专利名称：具紫外线吸收官能基的高分子微粒及含该高分子微粒的化妆料的制作方法
技术领域：
本发明是关于一种抗紫外线高分子微粒，可应用于防晒化妆料。
背景技术：
一般来说，防晒分为化学防晒和物理防晒两种。化学防晒主要通过紫外线吸收剂来吸收紫外线能量，将其转换为一种较低的能量形态释放出来，来达到防晒目的；物理防晒则主要通过一些无机的紫外线遮蔽剂如氧化锌(aio)或二氧化钛(Tio2),将损害皮肤的紫外线折射、反射、或散射回去，以达到防晒目的。化学防晒和物理防晒的最大区别是这些成份对皮肤的影响。化学防晒成份通常经上皮组织吸收，最终由人体代谢，有时会引起过敏反应。物理防晒成份则存留在皮肤表面，不会被吸收，也不由身体代谢，故较无过敏问题。但理论上，物理防晒成份的防晒效果远不如化学防晒剂所具有的防护能力。防晒产品中单独使用物理防晒成份者并不多，因需要加入的量较多，且不易溶解调制。因此大多数防晒产品皆是物理防晒成分与化学防晒成分混合使用，以降低产品调制困难度并提高产品的防晒效果。化妆产品中常使用球状高分子微粒，如含有内包金属氧化物的树脂粉体化妆料 (特开平9-208437号公报)，上述含有内包金属氧化物的树脂粉体，具紫外线遮蔽能力，属于物理性防晒产品。中国台湾专利公告1231216号叙述含有平均粒径为5 40 μ m的球状复合聚合体粒子的化妆料，该球状复合聚合体粒子是以球状有机高分子包覆平均粒径为0. 12 5. Oym的白色无机颜料，例如为氧化铝、氧化钙、氧化镁、氧化锌、氧化锆、氧化钛(金红石 (rutile)型及锐钛矿(anatase)型等)等金属氧化物，属于物理性防晒剂。为防止紫外线对皮肤的不利影响，已有包含紫外线吸收剂或抗紫外线粉体的防晒化妆料被使用。中国台湾专利证书154694号叙述一种难溶性紫外线吸收剂包覆处理粉末， 是将室温下溶解度仅为2%以下的肉豆寇酸异丙酯作为难溶性紫外线吸收剂包覆在无机粉体或有机粉体表面而成。其方法是将难溶性紫外线吸收剂加温熔融与无机粉体或有机粉体混合，然后进行渐冷，以将难溶性紫外线吸收剂包覆于该粉体表面；或通过机械化学法，以将难溶性紫外线吸收剂吸着或包覆在无机粉体或有机粉体表面而得出难溶性紫外线吸收剂包覆处理粉末。美国专利5，372，804号叙述的化妆品组合物将至少一种防晒剂保持在聚合物乳胶粒子内或其上。所用聚合物乳胶粒子属良好成膜性的任何聚合物质，其大小约 lO-lOOOnm，聚合物乳胶粒子可是固体或多孔材质。此专利以聚合物乳胶粒子为载体将防晒剂包覆在粒子内或吸附在粒子表面。然而，此方法有防晒剂从化妆品游离出来造成皮肤刺激的问题。中国台湾专利公告536406号叙述一种光稳定防晒组成物，是使二苯酰基甲烷的 UV-A防晒剂与ρ-甲氧基肉桂酸酯的UV-B防晒剂的混合物掺进一聚合物乳胶内。然而，此方法仍有防晒剂从聚合物乳胶中游离出来造成皮肤刺激的问题。综上所述，上述专利皆有防晒剂从化妆品粉末或微粒游离出来的问题。
发明内容
本发明为了克服上述现有技术中防晒剂易从化妆品粉末或微粒游离出来的缺点， 特别利用紫外线吸收剂与其它可制备高分子微粒的反应性单体进行微粒合成，以制备具紫外线吸收官能基的高分子微粒。本发明提供的具紫外线吸收官能基的高分子微粒，是通过反应型紫外线吸收剂、 交联剂与反应性单体进行微粒合成而获得。其中，反应型紫外线吸收剂的质量相对于高分子微粒的质量为至90%。本发明的高分子微粒为交联结构并含有吸收紫外线的官能基。本发明高分子微粒的平均粒径为0. 5 100 μ m的球状粒子，较佳为1至60 μ m的球状粒子。本发明的高分子微粒不溶于化妆品使用的溶剂，故可使用于液态化妆品如乳液等，或固态化妆品如粉饼等，并可提供优良的皮肤触感。反应型紫外线吸收剂可为下列结构，但并不以此结构为限制，含有反应性双键(Double bond)的紫外线吸收剂即可应用于本发明。
权利要求
1.一种具紫外线吸收官能基的高分子微粒，其特征在于该高分子微粒是通过反应型紫外线吸收剂、交联剂与反应性单体进行微粒合成而获得。
2.如权利要求1的具紫外线吸收官能基的高分子微粒，其中，该高分子微粒的平均粒径为0. 5 100 μ m的球状粒子。
3.如权利要求1的具紫外线吸收官能基的高分子微粒，其中，该高分子微粒的平均粒径为1至60 μ m的球状粒子。
4.如权利要求1的具紫外线吸收官能基的高分子微粒，其中，该高分子微粒为交联结构并含有吸收紫外线的官能基。
5.如权利要求4的具紫外线吸收官能基的高分子微粒，其中，该吸收紫外线的官能基为三嗪、苯并三唑、二苯甲酮的衍生物。
6.如权利要求1的具紫外线吸收官能基的高分子微粒，其中，该反应型紫外线吸收剂的质量相对于高分子微粒的质量为至90%。
7.如权利要求1的具紫外线吸收官能基的高分子微粒，其中，该反应型紫外线吸收剂含有反应性双键的化学结构。
8.如权利要求1的具紫外线吸收官能基的高分子微粒，其中，该反应性单体呈现疏水性质。
9.如权利要求1的具紫外线吸收官能基的高分子微粒，于微粒合成时还使用引发剂、 以及稳定剂或表面活性剂。
10.一种化妆料，是含有如权利要求1至9中任一项的具紫外线吸收官能基的高分子微粒者。
11.如权利要求10的化妆料，其中，该高分子微粒的调配量为0.5至100质量％。
全文摘要
本发明涉及一种具紫外线吸收官能基的高分子微粒，其为使用反应型紫外线吸收剂与反应性单体进行微粒合成。该微粒具有抗紫外线功能。此微粒为平均粒径0.5～100μm的球状高分子微粒，该球状高分子微粒为交联结构并含有吸收紫外线的官能基。本发明还涉及含该高分子微粒的化妆料。
文档编号A61Q17/04GK102219877SQ201010164468
公开日2011年10月19日 申请日期2010年4月16日 优先权日2010年4月16日
发明者林宏昌, 林明贤 申请人:双键化工股份有限公司, 品青企业股份有限公司