专利名称：一种半导体闭管扩散用石英管的清洗装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一半导体闭管扩散工艺装置，尤其涉及一种半导体闭管扩 散用石英管的清洗装置。
背景技术：
在半导体闭管扩散工艺中，常常用到单端开口的细长石英管。这是因为石 英管不仅在高温下物理、化学性质极其稳定，不会向扩散蒸汽中引入杂质，而 且膨胀系数极小，能够承受剧烈的温度变化，容易烧结。但是由于扩散工艺对 石英管洁净度要求特别严格，不允许石英管的管壁有其他杂质金属或离子存在， 所以石英管的清洗，.就成了一项比较烦琐但十分重要的工艺。目前石英管的清 洗一般采用人工清洗，分三个步骤进行第一步，将石英管放在清洗液(重铬 酸钾的浓硫酸溶液)或王水(浓硝酸和浓盐酸的混合液)中浸泡至少24小时； 第二步，用去离子水反复清洗；第三步，放在洁净环境中烘干。其中第二步中 用去离子水清洗石英管时耗时长，因为细长石英管口径不能太粗，通常为 Ll 1.2cm，这种单端开口的细长石英管在注满去离子水后，在水的表面张力及 外界大气压的作用下，很难将管内的去离子倒出，加上对石英管很高的洁净度 要求， 一般要清洗30~50次，所以清洗一根细长石英管需要的时间很长，石英 管的数量越多，耗时就越长。这样重复性的劳动给操作人员带来的是较大的劳 动强度，并且容易出现失误，导致整个清洗工序的质量无法保证。发明内容本发明目的为克服以上缺点，本实用新型提供种结构简单的半导体闭管扩散用石英管的清洗装置，说明书第2/3 一次可同时清洗多只细长石英管，清洗效率高， 清洗彻底，可以降低工人劳动强度。为实现以上发明目的，本实用新型提供一种半导体闭管扩散用石英管的清 洗装置，包括 一带支架脚的上部开口清洗筒，该清洗筒的底部设有第一台阶 用于活动放置一底盘，该底盘均匀地设有多个与石英管底部相适配的凹孔和多 个第一透水孔，所述清洗筒中部设有第二台阶用于活动放置一托盘，该托盘也 均匀地设有多个与所述凹孔相对应的通孔和多个第二透水孔，所述凹孔和通孔 使多只待清洗的细长石英管开口向上地直立于所述开口清洗筒内； 一底部带多 个细长插管的去离子水容器活动置放于所述开口清洗筒的上部边缘上，该容器 的每个细长插管可对应地插入于清洗筒内的各细长石英管内，使去离子水顺畅 地注满细长石英管后溢出，由第一透水孔和第二透水孔向下排出至清洗筒外。所述开口清洗筒设有第一对位标记，该对位标记与所述底盘和托盘分别设 有的第二对位标记和第三对位标记相对应，使所述底盘和托盘对准放置。所述清洗筒的筒壁四周均布有多个透水孔。由于上述清洗筒内设有可一次性容纳多只细长石英管的底盘和托盘，且清 洗液可自动地由去离子水容器注入细长石英管内，而石英管内的杂质将随清洗 液自动地溢出后，再经清洗筒排出，这样便使石英管在去离子水清洗工序中可 以极大地縮短清洗时间，从而使整个清洗工作效率得到提高，同时还降低了工 人劳动强度。
图1表示本实用新型的半导体闭管扩散用石英管的清洗装置的剖面示意图；图2表示图l所示的上部开口清洗筒立体示意图；图3表示图1所示的底盘立体示意图；图4表示图1所示的托盘立体示意图；图5表示图1所示的去离子水容器立体示意图。
具体实施方式
如图1所示的半导体闭管扩散用石英管的清洗装置，包括 一如图2所示 的带支架脚11的上部开口清洗筒1，该清洗筒的底部设有第一台阶14用于活动放置一如图3所示的底盘2，该底盘均匀地设有多个与石英管底部相适配的凹孔 21和多个第一透水孔22，该清洗筒中部设有第二台阶15用于活动放置一如图4 所示的托盘3，该托盘也均匀地设有多个与凹孔21相对应的通孔31和多个第二 透水孔32，凹孔21和通孔31使多只待清洗的细长石英管5开口向上地直立于 所述清洗筒1内； 一如图5所示底部带多个细长插管41的去离子水容器4，该 容器活动置放于所述开口清洗筒1的上部边缘12上，该容器的每个细长插管41 可对应地插入于清洗筒1内的各细长石英管5内，使去离子水顺畅地注满细长 石英管5后溢出，由第一透水孔22和第二透水孔32排出至清洗筒1夕卜。开口清洗筒1还设有第一对位标记13，与底盘2和托盘3分别设有的第二 对位标记23和第三对位标记33相对应，使底盘和托盘对准第一对标记13放置 于清洗筒1内。该清洗装置的具体使用方法为如下首先将底盘2放置于清洗筒1的第一 台阶14上，使第二位标记23与第一对位标记13对准；然后将托盘3放置于第 二台阶15上，使第三位标记33与第一对位标记13对准；将多只细长石英管5 由上自下地插入于通孔31和凹孔21，再将去离子水容器4下部的多个细长插管 41插入石英管5内。容器4内的去离子水由上自下地通过插管41注入于石英管 5内，管内溢出的液体通过第一透水孔22和第二透水孔32向下排出至清洗筒1 外。为了更快地使清洗液排出，清洗筒1的筒壁四周还可设有多个透水孔。
权利要求1、一种半导体闭管扩散用石英管的清洗装置，其特征在于，包括一带支架脚(11)的上部开口清洗筒(1)，该清洗筒的底部设有第一台阶(14)用于活动放置一底盘(2)，该底盘均匀地设有多个与石英管底部相适配的凹孔(21)和多个第一透水孔(22)，所述清洗筒中部设有第二台阶(15)用于活动放置一托盘(3)，该托盘也均匀地设有多个与所述凹孔(21)相对应的通孔(31)和多个第二透水孔(32)，所述凹孔(21)和通孔(31)使多只待清洗的细长石英管(5)开口向上地直立于所述开口清洗筒(1)内；一底部带多个细长插管(41)的去离子水容器(4)活动置放于所述开口清洗筒(1)的上部边缘(12)上，该容器的每个细长插管(41)可对应地插入于清洗筒(1)内的各细长石英管(5)内，使去离子水顺畅地注满细长石英管(5)后溢出，由第一透水孔(22)和第二透水孔(32)向下排出至清洗筒(1)外。
2、 根据权利要求1所述的半导体闭管扩散用石英管的清洗装置，其特征在 于，所述开口清洗筒(1)设有第一对位标记(13)，该对位标记与所述底盘(2) 和托盘(3)分别设有的第二对位标记(23)和第三对位标记(33)相对应，使 所述底盘和托盘对准放置。
3、 根据权利要求1所述的半导体闭管扩散用石英管的清洗装置，其特征在 于，所述清洗筒(1)的筒壁四周均布有多个透水孔。
专利摘要本实用新型提供一种半导体闭管扩散用石英管的清洗装置，包括一带支架脚的上部开口清洗筒，该清洗筒的底部设有第一台阶用于活动放置一底盘，该底盘均匀地设有多个与石英管底部相适配的凹孔和多个第一透水孔，清洗筒中部设有第二台阶用于活动放置一托盘，该托盘也均匀地设有多个与所述凹孔相对应的通孔和多个第二透水孔，凹孔和通孔使多只待清洗的细长石英管开口向上地直立于开口清洗筒内；一底部带多个细长插管的去离子水容器活动置放于所述开口清洗筒的上部边缘上，该容器的每个细长插管可对应地插入于清洗筒内的各细长石英管内，使去离子水顺畅地注满细长石英管后溢出，由第一透水孔和第二透水孔向下排出至清洗筒外。清洗效率高，清洗时间短。
文档编号B08B9/02GK201108908SQ20072017137
公开日2008年9月3日 申请日期2007年12月7日 优先权日2007年12月7日
发明者曹均凯, 王国栋 申请人:深圳新飞通光电子技术有限公司