一种育种温室装置的制作方法

本实用新型涉及农业技术领域，特别涉及一种育种温室装置。

背景技术：

温室育种因加温方式不同，可以分为通过阳光提高温度的日光温室，另一种是通过煤气、热水等提高温度的人工加温温室。通过阳光提高温度的方式由于受到环境的影响不便于控制；而现有技术中通过人工加温温室的育种温室装置，并未设置浇水或者施肥结构，操作不便。

技术实现要素：

本实用新型的主要目的是提出一种育种温室装置，旨在解决现有技术中通过人工加温温室的育种温室装置，并未设置浇水施肥结构，操作不便的技术问题。

为实现上述目的，本实用新型提出一种育种温室装置，包括：

容置桶，具有上端敞开设置的容纳腔、设于所述容纳腔的底壁上的容置口以及自所述容置口的上缘朝上凸伸形成的环形凸部，所述环形凸部与所述容纳腔的内壁限定出环形容液槽；

育种盘，设于所述容置口内；

喷液装置，包括设于所述容置桶上方的喷头，用于对所述育种盘喷液；以及，

导流板，设于所述容置桶内且呈锥形设置，所述导流板位于所述喷头下方且贯设有多个排液口，所述多个排液口的内径自所述导流板的中部朝所述导流板的外缘方向呈渐宽设置，所述导流板的外边缘超出所述环形凸部的外周缘设置。

可选地，所述育种盘包括育种槽、以及设于所述育种槽下方的积液腔，所述育种槽的底壁贯设有多个育种孔，所述积液腔内设有用于通入热水的进液管，所述积液腔的底壁贯设有用于排水的排水口。

可选地，所述进液管沿长度方向开设有多个出水孔，所述多个出水孔的孔径朝远离进水的方向呈渐宽设置。

可选地，相邻两个所述出水孔的间距朝远离进水的方向呈渐小设置。

可选地，所述育种槽的材质为金属铝。

可选地，所述导流板的锥角为α，120°≤α≤150°。

可选地，所述环形容液槽的底壁设有出液口。

可选地，相邻两个所述排液口的间距自所述导流板的中部朝向所述导流板的外缘呈渐小设置。

本实用新型通过将喷液装置的喷头设置在容置桶上方，在喷头下方设置导流板，导流板上贯设有多个排液口，多个排液口的内径自所述导流板的中部朝所述导流板的外缘方向呈渐宽设置，所述导流板的外边缘超出所述环形凸部的外周缘设置，如此，通过喷头浇水或者施肥时液体由于受到导流板的缓冲从排液口排出至育种盘，浇水施肥时较为温和，避免直接对育种盘进行冲击，损坏育苗。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本实用新型提供的育种温室装置的一实施例的结构示意图；

图2为图1中育种盘的结构示意图；

图3为图2中进液管的结构示意图。

附图标号说明：

本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

需要说明，若本实用新型实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，若本实用新型实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。

本实用新型提供一种育种温室装置，请参阅图1至图3，该育种温室装置100包括容置桶1、育种盘2、喷液装置3以及导流板4，容置桶1具有上端敞开设置的容纳腔11、设于所述容纳腔11的底壁上的容置口12以及自所述容置口12的上缘朝上凸伸形成的环形凸部13，所述环形凸部13与所述容纳腔11的内壁限定出环形容液槽14(优选地，所述环形容液槽14的底壁设有出液口，便于对液体回收再利用)，育种盘2设于所述容置口12内，喷液装置3包括设于所述容置桶1上方的喷头31，用于对所述育种盘2喷液，导流板4设于所述容置桶1内且呈锥形设置，所述导流板4位于所述喷头31下方且贯设有多个排液口41，所述多个排液口41的内径自所述导流板4的中部朝所述导流板4的外缘方向呈渐宽设置(喷头31设置在导流板4的上方，由于越靠近喷头31，喷出的水冲击越大，故将多个排液口41的内径自所述导流板4的中部朝所述导流板4的外缘方向呈渐宽设置，以避免浇在育种盘2上的液体冲击力不会过大，也可以是相邻两个所述排液口41的间距自所述导流板4的中部朝向所述导流板4的外缘呈渐小设置)，所述导流板4的外边缘超出所述环形凸部13的外周缘设置(所述导流板4的锥角为α，α过小，液体经过导流板4流下的速度过快，α过大，液体经过导流板4流下的速度过慢，故，在本实施例中，120°≤α≤150°)。

温室育种因加温方式不同，可以分为通过阳光提高温度的日光温室，另一种是通过煤气、热水等提高温度的人工加温温室。通过阳光提高温度的方式由于受到环境的影响不便于控制；而现有技术中通过人工加温温室的育种温室装置，并未设置浇水施肥结构，操作不便。

本实用新型通过将喷液装置3的喷头31设置在容置桶1上方，在喷头31下方设置导流板4，导流板4上贯设有多个排液口41，多个排液口41的内径自所述导流板4的中部朝所述导流板4的外缘方向呈渐宽设置，所述导流板4的外边缘超出所述环形凸部13的外周缘设置，如此，通过喷头31浇水或者施肥时液体由于受到导流板4的缓冲从排液口41排出至育种盘2，浇水施肥时较为温和，避免直接对育种盘2进行冲击，损坏育苗。

该育种温室装置100可以在容置桶1的内壁上设置加热装置(例如热水循环加热、或者加热片加热)，也可以在育种盘2的底部设置加热装置(例如热水循环加热、或者加热片加热)，也可以是采用其他本领域公知的加热方式，在此不做详述。在本实施例中，请参阅图2和图3，所述育种盘2包括育种槽21、以及设于所述育种槽21下方的积液腔22，所述育种槽21的底壁贯设有多个育种孔211(可以用于种植水培的植物，例如水稻等)，所述积液腔22内设有用于通入热水的进液管23，所述积液腔22的底壁贯设有用于排水的排水口。通过进液管23通入热水对育种槽21内的种子加热，改善温度，通过排水口将通入积液腔22内的水排出。为了保证育种槽21热传导的效果，在本实施例中，所述育种槽21的材质为金属铝。

由于热水在经过进液管23传输时，水温越靠近进水口的位置越高，为了保证积液腔22内各个部分的水温均衡，所述进液管23沿长度方向开设有多个出水孔231，所述多个出水孔231的孔径朝远离进水的方向呈渐宽设置，远离进水的方向的进水管向积液腔22内排水的速度更快，靠近进水的方向的进水管向积液腔22内排水的速度慢，如此，可以有效保证积液腔22各个部分的水温更均匀，使向育种盘2传导的热量更均衡。也可以是采用相邻两个所述出水孔231的间距朝远离进水的方向呈渐小设置，通过调整相邻两个所述出水孔231的间距，调整向积液腔22内排水的速度，来使积液腔22各个部分的水温更均匀。

以上仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是在本实用新型的实用新型构思下，利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。