专利名称：一种具有冷却系统的紫外线表面处理器的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种具有冷却系统的紫外线表面处理器。
背景技术：
一般地，需要提高成品率的半导体器件、液晶显示元件、光学制品的制造中，需要对其表面进行清洗以去除工件表面的污渍及改善其表面的接着性、附着性。传统的技术使用湿法清洗，在工作的表面施以药液使其与工作表面的污渍发生反应，在这样的传统工艺下，在其反应后需要对工作表面的药液残留物进行清洗。在清洗的过程中会产生新的污染。 在此基础上产生了干法光表面的处理技术。近年来由于大功率超高出力低气压UV放电管开发的进展，以及随着微电子等产品的超微细化，在微电子、超精密器件等产品的制造过程中，由短波长紫外线及其产生的臭氧对其产品的表面进行超精密清洗或改善其表面的接着性、附着性的干式光表面处理技术的实用化进展得很快。作为氟里昂的替代技术，光表面清洗技术将逐渐代替湿法的清洗技术。然而，在现有的干法清洗中，依然存在以下问题1、UV 的照度小，不能集中大量的紫外线进行表面清洗；2、臭氧浓度低，无法充分发挥臭氧的超强氧化作用；3、臭氧分布不均，对表面清洗的效果不均勻；4、发热温度高对处理对象产生影响；5、臭氧排出量大，排出后要考虑对周围人员环境产生的不利影响，有时甚至需要用活性碳等措施来消除。因此，需要研制一种能够克服以上缺点，有效对物品表面进行清洗同时也能改善其表面接着性、附着性的清洗设置为当前业界所急需。
实用新型内容本实用新型的目的是提供一种用于物体表面清洗和除锈的两相流激波装置，其由于采用冷却装置，进而使得臭氧可在冷却后再进入照射室，可以降低放电管及照射室内空气的温度，使得放电管的输出量最大化；同时配合主壳体上的出气口、导管及进气口等设置，会使空气循环进入主壳体，从而臭气浓度增加，使处理效果增加，并减少向外排出臭氧的量。本实用新型采用的技术方案一种具有冷却系统的紫外线表面处理器，它包括主壳体、主壳体内部形成照射室， 主壳体内部上方设有反射板，反射板下方为放电管，放电管下方具有放置需要处理的物品的工作台，主壳体上开设有出气口和进气口，且出气口与进气口之间通过导管串接抽气泵和冷却装置，反射板上开设有若干透气孔，主壳体两侧面具有柔性挡板。本实用新型取得的技术效果1、由于采用冷却装置，进而使得臭氧可在冷却后再进入照射室，可以降低放电管及照射室内空气的温度，使得放电管的输出量最大化；同时配合主壳体上的出气口、导管及进气口等设置，会使空气循环进入主壳体，从而臭气浓度增加，使处理效果增加，并减少向外排出臭氧的量。
图1为本实用新型的结构示意图；图2为主壳体拆口后的结构示意图；图3为图1在A-A处的剖视放大图；图4为反射板的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的实施方式做进一步的说明。参见图1-4，一种具有冷却系统的紫外线表面处理器，它包括主壳体1、主壳体内部形成照射室19，主壳体内部上方设有反射板4，反射板下方为放电管2，放电管下方具有放置需要处理的物品的工作台3，主壳体上开设有出气口 11和进气口 13，且出气口与进气口之间通过导管5串接抽气泵12和冷却装置14，反射板上开设有若干透气孔41，主壳体两侧面具有柔性挡板6。本实用新型的保护范围并不限于上述的实施例，显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变形而不脱离本实用新型的范围和精神。倘若这些改动和变形属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围内，则本实用新型的意图也包含这些改动和变形在内。
权利要求1. 一种具有冷却系统的紫外线表面处理器，其特征在于它包括主壳体(1)、主壳体内部形成照射室(19)，主壳体内部上方设有反射板G)，反射板下方为放电管O)，放电管下方具有放置需要处理的物品的工作台(3)，主壳体上开设有出气口(11)和进气口(13)，且出气口与进气口之间通过导管( 串接抽气泵(1 和冷却装置(14)，反射板上开设有若干透气孔(41)，主壳体两侧面具有柔性挡板(6)。
专利摘要本实用新型涉及一种具有冷却系统的紫外线表面处理器，它包括主壳体、主壳体内部形成照射室，主壳体内部上方设有反射板，反射板下方为放电管，放电管下方具有放置需要处理的物品的工作台，主壳体上开设有出气口和进气口，且出气口与进气口之间通过导管串接抽气泵和冷却装置，反射板上开设有若干透气孔，主壳体两侧面具有柔性挡板。由于采用冷却装置，进而使得臭氧可在冷却后再进入照射室，可以降低放电管及照射室内空气的温度，使得放电管的输出量最大化；同时配合主壳体上的出气口、导管及进气口等设置，会使空气循环进入主壳体，从而臭气浓度增加，使处理效果增加，并减少向外排出臭氧的量。
文档编号B08B7/00GK202097163SQ20112014450
公开日2012年1月4日 申请日期2011年5月6日 优先权日2011年5月6日
发明者李青晓 申请人:宁波表面工程研究中心