专利名称：可消毒的熏蒸足浴盆的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及足浴保健领域，特别涉及一种可消毒的熏蒸足浴盆。
背景技术：
脚部是人体经络汇聚的地方之一，具有运行气血、联络脏腑、沟通内外、贯穿上下的功能，每个人双脚上有60余个穴位，均与全身器官有相应关系。用中药熏蒸足部时，通过药物的热辐射作用，使血管扩张，血液循环改善。药物经熏蒸作用于足部后，其挥发性成分经皮肤吸收，局部可保持较高的浓度，能长时间发挥作用，对改善血管的通透性和血液循环，加快代谢产物排泄，促进炎性致痛因子吸收，提高机体防御及免疫能力、松弛脚腿部肌肉、关节和皮下组织，促进功能恢复具有积极的作用。介于此，市场上琳琅满目的中药熏蒸足浴用品很多，但是使用过后，足部分泌的汗液、皮脂和脱落的皮屑等粘附在足浴器表面和槽内，虽然通过冲洗、清洁会清理掉大部分，但残留的细菌诸如革兰氏阳性菌、革兰氏阴性菌以及古细菌等会以惊人的速度繁殖。加之，细菌主要是在环境中附着，细菌的生存和繁殖需要水分、氧气、二氧化碳、矿物质和营养物质以及合适的温度。普通的熏蒸足浴器则具备了上述细菌所需要的条件，导致细菌滋生。这些细菌中，小部分对人体无害，但绝大部分是致病或条件致病菌。如此高密度的微生物在熏蒸足浴器内，而且含有大量的害菌，对人体， 对脚部的危害是可想而知的。虽然经常性的使用日晒的方式可以减轻微生物危害，但无法根除并非常牵扯精力，而且严重影响熏蒸足浴器的使用寿命。因此急需提供一种带杀菌消毒功能的熏蒸足浴盆。
发明内容本实用新型的主要目的是提供一种带杀菌消毒功能的可消毒的熏蒸足浴盆，为阻止足浴器中的细菌危害，更全面有效的促进脚部健康。本实用新型提出一种可消毒的熏蒸足浴盆，包括足浴盆体和机体，所述足浴盆体安装在所述机体之上，所述机体包括水箱、蒸汽发生装置和单片机，所述盆体包括盆腔、控制面板及按摩珠，还包括用于杀菌消毒的臭氧发生装置。优选地，所述臭氧发生装置为高压放电式、紫外线照射式或电解式的臭氧发生器。优选地，所述控制面板上设置有控制所述臭氧发生装置开关的消毒开关。优选地，所述臭氧发生装置安装在所述机体内。本实用新型可消毒的熏蒸足浴盆带有的臭氧发生装置能够发出臭氧，臭氧能氧化分解细菌内部葡萄糖所需的酶，使细菌死亡，而且臭氧直接与细菌、病毒作用，能够破坏它们的细胞器和DNA、RNA，使细菌的新陈代谢受到破坏，导致细菌死亡，用臭氧对可消毒的熏蒸足浴盆进杀菌消毒，有效地阻止了足浴盆中的细菌危害；而且臭氧是气体，能迅速弥漫到整个足浴盆中，灭菌无死角，更全面有效杀灭细菌和病毒，促进脚部健康。
[0010]图1为本实用新型的可消毒的熏蒸足浴盆的一实施例结构示意图；图2为本实用新型的可消毒的熏蒸足浴盆的臭氧发生装置的一连接示意图。本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。参照图1和图2，提出本实用新型可消毒的熏蒸足浴盆的一实施例，所述熏蒸足浴盆包括足浴盆体1和机体2，所述足浴盆体1安装在所述机体2之上，所述机体2包括蒸汽发生装置4、用来给所述蒸汽发生装置4供水的水箱3和单片机；所述盆体1包括盆腔6，用于控制足浴盆各种功能的控制面板7和用于脚底按摩的按摩珠8，所述控制面板7设置于盆体1外表面。由于在使用足浴盆时，足部分泌的汗液、皮脂和脱落的皮屑等粘附在足浴盆表面、 所述盆腔6以及所述按摩珠8上，虽然通过冲洗、清洁会清理掉大部分，但残留的细菌诸如革兰氏阳性菌、革兰氏阴性菌以及古细菌等会以惊人的速度繁殖。这些细菌中，小部分对人体无害，但绝大部分是致病或条件致病菌。如此高密度的微生物在熏蒸足浴器内，而且含有大量的害菌，对人体，对脚部的危害是可想而知的。而臭氧能氧化分解细菌内部葡萄糖所需的酶，使细菌死亡，而且臭氧直接与细菌、病毒作用，能够破坏它们的细胞器和DNA、RNA,使细菌的新陈代谢受到破坏，导致细菌死亡。因此在所述足浴盆中安装了一种能够发生臭氧的臭氧发生装置5，所述臭氧发生装置5为高压放电式、紫外线照射式或电解式的臭氧发生器。所述臭氧发生装置5安装在所述机体2内，且分别与所述控制面板7及电源连接，在所述控制面板上设置有控制所述臭氧发生装置开关的消毒开关。按下所述控制面板7上的消毒开关，启动臭氧发生装置5，使其喷出臭氧，用臭氧对熏蒸足浴盆进杀菌消毒，有效地阻止足浴盆中的细菌危害；而且臭氧是气体，能迅速弥漫到整个足浴盆中，灭菌无死角，更全面有效杀灭细菌病和毒，促进脚部健康。以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围， 凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
权利要求1.一种可消毒的熏蒸足浴盆，其特征在于，包括足浴盆体和机体，所述足浴盆体安装在所述机体之上，所述机体包括水箱、蒸汽发生装置和单片机，所述盆体包括盆腔、控制面板及按摩珠，还包括用于杀菌消毒的臭氧发生装置。
2.根据权利要求1所述的可消毒的熏蒸足浴盆，其特征在于，所述臭氧发生装置为高压放电式、紫外线照射式或电解式的臭氧发生器。
3.根据权利要求1或2所述的可消毒的熏蒸足浴盆，其特征在于，所述控制面板上设置有控制所述臭氧发生装置开关的消毒开关。
4.根据权利要求3所述的可消毒的熏蒸足浴盆，其特征在于，所述臭氧发生装置安装在所述机体内。
专利摘要本实用新型公开一种可消毒的熏蒸足浴盆，包括足浴盆体和机体，所述足浴盆体安装在所述机体之上，所述机体包括水箱、蒸汽发生装置和单片机，所述盆体包括盆腔、控制面板及按摩珠，还包括用于杀菌消毒的臭氧发生装置。该臭氧发生装置能够发出臭氧，臭氧能氧化分解细菌内部葡萄糖所需的酶，使细菌死亡，而且臭氧直接与细菌、病毒作用，能够破坏它们的细胞、DNA和RNA，有效地阻止了足浴盆中的细菌危害，全面有效杀灭细菌和病毒，促进脚部健康。
文档编号A47K3/022GK202235029SQ20112032807
公开日2012年5月30日 申请日期2011年9月2日 优先权日2011年9月2日
发明者何启烽 申请人:中山市康柏力电子科技有限公司