喷嘴通道14可由壳体12的至少一个壁(例如，壁16)限定。如图1到图3所示，在一个实施方式中，壳体12通常可限定具有大致四边形横截面(例如，在所显示的实施方式中，矩形横截面)的喷嘴通道14。在这种实施方式中，壳体12通常可包括四个壁(例如，壁16、18、20、22)，这些壁限定大致矩形横截面喷嘴通道14。然而，要理解的是，喷嘴通道可包括其他横截面(例如，圆形、椭圆形和/或其他多边形或半多边形横截面)。因此，限定喷嘴通道的壁的数量可变化。例如，在包括椭圆头形(a round oval)横截面喷嘴通道的一个实施方式中，喷嘴通道可由单壁限定。
[0034]限定喷嘴通道14的至少一个壁(例如，在所示出的实施方式中，一个或多个壁16、18,20,22)可包括与壁16、18的上游部分相邻的通风孔(例如，如图2中所示，分别与壁16、18相关联的通风孔24、26)。如上面一般描述的，鼓风机(下面更详细地描述)可产生气流，可通过通风孔24、26并且沿着壁16、18的至少一部分引导该气流。在一个实施方式中，喷嘴通道14可包括与相应的通风孔24、26相邻的柯恩达表面(例如，柯恩达表面28、30)。在一个实施方式中，一个或多个柯恩达表面28、30可形成通风孔24、26的下游部分的至少一部分。即，限定通风孔24、26的壁16、18的下游部分可包括柯恩达表面28、30。在一个实施方式中，与包含在限定喷嘴通道的壳体壁内的通风孔相邻的柯恩达表面的组合通常可称为柯恩达排气口。
[0035]众所周知，柯恩达表面通常可包括具有至少局部翼形的表面，该形状可对排出通风孔的空气产生柯恩达效应流动，从而，空气易于吸引到或者“粘附”到柯恩达表面和/或限定从通风孔的下游限定喷嘴通道的壁。如图所示，例如，在图2中，在一个实施方式中，由于离开通风孔24、26的气流易于遵循柯恩达表面28、30，允许沿着壁16、18在下游方向引导气流，所以柯恩达表面28、30可允许通风孔24、26与在所示出的实施方式的相应的壁16、18中的狭缝大致齐平和/或允许通风孔大致形成为狭缝。
[0036]在另一个实施方式中，通风孔可具有除柯恩达排气口之外的配置。例如，在一个实施方式中，限定通风孔的壁的上游(相对于流过喷嘴通道的气流的方向)部分可在下游壁部分之上突出，以便通风孔可在下游壁部分之上延伸，并且可大致沿着壁的下游部分引导离开通风孔的空气。可类似地利用其他配置，通过这些配置，通风孔可沿着壁引导从通风孔中离开的空气。例如，可提供一个或多个分离的通风孔或喷嘴，其可至少部分突出进入喷嘴通道内。这种突出通风孔或喷嘴可大致通过喷嘴通道在下游方向引导离开通风孔或喷嘴的气流。
[0037]虽然空气处理设备10的所描述的实施方式通常描述通风孔24、26，作为通常沿着相应的壁16、18的上游宽度延伸的连续开口，但是要理解的是，同样可利用其他配置。例如，一个或多个通风孔可延伸小于壁的整个宽度。同样，限定喷嘴通道的每个壁可设置有一个或多个分离的通风孔。可同样利用各种附加/替换的配置。
[0038]与所描述的实施方式一致，空气处理设备10的壳体12可包括限定至少一部分喷嘴通道14的两个相对的壁(例如，壁16、18)。此外，各个大致相对的壁16、18可包括与每个壁16、18的上游部分相邻(从而与喷嘴通道14的上游部分相邻)的相应的通风孔24、26。而且，在一个实施方式中，各个通风孔24、26可被配置为柯恩达排气口，该排气口设置有与通风孔24、26的下游部分相邻的相应的柯恩达表面28、30。在其他实施方式中，限定喷嘴通道的更多或更少数量的壁可设置有通风孔。例如，在喷嘴通道可具有大致矩形横截面的实施方式中，限定喷嘴通道的这四个壁中的每个可包括通风孔。在其他实施方式中，限定喷嘴通道的仅仅一个壁可包括通风孔。
[0039]在一个实施方式中，由空气处理设备壳体限定的喷嘴通道与相对于喷嘴通道在下游方向引导气流(例如，该气流可包括来自鼓风机的排气流)的通风孔的组合可在喷嘴通道的下游方向和/或相对于空气处理设备的壳体在下游部分产生低压区域。再次参照图3，低压的下游区域可促使位于空气处理设备上游的额外空气淹没于喷嘴通道内，并且通过喷嘴通道的下游端排出。通过喷嘴通道的上游入口吸入空气，空气处理设备能够产生比由鼓风机提供的气流更大的流过喷嘴通道的气流。即，流过空气处理设备的气流可大于流过鼓风机的气流。在一些实施方式中，这种设计可产生更高的出口气流(cfm)，因此，可更好地分布被排出空气处理设备的“清洁”空气。
[0040]在一个实施方式中，喷嘴通道的配置可至少部分有助于产生低压的下游区域，从而通过喷嘴通道的上游入口吸入空气。例如，在一个实施方式中，限定喷嘴通道的至少一个壁的第一部分可相对于至少在位于通风孔下游的位置的喷嘴通道的轴向外偏离(divergeoutwardly,向外发散)。例如，如图所示，例如，在图2中，壁16、18可相对于喷嘴通道14的轴构成一定角度，以便壁16、18相对于彼此并且相对于喷嘴通道14的轴偏离。要理解的是，在一些实施方式中，壁16、18的偏离布置有助于产生位于通风孔24、26下游的低压区域。
[0041]而且，在一些实施方式中，至少一个壁的第二部分相对于位于壁的第一部分的下游的喷嘴通道的轴远离壁的第一部分朝外偏离。例如，如图所示，喷嘴通道14可进一步至少部分由壳体壁部分32、34限定。在一些实施方式中，壁部分32、34可包括各个壁16、18的下游延伸。如图所示，壁部分32、34可相对于壁16、18定向在朝外偏离的角。S卩，由壁部分32、34相对于喷嘴通道14的轴构成的角度可大于由壁16、18相对于喷嘴通道14的轴构成的角度。在一些实施方式中，壁部分32、34的进一步偏离方向可进一步有助于产生相对于通风孔24、26的下游位置的低压区域，从而提高从喷嘴通道14的上游入口的外面吸入空气。
[0042]也参照图4至图5，并且如图2中所示，在一个实施方式中，壳体12可限定壳体内部(例如，壳体内部36、38)，该壳体内部可至少部分包围喷嘴通道14。如图所示，并且如下面更详细地所述，光催化反应室(例如，可与相应的通风孔24、26相关联的光催化反应室40、42)和鼓风机(例如,鼓风机44)可至少部分布置在一个或多个壳体内部36、38内。虽然所显示的实施方式描述了两个光催化反应室(例如，光催化反应室40、42)，但是各种实施方式可利用一个或一个以上的光催化反应室。而且，虽然空气处理设备10显示为包括单个鼓风机(例如，鼓风机44),但是在各种实施方式中，一个或一个以上的鼓风机可用于提供流过一个或多个光催化反应室的并且通过一个或多个通风孔流出的气流。
[0043]在一个实施方式中，鼓风机44可流体耦接，以输送空气通过光催化反应室以及通过通风孔并且沿着至少一个壁的至少一部分引导空气。在这方面，在一些实施方式中，壳体12可进一步限定通道(例如，通道46、48)，该通道与鼓风机、光催化反应室以及通风孔流体耦接。例如，在一个实施方式中，由鼓风机44生成的气流可促使空气被引导通过光催化反应室40、42，并且通过通道46、48从通风孔24、26中引出空气。虽然在图4中仅仅描述了一个鼓风机，但是要理解的是，在一些实施方式中，可利用多个鼓风机，(例如，与每个光催化反应室相关联的单独鼓风机)。而且，在各种实施方式中，鼓风机可与光催化反应室流体耦接，以便推动空气通过光催化反应室和/或将空气吸入通过光催化反应室吸入空气。鼓风机44可包括任何合适的风扇或鼓风机，用于输送空气，包括但不限于轴流式风扇、径向鼓风机、离心式空气泵、叶轮等。
[0044]如上所述，空气处理设备可包括光催化反应室(例如，在所示出的实施方式中的光催化反应室40、42)，该光催化反应室可包括多个光催化介质和光源，所述光源被布置为照亮至少一部分光催化介质，用于产生生成多个羟基的光催化反应。光催化反应室40、42有助于进行光催化氧化空气处理，用于杀灭和/或矿化细菌、霉菌、真菌、芽孢、真菌毒素、病毒、过敏原、其他相似的有机微生物或药剂和/或用于氧化挥发性有机化合物(VOC)。
[0045]与本公开一致，光催化反应室可包括光催化介质和光源。在由光源照明时，至少一部分光催化介质可产生通常可生成多个羟基的光催化反应。由光催化反应产生的羟基(0H-)通常大致进行表面结合(即，可沿着光催化介质的表面存在)，从而通常可不离开光催化反应室。在一些实施方式中，由光催化反应产生的羟基可在光催化介质上进行大约100%的表面结合。由于羟基可在光催化介质上大致进行表面结合，所以光催化氧化大致安全，例如，用于和/或与其结合使用的易腐产品、固定装置以及人类。例如，这可与使用臭氧的系统形成对比，该