液晶模组端子清洗设备及其清洗方法

文档序号:1494921阅读:643来源:国知局
专利名称:液晶模组端子清洗设备及其清洗方法
技术领域
本发明涉及一种端子清洗设备及其清洗方法,特别是涉及一种液晶模组端子清洗
设备及其清洗方法。
背景技术
液晶模组制程组装工艺需要对端子进行清扫,其目的是除去端子部的有机物和大
颗粒尘埃。目前的清扫有干法清扫和湿法清洗两种,清扫方式主要有高压空气吹扫(Air
blow),酒精+擦拭布,丙酮+擦拭布,超声波水洗,等离子(Plasma)等。 目前模块工程中采用的端子洗净方式通常是先用高压空气吹扫端子部,然后再用
沾有酒精的洁净布擦拭。其中,高压空气吹扫需要为设备提供压縮空气,并且吹扫过程会影
响设备本体内部的洁净度。酒精擦拭或者丙酮擦拭方式会不仅消耗酒精/丙酮,同时还消
耗擦拭布,并且设备结构也比较复杂。 图1是是现有的高压空气吹扫加酒精擦拭方式示意图,请参见图l,该方式先通过 真空吹风设备3将基板1端子部大颗粒异物吹走,然后使用酒精擦拭布2带走端子部的有 机物以达到清扫的目的。图2现有的高压空气吹扫加酒精擦拭设备示意图,请继续参见图 2,为达到清扫目的,该设备包括真空吹风设备3和酒精和擦拭布供给单元。其中,真空吹风 设备3包括压縮空气提供单元和抽真空单元;酒精和擦拭布供给单元包括分液器4和储液 罐6,设备结构比较复杂。

发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种液晶模组端子清洗设备及其清洗方法,简 化设备结构,节省生产耗材。 本发明为解决上述技术问题而采用的技术方案是提供一种液晶模组端子清洗设 备,包括超声波喷头和清洗液供给单元,其中,所述清洗液供给单元提供酒精或丙酮。
上述的液晶模组端子清洗设备,所述清洗液供给单元包括分液器和储液罐。
本发明为解决上述技术问题还提供一种上述设备的清洗方法,清洗时,所述超声 波喷头距离清洗面0. 5mm 4mm。 上述的液晶模组端子清洗方法,清洗时环境温度为23士3t:,相对湿度为55% ±5%。 本发明对比现有技术有如下的有益效果本发明提供的液晶模组端子清洗设备及 其清洗方法,可以使清扫设备结构变的简单,节省生产耗材, 一种清洗方式可以同时除去端 子部的有机物和大颗粒尘埃,且不增加工艺时间。


图1是现有的高压空气吹扫加酒精擦拭方式示意图;
图2是现有的高压空气吹扫加酒精擦拭设备示意 图3是本发明的超声波加酒精或丙酮擦拭方式示意图; 图4是本发明的超声波加酒精或丙酮擦拭设备示意图。 图中 l基板 2擦拭布 3真空吹风设备 4分液器 5喷嘴 6储液罐 7接线板 8超声波喷头
具体实施例方式
下面结合附图及典型实施例对本发明作进一步说明。 图3是本发明的超声波加酒精或丙酮擦拭方式示意图,图4是本发明的超声波加 酒精或丙酮擦拭设备示意图。 请参见图3,本发明的超声波酒精/丙酮清扫端子方式,超声波是比较成熟的技 术,使用成熟的超声波喷头8,内注酒精或者丙酮,对端子部大颗粒异物和有机物进行清洗。 请继续参见图4,本发明的超声波加酒精或丙酮擦拭设备只需要超声波喷头8和酒精/丙酮 供给单元,酒精/丙酮供给单元包括分液器4和储液罐6,储液罐6内放置酒精或丙酮,设备 结构简单。 本发明和现有的高压空气吹扫加酒精擦拭相比,不但可以使清扫设备结构变的简 单,而且不需要消耗擦拭布,节省生产成本。如果直接采用超声波水洗,由于液晶模组端子 的很多残留物是有机物,因此不易清洗干净,而且使用水不易干燥,增加了工艺时间,使得 生产节拍变长,产能降低。为防止大颗粒异物划伤端子,清洗时,超声波头距离清洗面距离 不可小于O. 3mm。综合考虑上述设备对大颗粒和有机物清洗效果,超声波头距离清洗面距离 最好保持在O. 5mm-4mm之间。此外,清洗时及清洗后的端子表面应处于正常洁净房环境,温 度最好为23士3t:,相对湿度为55% ±5%,既保证端子快速干燥,又不增加工艺时间。
虽然本发明已以较佳实施例揭示如上,然其并非用以限定本发明,任何本领域技 术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,当可作些许的修改和完善,因此本发明的保护范 围当以权利要求书所界定的为准。
权利要求
一种液晶模组端子清洗设备,包括超声波喷头和清洗液供给单元,其特征在于,所述清洗液供给单元提供酒精或丙酮。
2. 根据权利要求1所述的液晶模组端子清洗设备,其特征在于,所述清洗液供给单元 包括分液器和储液罐。
3. —种如权利要求1所述的液晶模组端子清洗设备的清洗方法,其特征在于,清洗时, 所述超声波喷头距离清洗面0. 5mm 4mm。
4. 根据权利要求3所述的清洗方法,其特征在于,清洗时环境温度为23±3°C ,相对湿 度为55% ±5%。
全文摘要
本发明涉及一种液晶模组端子清洗设备及其清洗方法,该清洗设备包括超声波喷头和清洗液供给单元,其中,所述清洗液供给单元提供酒精或丙酮。本发明提供的液晶模组端子清洗设备及其清洗方法,只需要超声波喷头和清洗液供给单元,设备结构简单,降低清洗成本。
文档编号B08B3/08GK101695698SQ20091019746
公开日2010年4月21日 申请日期2009年10月21日 优先权日2009年10月21日
发明者王丹奎 申请人:上海广电光电子有限公司;
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