专利名称：一种封闭式胶体磨的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种用于把物料湿式粉碎、研磨超微粒的精密设备，特别是指适用在食品、制药、化工、涂料等行业的一种封闭式胶体磨。
背景技术：
目前，国内生产的胶体磨型号较多，结构也大同小异，广泛应用在食品、制药、化工等行业对物料进行粉碎和乳化的装置，一般由电机、机体、静磨体、动磨体及进料斗，其中电机安装在机体的底座上，静磨体固定设在机体内，动磨体设置在电机轴上或与电机轴联动连接的转轴上，并与静磨体相匹配，进料斗设置在机体或静磨体的上端部，物料通过进料斗，电机带动动磨体转动后，将物料传到静磨体与动磨体之间的间隙进行粉碎细化。但现有的胶体磨的进料斗的开口端都不为封闭式的，不适合加工易挥发性、易燃性、易爆性及卫生要求高的物料，如香精、香料、药物、石油化工、生物化工等领域行业的使用。
发明内容
本实用新型为了解决上述现有技术存在的不足之处，提供了一种结构简单，使用方便，且防火防爆防挥发，卫生环保，高效节能的一种封闭式胶体磨。
为实现上述目的，本实用新型采用以下方案一种封闭式胶体磨，包括有电机、机体、转轴、静磨体、动磨体及进料斗，其中电机和静磨体固定设在机体上，动磨体固定连接在转轴上，并与静磨体相匹配，所述的进料斗的开口端设置有一个密封盖，密封盖通过连接件与进料斗开口端密封配合，密封盖上设置有至少一个视镜。
本实用新型进一步设置为，所述的密封盖上设置有至少一个回流进料口。
所述的进料斗外围上设置有至少一个回流进料口。
所述的回流进料口上连接有回流循环管，在回流进料口与回流循环管连接的部位设置有波纹补偿器。
本实用新型的有益效果是本实用新型与现有的技术相比，通过在原有胶体磨进料斗的开口端设置有密封盖，使易挥发、易燃、易爆及卫生等级要求高的物料能在密闭的环境中进行粉碎、研磨、乳化、混合等循环加工。在密封盖上设置视镜，可以随时观察密封条件下物料处理时的工作状态。在回流进料口与回流循环管连接的部位设置有波纹补偿器，可以平衡容器内部的压力作用，使调节盘能灵活的调节动、静磨体的细度和预防膨胀。是一种密封性能好，结构简单，使用方便，且卫生环保，高效节能的先进胶体磨。
以下结合附图及实施例对本实用新型进一步说明。
图1为本实用新型实施例结构示意图；图2为本实用新型实施例密封盖结构示意图。
图中1、电机 2、机体 21、底座 3、转轴 4、静磨体 5、动磨体 6、进料斗 61、快装式吊钩件 7、密封盖 71、视镜 72、回流进料口 8、回流循环管 81、波纹补偿器 9、出料口具体实施方式
如图1、图2所示，本实用新型实施例采用一种封闭式胶体磨，包括有电机1、机体2、转轴3、静磨体4、动磨体5及进料斗6，其中电机1安装在机体2的底座21上，静磨体4固定设在机体2内，动磨体5固定连接在转轴3上，并设置在静磨体4中轴线的位置上与之相匹配，转轴3可以为电机1的输出轴或者与电机1输出轴联动连接的转动轴，进料斗6设置在机体2或静磨体4的上端部，所述的进料斗6的开口端设置有一个密封盖7，密封盖7通过设置在进料斗6上的快装式吊钩件61与进料斗6开口密封配合。所述的密封盖7上设置有至少一个视镜71，为了能方便观察物料处理时的工作状态，本实用新型在密封盖7上对称设置有两个视镜71，当然也可以根据使用者的要求在密封盖7上设置三个或四个视镜71。
本实用新型实施例进一步设置为，在密封盖7上或进料斗6的外围上还设置有至少一个回流进料口72，在回流进料口72上连接有回流循环管8，在回流进料口72与回流循环管8连接的部位设置有波纹补偿器81。本实用新型可以根据使用的的需求在密封盖7上或进料斗6的外围上设置多个回流进料口72，回流进料口72也可以用作物料的进料口、放气口、冲洗口等。
本实用新型具体实施方式
，开启前，先将物料放进进料斗6，在进料斗6开口端上连接密封盖7，或者连接好密封盖7后通过回流进料口72往进料斗6内放置物料；开启后，电机1带动动磨体5转动后，将物料传到静磨体4与动磨体5之间的间隙进行粉碎细化，使用者可以通过设置在密封盖7上的视镜71观察物料加工的进程，加工好的物料成品通过出料口9流出。如物料需要循环加工时，物料半成品通过回流循环管8及与回流循环管8连接的回流进料口72进入进料斗6继续加工。设置在回流进料口72与回流循环管8连接部位的波纹补偿器81可以根据密封容器里压力的增大或减小自动伸长或收缩，以平衡容器内部压力的作用，使加工的物料有效的得到多次循环处理而达到理想的效果。
权利要求1.一种封闭式胶体磨，包括有电机、机体、转轴、静磨体、动磨体及进料斗，其中电机和静磨体固定设在机体上，动磨体固定连接在转轴上，并与静磨体相匹配，其特征在于所述的进料斗(6)的开口端设置有一个密封盖(7)，密封盖(7)通过连接件与进料斗(6)开口端密封配合，密封盖(7)上设置有至少一个视镜(71)。
2.根据权利要求1所述的一种封闭式胶体磨，其特征在于所述的密封盖(7)上设置有至少一个回流进料口(72)。
3.根据权利要求1所述的一种封闭式胶体磨，其特征在于所述的进料斗(6)外围上设置有至少一个回流进料口(72)。
4.根据权利要求2所述的一种封闭式胶体磨，其特征在于所述的回流进料口(72)上连接有回流循环管(8)，在回流进料口(72)与回流循环管(8)连接的部位设置有波纹补偿器(81)。
5.根据权利要求3所述的一种封闭式胶体磨，其特征在于所述的回流进料口(72)上连接有回流循环管(8)，在回流进料口(72)与回流循环管(8)连接的部位设置有波纹补偿器(81)。
专利摘要本实用新型涉及一种用于把物料湿式粉碎、研磨超微粒的精密设备，特别是指适用在食品、制药、化工、涂料等行业的一种封闭式胶体磨，包括有电机、机体、转轴、静磨体、动磨体及进料斗，其中电机和静磨体固定设在机体上，动磨体固定连接在转轴上，并与静磨体相匹配，所述的进料斗的开口端设置有一个密封盖，密封盖通过连接件与进料斗开口端密封配合，密封盖上设置有至少一个视镜。使易挥发、易燃、易爆及卫生等级要求高的物料能在密闭的环境中进行粉碎、研磨、乳化、混合等循环加工，是一种密封性能好，结构简单，使用方便，且卫生环保，高效节能的先进胶体磨。
文档编号B02C4/28GK2749568SQ200420054
公开日2006年1月4日 申请日期2004年12月4日 优先权日2004年12月4日
发明者杨剑英 申请人:杨剑英