专利名称：一种指甲屑收集装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种卫生用具，特别是一种修剪指甲时收集指甲屑的装置。
背景技术：
人的手指甲不停的生长，需要定期进行修剪，不然过长的指甲会影响人手正常使用，因此，修剪指甲成为人们生活中必不可少的一项内容。修剪指的工具有多种，最常用的就是指甲刀，使用指甲刀修剪指甲时，指甲屑会四处飞溉，在室内修剪指甲时很难保证室内卫生，尤其是室内铺有地毯时。虽然也见过有储指甲屑的指甲刀，但是，储屑仓和指甲刀是一体的，储屑仓很小，不能满足需要。而且，指甲屑装多后会影响指甲刀的正常操作，有时还会卡住指甲刀，使其不能动作。
发明内容
本发明的目的是提供一种使用方便、不易发生故障的指甲屑收集装置。本发明的技术方案是包括中空的腔体，所述腔体的一侧设有两圆孔，腔体下方设有排屑孔，排屑孔上旋有盖，腔体的上方为透明材料。所述腔体的底部为漏斗形，排屑孔位于腔体底部的中心。由于本发明中设置了中空的腔体，腔体的一侧设有两圆孔，腔体的上方为透明材料。因此，修剪指甲时只需将两手通过圆孔放入腔体中，就能进行修剪，指甲屑只能落在腔体中而不会四处飞溅。
图1是本发明的结构示意图； 图2是图1的结构分解示意图； 图3是图1的剖切示意图。
具体实施例方式下面结合附图和实施例对本发明作进一步详细说明，但不构成对本发明的任何限制。图1至图3所示，本发明包括中空的腔体1，所述腔体1的一侧设有两圆孔，该圆孔能保证人手通过，腔体1下方设有排屑孔，排屑孔上旋有盖2，腔体1的上方为透明材料。腔体1 也可整体采用透明塑料制成。为方便收集指甲屑，所述腔体1的底部可制成漏斗形，排屑孔位于腔体1底部的中心，即最低位置，使指甲屑受重力影响自动流入该排屑孔中。使用时， 一手持指甲刀，两手从圆孔伸入腔体1中，然后在腔体1中进行指甲修剪。由于，腔体1上方或整体透明，不会影响视线。修剪完指甲后，大部分指甲会落入排屑孔中，通过摇动腔体 1会使余下的指甲屑全部流入排屑孔中，旋开盖2即可倒出指甲屑。倒完指甲屑后，再将盖 2旋上以备下次使用。
权利要求
1.一种指甲屑收集装置，其特征在于包括中空的腔体(1)，所述腔体(1)的一侧设有两圆孔，腔体(1)下方设有排屑孔，排屑孔上旋有盖(2)，腔体(1)的上方为透明材料。
2.根据权利要求1所述的指甲屑收集装置，其特征在于所述腔体(1)的底部为漏斗形，排屑孔位于腔体(1)底部的中心。
全文摘要
本发明公开了一种使用方便、不易发生故障的指甲屑收集装置。本发明包括中空的腔体，所述腔体的一侧设有两圆孔，腔体下方设有排屑孔，排屑孔上旋有盖，腔体的上方为透明材料。所述腔体的底部为漏斗形，排屑孔位于腔体底部的中心。本发明中设置了中空的腔体，腔体的一侧设有两圆孔，腔体的上方为透明材料。因此，修剪指甲时只需将两手通过圆孔放入腔体中，就能进行修剪，指甲屑只能落在腔体中而不会四处飞溅。
文档编号A45D44/00GK102326953SQ201110304740
公开日2012年1月25日 申请日期2011年10月10日 优先权日2011年10月10日
发明者李俊平 申请人:李俊平