一种非等距聚焦放射装置制造方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种非等距聚焦放射装置，包括放射源及准直装置，所述放射源用于产生放射线，所述放射线聚焦于一点，形成放射焦点；准直装置，用于与放射源相连，所述放射源发出的放射线通过准直装置到达放射焦点。所述准直装置的底部为平面，且准直装置底部到放射焦点的距离不等。采用本实用新型提供的一种非等距聚焦放射装置，用以解决杂散辐射及屏蔽效果不佳的问题。
【专利说明】一种非等距聚焦放射装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及医疗器械领域，尤其涉及一种伽玛刀设备中非等距聚焦放射装置。
【背景技术】
[0002]现有的伽玛射线立体定向治疗系统(也称伽玛刀)是一种精确放射治疗设备，其辐射单元均是采用几何聚焦原理，其目的是利用多束安全剂量的伽玛射线聚焦后对病灶靶点产生大剂量辐照，而对靶点周围正常组织的损害减到最少，即提高放射治疗时的治疗增益比。为达到这一目的，现有的伽玛刀均采用一个回转几何体(也叫载源体)如球面上分布着多个钴60放射源，每个放射源通过准直器通道将射线对准一个公共焦点，从而在焦点处形成一个高剂量区。
[0003]然而，需要说明的是，目前采用球面结构的准直器均为等距准直器，即每个准直器出口到焦点的距离均是相等的，其准直器属于半球凹面结构，受结构的限制，其准直器长度、屏蔽厚度有限，对影响焦点品质的杂散辐射及屏蔽效果并不理想。
【发明内容】
[0004]本发明提供一种非等距聚焦放射装置，用以加强对放射线准直过程中散射的屏蔽，提高焦点品质，同时增强对非治疗射线的屏蔽效果。
[0005]本发明提供了一种非等距聚焦放射装置，包括:放射源，所述放射源用于产生放射线，所述放射射线聚焦于一点，形成放射焦点；准直装置，用于与放射源相连，所述放射源发出的放射线通过准直装置到达放射焦点；所述准直装置的底部为平面，且准直装置底部到放射焦点的距离不等。
[0006]较优的，所述放射源个数为15-30个。
[0007]较优的，所述放射源分布的范围为纬度16-30度，经度0-360度。
[0008]较优的，所述准直装置产生的射野尺寸范围为4-30毫米。
[0009]较优的，所述准直装置产生的射野尺寸为3-5组。
[0010]较优的，所述放射装置包括预准直器及准直器，所述预准直器与放射源相连，所述准直器与预准直器相连。
[0011]较优的，所述放射源为钴-60。
[0012]采用本发明实施例的非等距聚焦放射装置，准直器长度更长，射线经过准直器后，其杂散辐射更小，多束射线聚焦形成的焦点半影小，焦点品质更优；另外，由于准直器底部是平面结构，和半球凹面比，平面增加了厚度，其对射线的屏蔽效果更好，对病人更为安全。
【专利附图】
【附图说明】
[0013]图1是本发明实施例提供的非等距聚焦放射装置纵切面剖视图；
[0014]图2是本发明实施例提供的非等距聚焦放射装置局部放大图；
[0015]图3是本发明实施例提供的放射源分布示意图。【具体实施方式】
[0016]为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
[0017]为了更好得理解本发明的技术方案， 申请人:通过图1及图2的【具体实施方式】来说明该发明实施例的非等距聚焦放射装置。如图1所示，图1是本发明实施例非等距聚焦放射装置纵切面剖视图，图2是本发明实施例中非等距聚焦放射装置局部放大图。在本发明实施例中，从图中可知，伽玛刀设备包括射源体(图中未标号)，所述射源体大致呈梯形结构，上部为圆弧型，而底部为平面。所述射源体内设置了多个非等距聚焦放射装置，每个放射装置从上到下依次包括三个部分，放射源1，在本发明实施例中可以是钴60，预准直器2，准直器3。所述放射源I发出的射线经过预准直器2及准直器3的射线通道而径向到达放射焦点。需要说明的是，所述放射源I到放射焦点的距离相等，而由于准直器底部为平面，则准直器到放射焦点的距离则不等。
[0018]从图1及图2可知，相较于现有技术中采用半球凹面且等距的放射装置而言，在本发明实施例中，所述准直器到放射焦点的距离均不相等，且所述准直器底部为平面。这样一来，本发明实施例中的准直器相较现有技术中的半球凹面的准直器而言，准直器长度更长，射线经过准直器后，其杂散辐射更小，多束射线聚焦形成的焦点半影小；另外，由于准直器底部是平面，和半球凹面比，平面增加了厚度，其对射线的屏蔽效果更好，对病人更为安全。
[0019]另外，在本发明实施例中，所述准直器可以为3-5组，且准直器产生的射野尺寸范围为4-30mm,具体的可以是:4mm, 8mm, 14mm, 18mm, 25mm以及30mm等不同规格。
[0020]此外，还需要说明的是，考虑到伽玛刀既可能是头部伽玛刀亦有可能是体部伽玛刀，放射源的剂量、回转半径、运行轨迹等等要求，在本发明实施例中，放射源的个数为15-30个，图3是放射源的分布示意图，以24个放射源为例，所述放射源分为4组，分布范围为纬度16-30度，经度0-360度。且每组放射源中相邻两放射源纬度和经度分布呈等差数列排布。
[0021]以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
【权利要求】
1.一种非等距聚焦放射装置，包括: 放射源，所述放射源用于产生放射线，所述放射线聚焦于一点，形成放射焦点； 准直装置，用于与放射源相连，所述放射源发出的放射线通过准直装置到达放射焦占.其特征在于:所述准直装置的底部为平面，且准直装置底部到放射焦点的距离不等。
2.如权利要求1所述的非等距聚焦放射装置，其特征在于:所述放射源个数为15-30个。
3.如权利要求2所述的非等距聚焦放射装置，其特征在于:所述放射源分布的范围为纬度16-30度，经度0-360度。
4.如权利要求1所述的非等距聚焦放射装置，其特征在于:所述准直装置产生的射野尺寸范围为4-30毫米。
5.如权利要求4所述的非等距聚焦放射装置，其特征在于:所述准直装置产生的射野尺寸为3-5组。
6.如权利要求1所述的非等距聚焦放射装置，其特征在于:所述放射装置包括预准直器及准直器，所述预准直器与放射源相连，所述准直器与预准直器相连。
7.如权利要求1所述的非等距聚焦放射装置，其特征在于，所述放射源为钴-60。
【文档编号】A61N5/10GK203436706SQ201320456769
【公开日】2014年2月19日 申请日期:2013年7月17日 优先权日:2013年7月17日
【发明者】官爱平, 郑晓天 申请人:官爱平, 郑晓天