]I 一抗刮耐磨层、2 一上基材层、3 一光子晶体制冷层、4 一下基材层。
【具体实施方式】
[0033]下面结合附图和具体实施例对本发明进行详细说明。
[0034]实施例1:
[0035]如图1-2所示，一种基于光子晶体的建筑物用环保制冷贴膜，该制冷贴膜自上而下依次包括抗刮耐磨层1、上基材层2、光子晶体制冷层3及下基材层4，抗刮耐磨层I为聚氨酯抗刮耐磨层，上基材层2与下基材层4均为聚对苯二甲酸乙二醇酯基材层，光子晶体制冷层3由第一复合层、第二复合层、第三复合层及第四复合层自上而下依次堆叠而成，结构式为(AB) 4 (⑶)4 (EF) 4 (GH)4,第一复合层由4层A介质层与4层B介质层相互交替叠加组合成(AB) 4型复合结构，第二复合层由4层C介质层与4层D介质层相互交替叠加组合成(⑶)4型复合结构，第三复合层由4层E介质层与4层F介质层相互交替叠加组合成(EF) 4型复合结构，第四复合层由4层G介质层与4层H介质层相互交替叠加组合成(GH) 4型复合结构，A介质层、C介质层、E介质层及G介质层分别为厚度依次增加的二氧化硅介质层，B介质层、D介质层、F介质层及H介质层分别为厚度依次增加的二氧化钛介质层。
[0036]本实施例中，光子晶体制冷层3的总厚度为2.32 μ m，二氧化硅介质层的折射率为
1.45，二氧化钛为锐钛矿型二氧化钛，该锐钛矿型二氧化钛的折射率为2.65。
[0037]第一复合层中A介质层的厚度为51nm，B介质层的厚度为28nm ;第二复合层中C介质层的厚度为75nm，D介质层的厚度为41nm ;第三复合层中E介质层的厚度为103nm，F介质层的厚度为56nm ;第四复合层中G介质层的厚度为146nm，H介质层的厚度为80nm ;抗刮耐磨层I的厚度为2 μπι;上基材层2与下基材层4的厚度相等，并且上基材层2的厚度为 30 μ??ο
[0038]利用黑体辐射的原理:表面温度越高的物体，其辐射的电磁波的频率就越高，波长也就越短，太阳的表面温度比地球上物体的温度高很多，因此，太阳光辐射的电磁波的波长比地球上建筑物内部物体辐射的电磁波的波长要短得多。
[0039]如图3所示，本实施例制冷贴膜对于波长在0.4um至Ium之间的电磁波的透射率基本上控制在0.1以下，而对波长更长的红外线的透射率则在0.7以上震荡。因此，本实施例制冷贴膜结构实现了选择性截止阳光的辐射能量，并能让地球上物体自发辐射的远红外线较为容易地透射出去，从而起到给建筑物室内降温的作用。
[0040]在实际使用过程中，本实施例制冷贴膜设置在建筑物墙体上，一方面太阳光中大部分的可见光在通过制冷贴膜的抗刮耐磨层I及上基材层2后，抵达光子晶体制冷层3，一部分可见光被反射，另一部分经折射进入光子晶体制冷层3，而进入光子晶体制冷层3的这一部分可见光，又会在二氧化硅介质层与二氧化钛介质层的层层反射作用下，返回至外界环境中。整个过程中，大约有90%以上的可见光在光子晶体制冷层3的作用下，被反射回至外界环境中；另一方面，由于建筑物内部物体辐射的电磁波的波长比太阳光辐射的电磁波的波长要长得多，与该结构光子晶体禁带区间错开，使得内部物体的热辐射能够向外辐射，达到散热。本实施例正是通过上述两方面作用，从而实现对建筑物内部空间制冷的技术效果O
[0041]实施例2:
[0042]本实施例中，光子晶体制冷层3的总厚度为2.352 μ m，二氧化硅介质层的折射率为1.45，二氧化钛为锐钛矿型二氧化钛，该锐钛矿型二氧化钛的折射率为2.65。
[0043]第一复合层中A介质层的厚度为52nm，B介质层的厚度为29nm ;第二复合层中C介质层的厚度为76nm，D介质层的厚度为42nm ;第三复合层中E介质层的厚度为104nm，F介质层的厚度为57nm ;第四复合层中G介质层的厚度为147nm，H介质层的厚度为81nm ;抗刮耐磨层I的厚度为4 μπι;上基材层2与下基材层4的厚度相等，并且上基材层2的厚度为48μηι。其余同实施例1。
[0044]实施例3:
[0045]本实施例中，光子晶体制冷层3的总厚度为2.336 μ m，二氧化硅介质层的折射率为1.45，二氧化钛为锐钛矿型二氧化钛，该锐钛矿型二氧化钛的折射率为2.65。
[0046]第一复合层中A介质层的厚度为51.5nm，B介质层的厚度为28.5nm ;第二复合层中C介质层的厚度为75.5nm，D介质层的厚度为41.5nm ;第三复合层中E介质层的厚度为103.5nm，F介质层的厚度为56.5nm ;第四复合层中G介质层的厚度为146.5nm，H介质层的厚度为80.5nm ;抗刮耐磨层I的厚度为3 μ m ;上基材层2与下基材层4的厚度相等，并且上基材层2的厚度为42ym。其余同实施例1。
【主权项】
1.一种基于光子晶体的建筑物用环保制冷贴膜，该制冷贴膜自上而下依次包括抗刮耐磨层、上基材层、光子晶体制冷层及下基材层，所述的抗刮耐磨层为聚氨酯抗刮耐磨层，所述的上基材层与下基材层均为聚对苯二甲酸乙二醇酯基材层，其特征在于，所述的光子晶体制冷层由第一复合层、第二复合层、第三复合层及第四复合层自上而下依次堆叠而成，结构式为(AB) 4 (⑶)4 (EF) 4 (GH)4,所述的第一复合层由4层A介质层与4层B介质层相互交替叠加组合成(AB)4型复合结构，所述的第二复合层由4层C介质层与4层D介质层相互交替叠加组合成(⑶)4型复合结构，所述的第三复合层由4层E介质层与4层F介质层相互交替叠加组合成(EF)4型复合结构，所述的第四复合层由4层G介质层与4层H介质层相互交替叠加组合成(GH)4型复合结构，所述的A介质层、C介质层、E介质层及G介质层分别为厚度依次增加的二氧化硅介质层，所述的B介质层、D介质层、F介质层及H介质层分别为厚度依次增加的二氧化钛介质层。
2.根据权利要求1所述的一种基于光子晶体的建筑物用环保制冷贴膜，其特征在于，所述的光子晶体制冷层的总厚度为2.32-2.352 ymo
3.根据权利要求1所述的一种基于光子晶体的建筑物用环保制冷贴膜，其特征在于，所述的二氧化硅介质层的折射率为1.45。
4.根据权利要求1所述的一种基于光子晶体的建筑物用环保制冷贴膜，其特征在于，所述的二氧化钛为锐钛矿型二氧化钛，该锐钛矿型二氧化钛的折射率为2.65。
5.根据权利要求1所述的一种基于光子晶体的建筑物用环保制冷贴膜，其特征在于，所述的第一复合层中A介质层的厚度为51-52nm，B介质层的厚度为28_29nm。
6.根据权利要求1所述的一种基于光子晶体的建筑物用环保制冷贴膜，其特征在于，所述的第二复合层中C介质层的厚度为75-76nm，D介质层的厚度为41_42nm。
7.根据权利要求1所述的一种基于光子晶体的建筑物用环保制冷贴膜，其特征在于，所述的第三复合层中E介质层的厚度为103-104nm，F介质层的厚度为56_57nm。
8.根据权利要求1所述的一种基于光子晶体的建筑物用环保制冷贴膜，其特征在于，所述的第四复合层中G介质层的厚度为146-147nm，H介质层的厚度为80_81nm。
9.根据权利要求1所述的一种基于光子晶体的建筑物用环保制冷贴膜，其特征在于，所述的抗刮耐磨层的厚度为2-4 μ m。
10.根据权利要求1所述的一种基于光子晶体的建筑物用环保制冷贴膜，其特征在于，所述的上基材层与下基材层的厚度相等，并且所述的上基材层的厚度为30-48 μπι。
【专利摘要】本发明涉及一种基于光子晶体的建筑物用环保制冷贴膜，该制冷贴膜自上而下依次包括抗刮耐磨层、上基材层、光子晶体制冷层及下基材层，所述的光子晶体制冷层结构式为(AB)4(CD)4(EF)4(GH)4，由第一复合层、第二复合层、第三复合层及第四复合层自上而下依次堆叠而成，并且所述的第一复合层、第二复合层、第三复合层及第四复合层均分别由四层二氧化硅介质层与四层二氧化钛介质层相互交替叠加组合而成。与现有技术相比，本发明质轻而薄，利用一维光子晶体禁带原理，经薄膜结构参数设计，能反射掉太阳光中大部分电磁波，同时对建筑物内部向外的热辐射几乎没有影响，用于建筑物墙体时，制冷效果好，有利于降低能耗，绿色环保。
【IPC分类】B32B27-36, B32B9-04, E04B1-74, B32B27-40, B32B27-08, E04B1-92
【公开号】CN104669745
【申请号】CN201510058599
【发明人】谈论, 李志远, 张志华
【申请人】同济大学
【公开日】2015年6月3日
【申请日】2015年2月4日