1.一种电磁质量保证系统(30)包括：
电磁场生成器(20)，其能够生成电磁场(21)；
电磁传感器模块(40)，其包括至少一个电磁传感器(22)，所述至少一个电磁传感器被定位并且取向为表示对通过所述电磁传感器模块(40)被插入到解剖区域中的至少一个介入工具的模拟电磁跟踪；以及
电磁质量保证工作站(50)，其能够被连接到所述至少一个电磁传感器(22)，
其中，响应于所述电磁场生成器(20)生成围绕所述至少一个电磁传感器(22)的所述电磁场(21)，所述电磁质量保证工作站(50)能够测试所述至少一个介入工具通过所述电磁传感器模块(40)到所述解剖区域中的插入的电磁跟踪准确性。
2.根据权利要求1所述的电磁质量保证系统(30)，
其中，所述电磁传感器模块(40)包括延伸通过所述电磁传感器模块(40)的至少一个通道；并且
其中，每个电磁传感器(22)被包含在所述至少一个通道中的一个内。
3.根据权利要求1所述的电磁质量保证系统(30)，
其中，响应于所述电磁场生成器(20)生成围绕所述至少一个电磁传感器(22)的所述电磁场(21)，所述电磁质量保证工作站(50)还能够计算指示所述至少一个电磁传感器(22)中的每个的跟踪位置的电磁跟踪准确性的质量的至少一个度量。
4.根据权利要求1所述的电磁质量保证系统(30)，还包括：
参考电磁传感器(22R)，其能够被配准到所述电磁传感器模块(40)，
其中，响应于所述电磁场生成器(20)生成围绕所述至少一个电磁传感器(22)和所述参考电磁传感器(22R)的所述电磁场(21)，所述电磁质量保证工作站(50)还能够计算指示所述至少一个电磁传感器(22)中的每个的跟踪位置的电磁跟踪准确性的质量的至少一个度量。
5.根据权利要求4所述的电磁质量保证系统(30)，
其中，响应于指示所述电磁场(21)内的畸变的所述至少一个度量，所述电磁质量保证工作站(50)还能够根据所述至少一个电磁传感器(22)中的每个的所述跟踪位置相对于所述参考电磁传感器(22R)的配准的位置的所述电磁跟踪来校正所述电磁场(21)内的所述畸变。
6.一种电磁数据协调系统(70)，包括：
电磁场生成器(20)，其能够生成电磁场(21)；
至少一个电磁校准工具(80)，每个电磁校准工具(80)包括至少一个电磁传感器(22)；以及
电磁数据协调工作站(90)，其能够被连接到所述至少一个电磁校准工具(80)，
其中，响应于所述电磁场生成器(20)生成围绕所述至少一个电磁校准工具(80)与包括至少一个通道以将至少一个介入工具引导到解剖区域中的网格(120)的机械交互的所述电磁场(21)，所述电磁数据协调工作站(90)能够建立用于电磁跟踪所述至少一个介入工具通过所述网格(120)到所述解剖区域中的插入的坐标系。
7.根据权利要求6所述的电磁数据协调系统(70)，
其中，所述至少一个电磁校准工具(80)包括被配置并且被尺寸定制为接收电磁导丝(110)的电磁校准设备(82)；
其中，所述电磁校准设备(82)具有能够将所述电磁导丝的远端以固定深度插入到所述网格(120)中的远端突起；并且
其中，响应于所述电磁场生成器(20)生成围绕所述电磁校准设备(82)的所述远端突起到所述网格(120)的所述通道中的一个中的插入的所述电磁场(21)，所述电磁数据协调工作站(90)还能够采集指示对所述网格(120)的所述通道的电磁跟踪的数据。
8.根据权利要求6所述的电磁数据协调系统(70)，
其中，所述至少一个电磁校准工具(80)包括能够被附接到所述网格(120)的网格校准框架(83)；
其中，在被附接到所述网格(120)的情况下，所述网格校准框架(83)包括所述网格(120)的每个通道间垂直延伸的通道阵列；
其中，所述至少一个电磁校准工具(80)还包括电磁校准设备(82)，所述电磁校准设备被配置并且被尺寸定制为穿过所述网格校准框架(83)的所述通道阵列；并且
其中，响应于所述电磁场生成器(20)生成围绕穿过所述网格校准框架(83)的所述通道阵列的所述电磁校准设备(82)的所述电磁场(21)，所述电磁数据协调工作站(90)还能够建立指示对所述网格(120)的所述通道的电磁跟踪的采集数据。
9.根据权利要求6所述的电磁数据协调系统(70)，
其中，所述至少一个电磁校准工具(80)包括能够被附接到所述网格(120)的网格校准框架(83)；
其中，在被附接到所述网格(120)的情况下，所述网格校准框架(83)包括具有与所述网格(120)的每个通道对齐的孔的通道阵列；
其中，所述至少一个电磁校准工具(80)还包括电磁校准设备(82)，所述电磁校准设备被配置并且被尺寸定制为穿过所述网格校准框架(83)的所述通道阵列并且利用所述网格校准框架(83)的每个孔而被插入；并且
其中，响应于所述电磁场生成器(20)生成围绕穿过所述网格校准框架(83)的所述通道阵列的所述电磁校准设备(82)的所述电磁场(21)，所述电磁数据协调工作站(90)还能够在所述电磁校准设备(82)被插入到所述网格校准框架(83)的每个孔中时建立指示对所述网格(120)的所述通道的电磁跟踪的电磁跟踪的采集数据。
10.根据权利要求6所述的电磁数据协调系统(70)，
其中，所述至少一个电磁校准工具(80)包括能够被附接到所述网格(120)的网格校准框架；
其中，在被附接到所述网格(120)的情况下，所述电磁校准框架(84)包括被插入所述网格(120)的所述至少一个通道中的一个内的电磁传感器(22)；
其中，响应于所述电磁场生成器(20)生成围绕被插入所述网格(120)的所述至少一个通道内的所述至少一个电磁传感器(22)的所述电磁场(21)，所述电磁数据协调工作站(90)还能够建立指示对所述网格(120)的所述通道的电磁跟踪的电磁跟踪的采集数据。
11.一种电磁跟踪配置系统，包括：
电磁场生成器(20)，其能够生成电磁场(21)；
电磁质量保证系统(30)，其包括：
电磁传感器模块(40)，其包括至少一个电磁传感器(22)，所述至少一个电磁传感器被定位并且取向为表示对通过所述电磁传感器模块(40)被插入到解剖区域中的至少一个介入工具的模拟电磁跟踪；以及
电磁质量保证工作站(50)，其能够被连接到所述至少一个电磁传感器(22)，
其中，响应于所述电磁场生成器(20)生成围绕所述至少一个电磁传感器(22)的所述电磁场(21)，所述电磁质量保证工作站(50)能够测试对所述至少一个介入工具通过所述电磁传感器模块(40)被插入到所述解剖区域中的电磁跟踪准确性，
电磁数据协调系统(70)，其包括：
至少一个电磁校准工具(80)，每个电磁校准工具(80)包括至少一个电磁传感器(22)，以及
电磁数据协调工作站(90)，其能够被连接到所述至少一个电磁校准工具(80)，
其中，响应于所述电磁场生成器(20)生成围绕所述至少一个电磁校准工具(80)与通过网格(120)以将至少一个介入工具引导到解剖区域中的所述网格(120)的机械交互的所述电磁场(21)，所述电磁数据协调工作站(90)能够建立用于电磁跟踪所述至少一个介入工具通过所述网格(120)到所述解剖区域中的插入的坐标系。
12.根据权利要求11所述的电磁跟踪配置系统，
其中，所述电磁传感器模块(40)包括延伸通过所述电磁传感器模块(40)的至少一个通道；并且
其中，每个电磁传感器(22)被包含在所述至少一个通道中的一个内。
13.根据权利要求11所述的电磁跟踪配置系统，
其中，响应于所述电磁场生成器(20)生成围绕所述至少一个电磁传感器(22)的所述电磁场(21)，所述电磁质量保证工作站(50)还能够计算指示所述至少一个电磁传感器(22)中的每个的跟踪位置的电磁跟踪准确性的质量的至少一个度量。
14.根据权利要求11所述的电磁跟踪配置系统，还包括：
参考电磁传感器(22R)，其能够被配准到所述电磁传感器模块(40)，
其中，响应于所述电磁场生成器(20)生成围绕所述至少一个电磁传感器(22)和所述参考电磁传感器(22R)的所述电磁场(21)，所述电磁质量保证工作站(50)还能够计算指示所述至少一个电磁传感器(22)中的每个的跟踪位置的电磁跟踪准确性的质量的至少一个度量。
15.根据权利要求14所述的电磁跟踪配置系统，
其中，响应于指示所述电磁场(21)内的畸变的所述至少一个度量，所述电磁质量保证工作站(50)还能够根据所述至少一个电磁传感器(22)中的每个的跟踪位置相对于所述参考电磁传感器(22R)的配准的位置的电磁跟踪来校正所述电磁场(21)内的所述畸变。
16.根据权利要求11所述的电磁数据协调系统(70)，
其中，所述至少一个电磁校准工具(80)包括被配置并且被尺寸定制为接收电磁导丝(110)的电磁校准设备(82)；
其中，所述电磁校准设备(82)具有能够将所述电磁导丝的远端以固定深度插入到所述网格(120)中的远端突起；并且
其中，响应于所述电磁场生成器(20)生成围绕所述电磁校准设备(82)的所述远端突起到所述网格(120)的通道中的一个中的插入的所述电磁场(21)，所述电磁数据协调工作站(90)还能够采集指示对所述网格(120)的所述通道的电磁跟踪的数据。
17.根据权利要求11所述的电磁跟踪配置系统，
其中，所述至少一个电磁校准工具(80)包括能够被附接到所述网格(120)的网格校准框架(83)；
其中，在被附接到所述网格(120)的情况下，所述网格校准框架(83)包括在所述网格(120)的每个通道间垂直延伸的通道阵列；
其中，所述至少一个电磁校准工具(80)还包括电磁校准设备(82)，所述电磁校准设备被配置并且被尺寸定制为穿过所述网格校准框架(83)的所述通道阵列；并且
其中，响应于所述电磁场生成器(20)生成围绕穿过所述网格校准框架(83)的所述通道阵列的所述电磁校准设备(82)的所述电磁场(21)，所述电磁数据协调工作站(90)还能够建立指示对所述网格(120)的所述通道的电磁跟踪的采集数据。
18.根据权利要求11所述的电磁跟踪配置系统，
其中，所述至少一个电磁校准工具(80)包括能够被附接到所述网格(120)的网格校准框架(83)；
其中，在被附接到所述网格(120)的情况下，所述网格校准框架(83)包括具有与所述网格(120)的每个通道对齐的孔的通道阵列；
其中，所述至少一个电磁校准工具(80)还包括电磁校准设备(82)，所述电磁校准设备被配置并且被尺寸定制为穿过所述网格校准框架(83)的所述通道阵列，并且利用所述网格校准框架(83)的每个孔被插入；并且
其中，响应于所述电磁场生成器(20)生成围绕穿过所述网格校准框架(83)的所述通道阵列的所述电磁校准设备(82)的所述电磁场(21)，所述电磁数据协调工作站(90)还能够在所述电磁校准设备(82)被插入到所述网格校准框架(83)的每个孔中时建立指示对所述网格(120)的所述通道的电磁跟踪的电磁跟踪的采集数据。
19.根据权利要求11所述的电磁跟踪配置系统，
其中，所述至少一个电磁校准工具(80)包括能够被附接到所述网格(120)的电磁校准框架(84)；
其中，在被附接到所述网格(120)的情况下，所述电磁校准框架(84)包括被插入所述网格(120)的所述至少一个通道中的一个内的电磁传感器(22)；
其中，响应于所述电磁场生成器(20)生成围绕被插入所述网格(120)的所述至少一个通道内的所述至少一个电磁传感器(22)的所述电磁场(21)，所述电磁数据协调工作站(90)还能够建立指示对所述网格(120)的所述通道的电磁跟踪的电磁跟踪的采集数据。
20.根据权利要求11所述的电磁跟踪配置系统，其中，所述电磁质量保证工作站(50)和所述电磁数据协调工作站(90)共享相同的硬件平台。