专利名称：光学零件表面清洗剂的制作方法
技术领域：
本发明涉及清洗剂，尤其涉及一种光学零件表面清洗剂。
背景技术：
光学仪器在使用过程中，由于环境影响等因素，仪器中的光学零件表面 极容易沉积各种污染物，这些污染物会导致仪器的工作效率降低、精确度下 降以及光学零件寿命受损等问题的出现。特别是光学零件表面上沾染的颗粒 污染物，容易划伤光学零件，严重划伤会使光学零件报废。为此，行业内的 使用者，采用定期清洗光学零件的方法，维护光学零件表面的清洁度，以保 证光学仪器的工作效率和精确度，延长光学仪器的使用寿命。
目前，对光学零件表面进行清洗时，通常采用三氯乙烷来去除其表面沉
积的污染物，三氯乙烷的清洗效果虽然较为理想，但是其属于0DS类物质， 对臭氧层破坏程度严重，影响人类的生活环境，因此世界上发达国家已经停 止对其的生产和使用，我国也将于2007年底彻底停止对这类产品的生产和使 用。因此，目前亟待设计一种适用于光学仪器零件表面清洗用的新型非0DS 类清洗剂。
发明内容
本发明的主要目的在于克服现有产品存在的上述缺点，而提供一种光学 零件表面清洗剂，其为碱性水基清洗剂，对光学零件表面上沉积的污染物清 洗效果理想，腐蚀性小，不损坏体积较小而表面状态要求较高的精密光学零 件，不含有对人体有毒、有害的物质，便于废弃清洗剂的处理排放，符合环 境保护的要求；配方设计合理，制备工艺简单，成本较低。
本发明的目的是由以下技术方案实现的。
本发明光学零件表面清洗剂，其特征在于，包括PH调节剂、表面活性剂、 增溶剂、缓蚀剂以及纯水；其中，PH调节剂的重量百分比为1%至22%，表 面活性剂的重量百分比为1%至5%，增溶剂的重量百分比为1%至5 %，缓 蚀剂的重量百分比为1。％至5%，其余为纯水。
前述的光学零件表面清洗剂，其特征在于，所述PH调节剂为无机碱、有 机碱或者它们的组合。
前述的光学零件表面清洗剂，其特征在于，所述无机碱是氢氧化钾、氢 氧化钠或者氨水；所述有机碱是乙二胺、三乙醇胺、羟基乙二胺和三乙胺中 的一种或它们的组合。
前述的光学零件表面清洗剂，其特征在于，所述表面活性剂是非离子表 面活性剂，该非离子表面活性剂是聚氧乙烯醚类化合物、脂肪醇聚氧乙烯醚 类化合物中的一种或几种组合。
前述的光学零件表面清洗剂，其特征在于，所述聚氧乙烯醚类化合物是 N-(3-二甲胺基丙基)丙烯酰胺(NP-4)、 N-乙烯基-2-吡咯烷酮(NP-7)、甲基 丙烯酸(2-羟基)丙酯(NP-9)或者N-乙烯基已内酰胺(NP-6)。
前述的光学零件表面清洗剂，其特征在于，所述脂肪醇聚氧乙烯醚类化 合物是脂肪醇聚氧乙烯醚(JFC)、脂肪胺聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸 酯盐(AES)或月桂醇聚氧乙烯醚。
前述的光学零件表面清洗剂，其特征在于，所述增溶剂是甲醇、乙醇或 异丙醇。
前述的光学零件表面清洗剂，其特征在于，所述缓蚀剂是苯骈三氮唑、 硫脲或草酸。
本发明光学零件表面清洗剂的制备方法，其特征在于，首先按照重量比 例称取PH调节剂、表面活性剂、增溶剂、缓蚀剂及纯水，然后在纯水中分别 加入PH调节剂、表面活性剂、增溶剂、缓蚀剂后，加热搅拌至完全溶解，即 得成品。
前述的光学零件表面清洗剂的制备方法，其特征在于，所述加热温度为 80至100°C。 '
本发明光学零件表面清洗剂的有益效果，是一种适用于光学零件表面清 洗的碱性水基清洗剂，对光学零件表面上沉积的污染物清洗效果理想，腐蚀 性小，不易损坏体积较小且表面状态要求较高的精密光学零件，而且不含有 对人体有害的ODS物质，便于废弃清洗剂的处理排放，符合环境保护的要求； 配方设计合理，制备工艺简单，成本较低，有效地克服了现有技术采用三氯
乙垸清洗时存在的缺点。
具体实施例方式
本发明光学零件表面清洗剂，其包括PH调节剂、表面活性剂、增溶剂、 缓蚀剂以及纯水；其中，PH调节剂的重量百分比为1%至22%，表面活性剂 的重量百分比为1%至5%，增溶剂的重量百分比为1%至5 %，缓蚀剂的重 量百分比为1%至5%，其余为纯水。
本发明光学零件表面清洗剂，其中，PH调节剂为无机碱、有机碱或者它 们的组合；该无机碱是氢氧化钾、氢氧化钠或者氨水；该有机碱是乙二胺、 三乙醇胺、羟基乙二胺和三乙胺中的一种或它们的组合。
本发明光学零件表面清洗剂，其中，表面活性剂是非离子表面活性剂， 该非离子表面活性剂是聚氧乙烯醚类化合物、脂肪醇聚氧乙烯醚类化合物中 的一种或几种组合；该聚氧乙烯醚类化合物是N-(3-二甲胺基丙基)丙烯酰胺 (NP-4)、 N-乙烯基-2-吡咯烷酮(NP-7)、甲基丙烯酸(2-羟基)丙酯(NP-9)或 者N-乙烯基已内酰胺(NP-6);该脂肪醇聚氧乙烯醚类化合物是脂肪醇聚氧乙 烯醚(JFC)、脂肪胺聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸酯盐(AES)或月桂 醇聚氧乙烯醚。
本发明光学零件表面清洗剂，其中，增溶剂是甲醇、乙醇或异丙醇。 本发明光学零件表面清洗剂，其中，缓蚀剂是苯骈三氮唑、硫脲或草酸。 本发明光学零件表面清洗剂的制备方法，首先按照重量比例称取PH调节 剂、表面活性剂、增溶剂、缓蚀剂及纯水，然后在纯水中分别加入PH调节剂、 表面活性剂、增溶剂、缓蚀剂后，加热至80至10(TC，搅拌至完全溶解，即 得成品。
本发明的工作原理在于清洗剂可以完全溶解于水，在超声作用下能够 有效去除沉积在光学零件表面上各种污染物，然后通过喷淋和烘干使光学零 件表面洁净。
本发明光学零件表面清洗剂中含有缓蚀剂，它可以有效的减少PH调节剂 中有机碱或无机碱等碱性物质对光学零件表面的腐蚀，有效去除污染物且不 对清洗的光学零件表面造成损伤；清洗剂中含有的非离子表面活性剂能够降 低清洗溶液的表面张力，并且具有很强的渗透能力，使清洗剂能够渗透到光
学零件表面和污染物之间，将污染物托起，使其脱离光学零件表面，利于污
染物的去除；该非离子表面活性剂还可以实现优先吸附，并在光学零件表面 形成保护层，防止各种污染物的二次吸附；清洗剂中的增溶剂可以增加污染 物中油脂类有机污染物的溶解度，以提高清洗剂的清洗能力。本发明清洗剂 中不含有对人体和环境有害的、国家明令禁止的0DS类物质，因此，清洗后 的废液便于处理排放，能够满足环保三废排放要求。
本发明的优点是(1)清洗剂中选用增溶剂，能够提高对油脂等有机污 染物的溶解度，根据溶涨原理，溶解光学零件表面沉积的有机污染物，提高 清洗剂的清洗效果；(2)清洗剂中加入了的表面活性剂，能够降低清洗剂的 表面张力，增强清洗剂的渗透性，提高对光学零件表面的清洗效果；(3)清 洗剂中的表面活性剂还能够增强质量传递，保证清洗的均匀性，减少低对精 密光学零件表面的损伤；(4)清洗剂中合理配制缓蚀剂可以有效的减少PH 调节剂中有机碱或无机碱对光学零件表面的腐蚀性，有效去除污染物且不对 清洗零件造成损伤；(5)清洗剂呈碱性液体，对设备腐蚀性小，使用安全可 靠；(6)清洗剂中选用的化学试剂，不污染环境，不易燃烧，属于非破坏臭 氧层物质，清洗后的废液便于处理排放，能够满足环保三废排放要求；(7) 制备工艺简单，操作方便，使用安全可靠。
实施例1:配制1公斤清洗剂。
分别称取配制清洗剂重量为6%的氢氧化钾，5%的壬基酚聚氧乙烯醚，3 %的乙醇，3%的硫脲，余量为纯水，备用。
在纯水中分别加入前述比例的氢氧化钾、壬基酚聚氧乙烯醚、硫脲和乙 醇，加热至80°C，搅拌至完全溶解，即可得到成品清洗剂。该清洗液PH为 13，比重为1.050 g/cm3。
清洗时，步骤(1):取清洗剂清洗，清洗剂加入10至15倍去离子水放 入第一槽内，加热到50至70'C，将需清洗的光学零件放入第一槽，进行超声， 超声频率饽制在18KHz至80KHz，超声时间控制在1至5分钟；
步骤(2):用去离子水超声，将去离子水放入第二槽，加热到50至60°C， 将光学零件从一槽中取出；放入二槽，进行超声，超声频率控制在18KHz至 80KHz，超声时间控制在1至3分钟;''
步骤(3):喷淋，用常温的去离子水喷淋，时间为1至3分钟； 步骤(4):烘干，时间为3至5分钟。
上述所说步骤(4)中的烘干方式可以采用热风或红外进《亍，本实施例采 用热风烘干。
在放大50倍的显微镜下观察，没有残留并且光学零件表面无损伤，以达 到正常使用的目的。
本实施例中使用的设备均为现有技术，故不再进行赘述。
上述实施例中，清洗剂的配制，PH调节剂选用氢氧化钠或者氨水，或者 是乙二胺、三乙醇胺、羟基乙二胺和三乙胺中的一种或它们的组合；非离子 表面活性剂选用N-(3-二甲胺基丙基)丙烯酰胺(NP-4)、 N-乙烯基-2-吡咯烷 酮(NP-7)、甲基丙烯酸(2-羟基)丙酯(NP-9)或者N-乙烯基已内酰胺(NP-6)、 脂肪醇聚氧乙烯醚(JFC)、脂肪胺聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸酯盐 (AES)或月桂醇聚氧乙烯醚；增溶剂选用甲醇或异丙醇；缓蚀剂选用苯骈三 氮唑或草酸时，也可以达到同样的使用效果。
本发明和实施例中涉及和使用的脂肪醇聚氧乙烯醚类化合物中脂肪醇的 碳原子数为12至18。
以上所述，仅是本发明的较佳实施例而己，并非对本发明作任何形式上 的限制，凡是依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等 同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。
权利要求
1.一种光学零件表面清洗剂，其特征在于，包括PH调节剂、表面活性剂、增溶剂、缓蚀剂以及纯水；其中，PH调节剂的重量百分比为1％至22％，表面活性剂的重量百分比为1％至5％，增溶剂的重量百分比为1％至5％，缓蚀剂的重量百分比为1％至5％，其余为纯水。
2、 根据权利要求1所述的光学零件表面清洗剂，其特征在于，所述PH 调节剂为无机碱、有机碱或者它们的组合。
3、 根据权利要求2所述的光学零件表面清洗剂，其特征在于，所述无机 碱是氢氧化钾、氢氧化钠或者氨水；所述有机碱是乙二胺、三乙醇胺、轻基 乙二胺和三乙胺中的一种或它们的组合。
4、 根据权利要求l所述的光学零件表面清洗剂，其特征在于，所述表面 活性剂是非离子表面活性剂，该非离子表面活性剂是聚氧乙烯醚类化合物、 脂肪醇聚氧乙烯醚类化合物中的一种或几种组合。
5、 根据权利要求4所述的光学零件表面清洗剂，其特征在于，所述聚氧 乙烯醚类化合物是N-(3-二甲胺基丙基)丙烯酰胺(NP-4)、 N-乙烯基-2-吡咯 烷酮(NP-7)、甲基丙烯酸(2-羟基)丙酯(NP-9)或者N-乙烯基已内酰胺(NP-6)。
6、 根据权利要求4所述的光学零件表面清洗剂，其特征在于，所述脂肪 醇聚氧乙烯醚类化合物是脂肪醇聚氧乙烯醚(JFC)、脂肪胺聚氧乙烯醚、脂肪 醇聚氧乙烯醚硫酸酯盐(AES)或月桂醇聚氧乙烯醚。
7、 根据权利要求1所述的光学零件表面清洗剂，其特征在于，所述增溶 剂是甲醇乙醇或异丙醇。
8、 根据权利要求1所述的光学零件表面清洗剂，其特征在于，所述缓蚀 剂是苯骈三氮唑、硫脲或草酸。.
9、 权利要求1所述的光学零件表面清洗剂的制备方法，其特征在于，首 先按照重量比例称取PH调节剂、表面活性剂、增溶剂、缓蚀剂及纯水，然后 在纯水中分别加入PH调节剂、表面活性剂、增溶剂、缓蚀剂后，加热搅拌至 完全溶解，即得成品。
10、 根据权利要求9所述的光学零件表面清洗剂的制备方法，其特征在 于，所述加热温度为80至100'C。
全文摘要
本发明提供一种光学零件表面清洗剂，其包括pH调节剂、表面活性剂、增溶剂、缓蚀剂以及纯水；其中，pH调节剂的重量百分比为1％至22％，表面活性剂的重量百分比为1％至5％，增溶剂的重量百分比为1％至5％，缓蚀剂的重量百分比为1％至5％，其余为纯水；适用于光学零件表面污垢的清洗，配方设计合理，制备工艺简单，成本较低，使用安全方便，清洗废液便于处理和排放，符合环境保护要求。
文档编号C11D3/34GK101368137SQ20071005875
公开日2009年2月18日 申请日期2007年8月15日 优先权日2007年8月15日
发明者仲跻和 申请人:江苏海迅实业集团股份有限公司