一种基板清洗装置制造方法
【专利摘要】本发明涉及一种基板清洗装置，具体地讲涉及一种半导体工艺中的基板清洗装置。该清洗装置包括清洗刷和刷架，所述刷架为长方体状，并垂直于所述基板的传送方向设置，所述刷架的相对于所述基板的一面上设置有所述清洗刷。本发明的基板清洗装置有效增大了清洗刷与基板间的接触面积，增强了清洗效果，从而降低了清洗剂的消耗量，节约了工艺成本。
【专利说明】一种基板清洗装置
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种基板清洗装置，具体地讲涉及一种半导体工艺中的基板清洗装置。
【背景技术】
[0002]半导体工艺对清洁度和联结有效性有很大的要求，因此，生产过程中需要对基板进行表面清洗，以减少基板表面的颗粒、油污、斑点等表面异物，从而提高基板的表面附着力。
[0003]清洗原理:清洗剂中的有机分子通常含有亲水基和憎水基，根据“物质结构相似者相溶”，当有油污存在时，有机分子憎水基一端与油吸引，亲水基一端朝向水，形成一层薄膜将小油滴包围，阻止小油滴彼此结合，从而得到以油为分散质，以水为分散剂的乳浊液，达到了去油的目的。现有技术中，一般采用滚刷清洗机对基板表面进行清洗，其是利用圆柱状滚刷的旋转对其下方的基板进行清洗。清洗过程中，滚刷与基板之间形成一个切面的接触面积，但该接触面积较小；为了有效清除基板表面异物，通常需要增大清洗剂浓度，并在接触表面喷洒大量的清洗剂。这就造成了清洗剂的大量消耗。在半导体工艺中，清洗剂一般采用含表面活化剂的KOH溶液，价格昂贵，清洗剂的大量消耗势必造成半导体工艺成本的上升。
[0004]因此，亟需一种基板清洗装置，能够在保证清洗效果的前提下，减少清洗剂的消耗量，降低工艺成本。
【发明内容】
[0005]本发明的目的是提供一种基板清洗装置，通过增大清洗刷与基板的接触面积来增强清洗效果，从而减少清洗剂的消耗量，降低工艺成本。
[0006]为了达到上述目的，本发明提供一种基板清洗装置，包括清洗刷和刷架，所述刷架为长方体状，并垂直于所述基板的传送方向设置，所述刷架的相对于所述基板的一面上设置有所述清洗刷。采用所述基板清洗装置清洗基板表面时，清洗刷和基板间的接触面积即清洗刷的面积。在所述清洗刷的宽与现有技术中的滚刷的直径一致的前提下，本发明的基板清洗装置有效增大了清洗刷与基板间的接触面积。
[0007]优选地，所述基板清洗装置还包括旋转轴、导轨和直线驱动器，所述旋转轴穿过所述刷架，并以所述刷架的纵向对称轴为中心轴线；所述导轨平行于所述基板的传送方向设置，所述刷架通过所述旋转轴架设在所述导轨上，并在所述直线驱动器的驱动下沿所述导轨往复运动。所述清洗刷随着所述刷架沿基板传送方向往复运动，从而进一步提高了对基板的清洗效率。
[0008]所述旋转轴为中空结构，内部设有至少一根导流管，导流管的数目优选为四根，所述导流管的管壁上分布有小孔。旋转轴的轴壁上以及刷架侧壁上均设有供清洗剂流出的通道。清洗剂通过导流管管壁上的小孔以及旋转轴轴壁上和刷架侧壁上的通道喷向基板表面，从而无需单独设置喷淋管。
[0009]所述刷架的平行于所述旋转轴的四个面上均设置有所述清洗刷。当使用一定时间后，将刷架沿所述旋转轴旋转90度，更换一个干净的清洗刷进行清洗，从而可以延长清洗装置的保养周期，节约保养成本。
[0010]所述清洗刷可拆卸地安装在所述刷架上。当清洗刷使用一段时间需要清理或者更换时，只需将清洗刷拆下即可，而无需拆卸整个刷架。
[0011]所述刷架的垂直于纵向的横截面为正方形。所述清洗刷的刷毛的材质为尼龙。
[0012]与现有技术相比，本发明的基板清洗装置具有以下优点:
1)采用长方体的刷架结构，有效增大了清洗刷与基板的接触面积，增强了清洗效果，从而有利于减少清洗剂的消耗量，降低工艺成本；
2)清洗刷随着刷架沿导轨往复运动，从而进一步提高了对基板的清洗效率；
3)多孔导流管的设计，使清洗剂通过导流管管壁上的小孔喷向基板表面，从而无需单独设置喷淋管；
4)刷架平行于旋转轴的四面上均设置有清洗刷，从而可以通过旋转刷架来更换清洗刷，延长了清洗装置的保养周期，节约了保养成本；
5)清洗刷可拆卸地安装在刷架上，便于清洗刷的清理和更换，从而节约了清洗装置的维护成本。
【专利附图】
【附图说明】
[0013]图1是本发明的基板清洗装置的结构示意图；
图2是本发明的基板清洗装置的导流管的结构示意图。
【具体实施方式】
[0014]下面结合附图和【具体实施方式】对本发明作进一步详细的说明。
[0015]实施例1
一种基板清洗装置，如图1所示，包括清洗刷、刷架1、导轨2、旋转轴3和直线驱动器，刷架I为长方体状，其短边所围成的两个侧面为正方形。刷架I垂直于基板的传送方向设置，刷架I相对于基板的一面上设置有清洗刷。旋转轴3穿过刷架1，并以刷架I的纵向对称轴为中心轴线；导轨2平行于基板的传送方向，刷架I通过旋转轴3架设在导轨2上，并在直线驱动器的驱动下沿导轨2往复运动。
[0016]旋转轴3为中空结构，内部设有四根导流管4 (如图2所示)，导流管4的管壁上分布有小孔5 ;旋转轴3的轴壁上及刷架I的平行于旋转轴3的四个面上均设有小孔。清洗剂通过导流管管壁上的小孔、旋转轴3轴壁上的小孔以及刷架I侧壁上的小孔喷向基板表面，从而无需单独设置喷淋管。
[0017]清洗刷的刷毛的材质为尼龙。清洗刷可拆卸地安装在刷架I上。当清洗刷使用一段时间后需要清理或者更换时，只需将清洗刷拆下即可，而无需拆卸整个刷架。
[0018]采用本发明的基板清洗装置清洗基板表面时，清洗刷与基板间的接触面积即清洗刷的面积。在所述清洗刷的宽与现有技术中的滚刷的直径一致的前提下，本发明的基板清洗装置有效增大了清洗刷与基板间的接触面积，增强了清洗效果，从而有利于降低清洗剂的消耗量，节约工艺成本。清洗刷可随着刷架沿基板传送方向往复运动，进一步提高了对基板的清洗效率。
[0019]实施例2
本实施例中与实施例1相同的内容不再赘述。
[0020]本实施例中，刷架I的平行于旋转轴3的四个面上均设置有清洗刷。为了有效清洗基板表面，清洗刷需要定期更换。当需要更换清洗刷时，将刷架I沿旋转轴3旋转90度，更换一个干净的清洗刷继续进行清洗，从而可以延长清洗装置的保养周期，节约保养成本。
[0021]以上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，不能以此来限定本发明之权利范围，依本发明权利要求所作的等同变化，仍属于本发明所涵盖的范围。
【权利要求】
1.一种基板清洗装置，其特征在于，包括清洗刷和刷架，所述刷架为长方体状，并垂直于所述基板的传送方向设置，所述刷架的相对于所述基板的一面上设置有所述清洗刷。
2.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于还包括旋转轴、导轨和直线驱动器，所述旋转轴穿过所述刷架，并以所述刷架的纵向对称轴为中心轴线；所述导轨平行于所述基板的传送方向，所述刷架通过所述旋转轴架设在所述导轨上，并在所述直线驱动器的驱动下沿所述导轨往复运动。
3.根据权利要求1或2所述的基板清洗装置，其特征在于所述旋转轴为中空结构，内部设有至少一根导流管，所述导流管的管壁上分布有小孔。
4.根据权利要求3所述的基板清洗装置，其特征在于所述导流管的数目为4根。
5.根据权利要求3所述的基板清洗装置，其特征在于所述刷架的平行于所述旋转轴的四个面上均设置有所述清洗刷。
6.根据权利要求5所述的基板清洗装置，其特征在于所述清洗刷可拆卸地安装在所述刷架上。
7.根据权利要求5所述的基板清洗装置，其特征在于所述刷架的垂直于纵向的横截面为正方形。
8.根据权利要求5所述的基板清洗装置，其特征在于所述清洗刷的刷毛的材质为尼龙。
【文档编号】B08B1/02GK103894354SQ201210579739
【公开日】2014年7月2日 申请日期:2012年12月27日 优先权日:2012年12月27日
【发明者】刘洋, 李永军, 沈奇奇, 丁建, 邹勇军, 季京辉 申请人:北京汉能创昱科技有限公司