步骤：
s1：制备底层材料、中层材料和表层材料，将底层材料、中层材料和表层材料中的原料混合搅拌均匀，随后抽真空除去气泡；将除气泡后的原料加热熔化，熔化浇注到玻璃磨具中进行固化，得到对应的材料；
s2：将步骤s1中得到的底层材料、中层材料和表层材料之间涂抹粘合剂，施加压力进行压合；
s3：对步骤s2中的得到的触摸屏基片进行清洗干燥；
s4：将步骤s3干燥后的基片置于无尘镀膜恒温烤箱中烘烤；
s5：将步骤s4中的基片浸入甲基硅树脂强化溶液中进行加硬处理，随后将基片取出并送至烘干箱中进行干燥固话；
s6：步骤s5中得到的基片进行退火处理；
s7：步骤s6中退火后的基片进行二次清洗，将基片置于真空镀膜舱内，用霍尔离子源对基片进行离子轰击，基片的镀膜包括内外表面的镀膜。
作为本发明进一步的方案：所述中层材料中的玻璃材料、助剂、防蓝光原料质量比为91-95:2-4:3-5，其中的防蓝光原料为纳米二氧化硅、纳米二氧化钛按照质量比5:2混合而成。
作为本发明进一步的方案：所述助剂为抗氧剂、防滴落剂、增塑剂、脱模剂、热稳定剂中的一种或多种。
作为本发明进一步的方案：所述底层材料中的树脂材料、助剂以及紫外吸收剂按照质量比为90-93:3-7:4-9，所述表层材料由树脂材料、助剂、疏水原料的质量比为92-95:1-4:3-7。
作为本发明进一步的方案：所述疏水原料为氯化锌和四氯化锡按照质量比3:5混合而成。
作为本发明进一步的方案：所述步骤s4中的恒温烤箱温度为70-85℃，烘烤时间为10-12h。
作为本发明进一步的方案：所述步骤s5中的加硬处理温度为120-130℃，加硬时间为3-5h，烘干温度为130-150℃，固化时间为1-2h。
作为本发明进一步的方案：所述步骤s7中霍尔离子源轰击时间为5-7min。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明中的触摸屏玻璃镜片底层材料、中层材料和表层材料通过粘合剂粘合而成，其中的底层材料、中层材料和表层材料分别具有防紫外线、防蓝光和防防水功能，此外，还对制造的触摸屏镜片进行镀膜处理，从内到外都有防蓝光的功效，效果极佳，且功能强大。
具体实施方式
下面对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例一：
一种减触摸屏蓝光溢出方法，触摸屏由底层材料、中层材料和表层材料通过粘合剂粘合而成，其中底层材料由树脂材料、助剂以及紫外吸收剂的原料混合而成；中层材料由玻璃材料、助剂、防蓝光原料混合而成；表层材料由树脂材料、助剂、疏水原料混合而成，其特征在于，包括以下步骤：
s1：制备底层材料、中层材料和表层材料，将底层材料、中层材料和表层材料中的原料混合搅拌均匀，随后抽真空除去气泡；将除气泡后的原料加热熔化，熔化浇注到玻璃磨具中进行固化，得到对应的材料；
s2：将步骤s1中得到的底层材料、中层材料和表层材料之间涂抹粘合剂，施加压力进行压合；
s3：对步骤s2中的得到的触摸屏基片进行清洗干燥；
s4：将步骤s3干燥后的基片置于无尘镀膜恒温烤箱中烘烤；
s5：将步骤s4中的基片浸入甲基硅树脂强化溶液中进行加硬处理，随后将基片取出并送至烘干箱中进行干燥固话；
s6：步骤s5中得到的基片进行退火处理；
s7：步骤s6中退火后的基片进行二次清洗，将基片置于真空镀膜舱内，用霍尔离子源对基片进行离子轰击，基片的镀膜包括内外表面的镀膜。
所述中层材料中的玻璃材料、助剂、防蓝光原料质量比为91:2:3，其中的防蓝光原料为纳米二氧化硅、纳米二氧化钛按照质量比5:2混合而成，所述助剂为抗氧剂、防滴落剂、增塑剂、脱模剂、热稳定剂中的一种或多种，所述底层材料中的树脂材料、助剂以及紫外吸收剂按照质量比为90:3:4，所述表层材料由树脂材料、助剂、疏水原料的质量比为92:1:3，所述疏水原料为氯化锌和四氯化锡按照质量比3:5混合而成。
所述步骤s4中的恒温烤箱温度为70℃，烘烤时间为10h，所述步骤s5中的加硬处理温度为120℃，加硬时间为3h，烘干温度为130℃，固化时间为1h，所述步骤s7中霍尔离子源轰击时间为5min。
实施例二：
一种减触摸屏蓝光溢出方法，触摸屏由底层材料、中层材料和表层材料通过粘合剂粘合而成，其中底层材料由树脂材料、助剂以及紫外吸收剂的原料混合而成；中层材料由玻璃材料、助剂、防蓝光原料混合而成；表层材料由树脂材料、助剂、疏水原料混合而成，其特征在于，包括以下步骤：
s1：制备底层材料、中层材料和表层材料，将底层材料、中层材料和表层材料中的原料混合搅拌均匀，随后抽真空除去气泡；将除气泡后的原料加热熔化，熔化浇注到玻璃磨具中进行固化，得到对应的材料；
s2：将步骤s1中得到的底层材料、中层材料和表层材料之间涂抹粘合剂，施加压力进行压合；
s3：对步骤s2中的得到的触摸屏基片进行清洗干燥；
s4：将步骤s3干燥后的基片置于无尘镀膜恒温烤箱中烘烤；
s5：将步骤s4中的基片浸入甲基硅树脂强化溶液中进行加硬处理，随后将基片取出并送至烘干箱中进行干燥固话；
s6：步骤s5中得到的基片进行退火处理；
s7：步骤s6中退火后的基片进行二次清洗，将基片置于真空镀膜舱内，用霍尔离子源对基片进行离子轰击，基片的镀膜包括内外表面的镀膜。
所述中层材料中的玻璃材料、助剂、防蓝光原料质量比为95:4:5，其中的防蓝光原料为纳米二氧化硅、纳米二氧化钛按照质量比5:2混合而成，所述助剂为抗氧剂、防滴落剂、增塑剂、脱模剂、热稳定剂中的一种或多种，所述底层材料中的树脂材料、助剂以及紫外吸收剂按照质量比为93:7:9，所述表层材料由树脂材料、助剂、疏水原料的质量比为95:4:7，所述疏水原料为氯化锌和四氯化锡按照质量比3:5混合而成。
所述步骤s4中的恒温烤箱温度为85℃，烘烤时间为12h，所述步骤s5中的加硬处理温度为130℃，加硬时间为5h，烘干温度为150℃，固化时间为2h，所述步骤s7中霍尔离子源轰击时间为7min。
实施例三：
一种减触摸屏蓝光溢出方法，触摸屏由底层材料、中层材料和表层材料通过粘合剂粘合而成，其中底层材料由树脂材料、助剂以及紫外吸收剂的原料混合而成；中层材料由玻璃材料、助剂、防蓝光原料混合而成；表层材料由树脂材料、助剂、疏水原料混合而成，其特征在于，包括以下步骤：
s1：制备底层材料、中层材料和表层材料，将底层材料、中层材料和表层材料中的原料混合搅拌均匀，随后抽真空除去气泡；将除气泡后的原料加热熔化，熔化浇注到玻璃磨具中进行固化，得到对应的材料；
s2：将步骤s1中得到的底层材料、中层材料和表层材料之间涂抹粘合剂，施加压力进行压合；
s3：对步骤s2中的得到的触摸屏基片进行清洗干燥；
s4：将步骤s3干燥后的基片置于无尘镀膜恒温烤箱中烘烤；
s5：将步骤s4中的基片浸入甲基硅树脂强化溶液中进行加硬处理，随后将基片取出并送至烘干箱中进行干燥固话；
s6：步骤s5中得到的基片进行退火处理；
s7：步骤s6中退火后的基片进行二次清洗，将基片置于真空镀膜舱内，用霍尔离子源对基片进行离子轰击，基片的镀膜包括内外表面的镀膜。
所述中层材料中的玻璃材料、助剂、防蓝光原料质量比为93:3:4，其中的防蓝光原料为纳米二氧化硅、纳米二氧化钛按照质量比5:2混合而成，所述助剂为抗氧剂、防滴落剂、增塑剂、脱模剂、热稳定剂中的一种或多种，所述底层材料中的树脂材料、助剂以及紫外吸收剂按照质量比为92:5:7，所述表层材料由树脂材料、助剂、疏水原料的质量比为94:3:5，所述疏水原料为氯化锌和四氯化锡按照质量比3:5混合而成。
所述步骤s4中的恒温烤箱温度为80℃，烘烤时间为11h，所述步骤s5中的加硬处理温度为125℃，加硬时间为4h，烘干温度为140℃，固化时间为1.5h，所述步骤s7中霍尔离子源轰击时间为6min。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。