一种半下挖防倒灌式日光温室的制作方法

文档序号:12076295阅读:631来源:国知局

本实用新型涉及一种温室大棚,特别涉及一种半下挖防倒灌式日光温室。



背景技术:

普通土墙体日光温室,由于取土筑墙,如果全部从棚内取土,则棚内下挖深度在1m左右,前部遮阴严重,造成前部1.5米处冬季无法种植,作物产量低。如果采用二次下挖法,棚内下挖1米,棚外2m内下挖0.5m,此法虽然解决了冬季遮阴问题,但夏季棚面雨水与棚外雨水会通过下挖部分倒灌到日光温室内,淹没蔬菜种苗甚至侵蚀土墙体,容易引起坍塌。



技术实现要素:

本发明要解决的技术问题,是针对上述技术方案的不足,提供一种半下挖防倒灌式日光温室,其采光效果好,解决冬季遮阴多的问题,提高了作物产量;及时排出雨水,避免夏季雨水倒灌,保护墙体。

为解决上述技术问题,本实用新型的技术方案为:

一种半下挖防倒灌式日光温室,包括种植区、遮阴区和墙体,

种植区包括棚体,

墙体由棚体内取土筑成墙体的50%-70%,

墙体由墙体的前部及遮阴区内取土30%-50%,

所述墙体为梯形结构,所述墙体的上表面宽度为2m,墙体的下表面宽度为5m,

在棚体与遮阴区的交汇连接处安装有0.5m宽的挡水膜,

所述挡水膜的宽为0.5cm,挡水膜的长为50cm。

作为优选的技术方案,所述棚体内的植物种植水平面较棚体外的遮阴区的水平面低40-60cm。

作为优选的技术方案,所述遮阴区由地面向下挖了10-20cm形成。

作为优选的技术方案,在遮阴区内设置排水沟将雨水排走,所述排水沟为倒立的梯形,排水沟的上表面宽度为1m,排水沟的下表面宽度为0.5m。

作为优选的技术方案,所述挡水膜上部的20cm贴合在棚体的棚架上,所述挡水膜下部的30cm埋入土中。

作为优选的技术方案,所述墙体的内表面设置有吸热层,所述墙体的外表面敷设有防寒层,所述防寒层为泡沫水泥板,防寒层的厚度为2-3cm。

本实用新型与现有技术相比,具有以下优点:

(1) 采光效果好,解决冬季遮阴多的问题;

(2)不会引起夏季雨水倒灌,保护墙体;

(3) 提高了作物产量。

附图说明

图1本实用新型日光温室的结构示意图;

其中:1-种植区,2-遮阴区,3-墙体,4-棚体,5-排水沟,6-挡水膜。

具体实施方式

为了对本实用新型的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解,现对照附图说明本实用新型的具体实施方式。

实施例1一种半下挖防倒灌式日光温室

参照图1,本实用新型提供一种半下挖防倒灌式日光温室,包括种植区1、遮阴区2和墙体3,

种植区1包括棚体4,

墙体3由棚体4内取土筑成墙体3的50%-70%,

墙体3由墙体3的前部及遮阴区2内取土30%-50%,

所述墙体3为梯形结构,所述墙体3的上表面宽度为2m,墙体3的下表面宽度为5m。

本实用新型的日光温室建成后,使棚体4内的植物种植水平面较棚体4外的遮阴区2的水平面低40-60cm,

本实用新型采光效果好,即使棚体4内靠近遮阴区2的植株长势良好,这样的构造可以很好的避免棚体4内部采光不均匀、不佳的问题,提高了作物产量。

所述遮阴区2由地面向下挖了10-20cm形成,在遮阴区2内设置排水沟5将雨水排走,所述排水沟5为倒立的梯形,排水沟5的上表面宽度为1m,排水沟5的下表面宽度为0.5m。排水沟5的设置不会引起夏季雨水倒灌。

同时为防止积水倒灌,在棚体4与遮阴区2的交汇连接处安装有0.5m宽的挡水膜6,所述挡水膜6的宽为0.5cm,挡水膜6的长为50cm,

所述挡水膜6上部的20cm贴合在棚体1的棚架上,

所述挡水膜6下部的30cm埋入土中,进一步的保护了墙体。

实施例2一种半下挖防倒灌式日光温室

本实施例与实施例1的相同之处不在赘述,仅对不同之处加以说明。

本实用新型还提供一种半下挖防倒灌式日光温室,所述墙体3的内表面设置有吸热层,所述墙体3的外表面敷设有防寒层,所述防寒层为泡沫水泥板,防寒层的厚度为2-3cm。

本实用新型提供一种半下挖防倒灌式日光温室,包括种植区、遮阴区和墙体,种植区包括棚体,墙体由棚体内取土筑成墙体的50%-70%,墙体由墙体的前部及遮阴区内取土30%-50%,所述墙体为梯形结构,所述墙体的上表面宽度为2m,墙体的下表面宽度为5m,在棚体与遮阴区的交汇连接处安装有0.5m宽的挡水膜,所述挡水膜的宽为0.5cm,挡水膜的长为50cm。本实用新型解决冬季遮阴多的问题,不会引起夏季雨水倒灌,保护墙体,提高作物产量。

以上所述为本发明最佳实施方式的举例,其中未详细述及的部分均为本领域普通技术人员的公知常识。本发明的保护范围以权利要求的内容为准,任何基于本发明的技术启示而进行的等效变换,也在本发明的保护范围之内。

当前第1页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1