用于口腔的组合物的制作方法
【专利摘要】本发明的一个目的是提供一种相对于其研磨力具有高色斑去除效率的口腔用组合物。本发明提供一种包含熔融二氧化硅和牙科磨料的口腔用组合物。该口腔用组合物具有相对于其研磨力的高的色斑去除力。换句话说，该口腔用组合物的比值(色斑去除力/研磨力)高。因此，使用该口腔用组合物使得有可能在没有超过必要地损害牙齿的情况下有效地去除色斑。
【专利说明】用于口腔的组合物
[0001] 本申请是申请日为2010年10月14日、发明名称为"用于口腔的组合物"的中国 专利申请No. 201080056405. 7的分案申请。
【技术领域】
[0002] 本发明涉及一种口腔用组合物。更具体地，本发明涉及一种包含熔融二氧化硅 (fused silica)和牙科磨料（dental abrasive)的口腔用组合物。
【背景技术】
[0003] 牙齿变色起因于称为色斑（stain)的生色物质的沉积在牙齿上，并且这导致审美 欣赏方面的严重问题。作为去除色斑的措施，常用方法是利用工具如牙刷将包含牙科磨料 的口腔用组合物如洁齿剂组合物保持在嘴中，并对牙齿进行刷洗。由于色斑主要通过研磨 去除，所以认为通过使用具有更高研磨力（abrasive ability)的牙科磨料实现更高的色斑 去除效果。从这个角度看，更硬的牙科磨料将优选用于去除色斑，因为更硬的牙科磨料被认 为以更大的物理强度研磨牙齿表面并提供高的色斑去除效果。
[0004] 然而，当使用包含具有高研磨力的牙科磨料的口腔用组合物时，存在牙齿可能超 过必要地被研磨的危险。当牙齿表面被研磨时，齿质可能被暴露，这会引起超敏反应。而 且，由于被暴露的齿质对于酸具有较弱的抵抗力，所以会促进蛀牙。例如，氧化铝，即硬牙科 磨料的典型实例，具有优异的色斑去除力，但也通过研磨损害牙齿。尽管已经进行了各种改 善以防止对牙齿的损害，但是该问题依然没有得到解决。如今，口腔用组合物很少包含氧化 错。
[0005] 因此，对于开发在具有适当研磨力的同时具有高色斑去除力的口腔用组合物，具 体地，对相对于其研磨力具有高色斑去除力（即，研磨力和色斑去除力之间的平衡性良好） 的口腔用组合物存在需求。
[0006] 例如，专利文献1公开了一种包含具有不同研磨度的两种类型的二氧化硅（具有 高研磨度的二氧化硅和具有低研磨度的二氧化硅）作为牙科磨料的口腔用组合物可用于 在没有损害牙齿的情况下去除色斑。然而，这种口腔用组合物还含有高度研磨型二氧化硅， 并因此没有完全消除损害牙齿的危险。
[0007] 引用列表
[0008] 专利文献
[0009] PTL 1 :日本未审查专利公开No. 2004-238321
[0010] PTL 2 :日本未审查专利公开No. 2009-1638
[0011] PTL 3 :日本未审查专利公开No. S62-241541
[0012] 发明概述
[0013] 技术问题
[0014] 本发明的一个目的是提供一种相对于它的研磨力，其色斑去除效率高的口腔用组 合物。
[0015] 解决问题的方案
[0016] 本发明的发明人出乎意料地发现，包含熔融二氧化硅的口腔用组合物具有高色斑 去除力，即使其研磨力不是特别高；即，相对于研磨力，色斑去除力高。而且，本发明的发明 人发现，当口腔用组合物包含熔融二氧化硅和牙科磨料时，相对于研磨力，色斑去除力甚至 更高。本发明的发明人基于以上发现在进一步改进的情况下完成了本发明。
[0017] 熔融二氧化硅是一类在半导体领域中使用的二氧化硅，并且被主要用作填 料等，例如，在用于半导体密封剂的热固性树脂中（例如，参见日本未审查专利公开 No. 2009-1638)。然而，包含熔融二氧化硅的口腔用组合物不是已知的。而且，由于熔融二 氧化硅通过在高温熔化二氧化硅粉末而制得，所以密度高，并且硬度非常高。如上所述，越 硬的牙科磨料具有越高的研磨力，并且这样的牙科磨料会超过必要地磨损牙齿。因此，尽管 没有非常高的研磨力，但是包含具有非常高硬度的熔融二氧化硅的口腔用组合物具有高色 斑去除力是完全出乎意料的。
[0018] 具体地，例如，本发明涵盖以下各项中陈述的口腔用组合物。
[0019] 第 1项：
[0020] -种包含熔融二氧化硅和牙科磨料的口腔用组合物。
[0021] 项目 2-1:
[0022] 根据项目1的口腔用组合物，包含按质量计0. 25至8. 5%的熔融二氧化硅。
[0023] 项目 2-2 :
[0024] 根据项目1的口腔用组合物，包含按质量计0. 5至8. 5%的熔融二氧化硅。
[0025] 项目 3-1 :
[0026] 根据项目1至2-2中任一项的口腔用组合物，其中，熔融二氧化硅的BET比表面积 为10(m 2/g)以下。
[0027] 项目 3-2 :
[0028] 根据项目1至3-1中任一项的口腔用组合物，其中，牙科磨料的BET比表面积为20 至 1，000 (m2/g)。
[0029] 项目 4-1 :
[0030] 根据项目1至3-2中任一项的口腔用组合物，其中，熔融二氧化硅具有的吸油量为 20(mL/100g)以下。
[0031] 项目 4-2:
[0032] 根据项目1至4-1中任一项的口腔用组合物，其中，牙科磨料具有的吸油量为20 至 400(mL/100g)。
[0033] 项目 5 :
[0034] 根据项目1至4中任一项的口腔用组合物，其中，牙科磨料是选自由沉淀二氧化 硅、硅胶、热解法二氧化硅、硅酸锆、硅酸铝、磷酸钙、无水磷酸二钙、磷酸二钙二水合物、磷 酸三钙、无水磷酸氢钙、磷酸氢钙二水合物、焦磷酸钙、碳酸钙、硫酸钙、氢氧化铝、水不溶性 偏磷酸钠、磷酸三镁、碳酸镁、氧化钛、聚甲基丙烯酸甲酯、膨润土、羟磷灰石、结晶纤维素、 聚乙烯珠 （polyethylene bead)和聚丙烯珠 （polypropylene bead)组成的组中的至少一 种。
[0035] 项目 6 :
[0036] 根据项目5的口腔用组合物，其中，牙科磨料是沉淀二氧化硅。
[0037] 项目 7 :
[0038] 根据项目6的口腔用组合物，包含按质量计5至26%，优选按质量计7. 5至26% 的沉淀二氧化硅。
[0039] 项目 8.
[0040] 根据项目6或7的口腔用组合物，包含按质量计总共10至34. 5%的熔融二氧化硅 和沉淀二氧化硅。
[0041] 项目 9:
[0042] 根据项目6至8中任一项的口腔用组合物，其中，口腔用组合物中包含的沉淀二氧 化硅与熔融二氧化硅的质量比（沉淀二氧化硅/熔融二氧化硅）为2. 5-11: 1。
[0043] 项目 10-1 :
[0044] 根据项目1至9中任一项的口腔用组合物用于清洁牙齿。
[0045] 项目 10-2 :
[0046] 根据项目1至9中任一项的口腔用组合物用于去除附着在牙齿上的色斑。
[0047] 项目 11:
[0048] 根据项目1至10-2中任一项的口腔用组合物，其中，熔融二氧化硅是其中粒度大 于60 μ m的颗粒被基本上除去的熔融二氧化硅。
[0049] 项目 12 :
[0050] 根据项目1至11中任一项的口腔用组合物，其中，熔融二氧化硅是通过60-μπι筛 网筛分的熔融二氧化硅。
[0051] 项目 13:
[0052] 根据项目1至12中任一项的口腔用组合物，其中，RDA值为90至140。
[0053] 项目 14 :
[0054] 根据项目1至13中任一项的口腔用组合物，包含具有不同平均粒度的熔融二氧化 硅。
[0055] 项目 15 :
[0056] 根据项目14的口腔用组合物，包含平均粒度为0. 1至10 μ m的熔融二氧化硅和平 均粒度大于10 μ m且小于等于45 μ m的熔融二氧化硅。
[0057] 项目 16.
[0058] 根据项目14或15的口腔用组合物，其中，平均粒度为0. 1至10 μ m的熔融二氧化 硅的质量占熔融二氧化硅总质量的10至90%。
[0059] 项目 17 :
[0060] 根据项目1至16中任一项的口腔用组合物，其中，牙科磨料具有20至200的RDA 值。
[0061] 项目 18:
[0062] 根据项目1至17中任一项的口腔用组合物，其中，熔融二氧化硅颗粒的圆度为 0. 89以上。
[0063] 而且，例如，本发明还涵盖在以下项目中陈述的色斑去除方法。
[0064] 项目 A-I :
[0065] -种用于从附着有色斑的牙齿去除色斑的方法，该方法包括在口腔中施用项目I 至13中任一项所述的口腔用组合物的步骤。
[0066] 项目 A-2 :
[0067] 一种用于从附着有色斑的牙齿去除色斑的方法，该方法包括利用项目1-13中任 一项所述的口腔用组合物来刷洗牙齿的步骤。
[0068] 本发明的有益效果
[0069] 本发明的口腔用组合物具有高色斑去除力和低研磨力。因此，由于研磨而损害牙 齿的危险低。因此，使用本发明的口腔用组合物使得有可能以高度有效的方式去除色斑，特 别是在不损害牙齿的情况下。
[0070] 实施方案描述
[0071] 本发明在以下更详细地进行描述。
[0072] 本发明的口腔用组合物包含熔融二氧化硅和牙科磨料，并且被用作用于清洁牙齿 的组合物。尤其是，例如，通过使用本发明的口腔用组合物来刷洗牙齿，可以以高度有效的 方式去除色斑。而且，当这样做时，极不可能发生通过研磨导致的对牙齿的损害问题。
[0073] 如上所述，熔融二氧化硅被用于半导体领域，并且是已知的或可以通过已知的方 法生产。这样的熔融二氧化硅可以用于本发明。可以例如通过利用处于高温（例如，2, 000 至3, OO(TC)的火焰熔化作为原料的二氧化硅粉末（例如硅石粉末）而获得熔融二氧化硅。 而且，也可以例如通过高温火焰氧化并熔化硅粉或环状硅氧烷而获得熔融二氧化硅。以这 种方式，由于熔融二氧化硅通过高温处理生产，所以污染的风险低。另外，由于二氧化硅被 熔融一次并固化，所以二氧化硅颗粒具有高密度和增大的硬度。尤其是，利用喷射高温火焰 的燃烧器并通过应用热喷射技术由作为原料的压碎的硅石粉末获得的"热喷射和熔融的二 氧化硅（通过热喷射获得的熔融二氧化硅）"，可以被优选用作要包含在本发明的口腔用组 合物中的熔融二氧化硅。尤其是，由于热喷射和熔融的二氧化硅作为大多数颗粒被熔融之 后的固体获得，所以硬度和球度（degree of sphericity)高。因此，如以下所描述的，热喷 射和熔融的二氧化硅特别优选作为要包含在本发明的口腔用组合物中的熔融二氧化硅。尽 管没有特别限制，但是这样的热喷射和熔融的二氧化硅可以优选例如通过日本未审查专利 公开No. S62-241541中公开的方法生产。
[0074] 本发明的口腔用组合物中包含的熔融二氧化硅的二氧化硅颗粒优选具有高的球 度（形状接近完全球体）。球度可以通过指示球体的周线有多接近精确圆的"圆度"来进 行评价。圆度可以计算如下：（i)首先，取得用于测量圆度的目标颗粒的图像，并跟踪该颗 粒的周线以计算周线长度和面积；以及（ii)接着，画出具有与图像被获取的颗粒的周线的 面积相同的圆，并计算该圆的周长。这时，通过以下公式确定圆度。当颗粒的周线为精确圆 时，圆度为1，并且圆度绝不会大于1。
[0075]
【权利要求】
1. 一种口腔用组合物，其包含按质量计7. 5至26%的沉淀二氧化硅和按质量计0. 5至 4. 5%的熔融二氧化硅，其中所述熔融二氧化硅是其中粒度大于60 μ m的颗粒被除去的熔 融二氧化硅。
2. 根据权利要求1所述的口腔用组合物，其中所述沉淀二氧化硅的BET比表面积为20 至 1，000 (m2/g)。
3. 根据权利要求1所述的口腔用组合物，其中所述熔融二氧化硅具有的吸油量为 20(mL/100g)以下。
4. 根据权利要求1所述的口腔用组合物，其中所述沉淀二氧化硅具有的吸油量为20至 400(mL/100g)。
5. 根据权利要求1所述的口腔用组合物，其包含按质量计总共10至30. 5%的所述熔 融二氧化硅和所述沉淀二氧化硅。
6. 根据权利要求1所述的口腔用组合物，其中所述口腔用组合物中包含的所述沉淀二 氧化硅与所述熔融二氧化硅的质量比（沉淀二氧化硅/熔融二氧化硅）为2. 5-11: 1。
7. 根据权利要求1所述的口腔用组合物，其中所述口腔用组合物中包含的所述沉淀二 氧化硅与所述熔融二氧化硅的质量比（沉淀二氧化硅/熔融二氧化硅）为3-11: 1。
8. 根据权利要求1所述的口腔用组合物，其中所述口腔用组合物中包含的所述沉淀二 氧化硅与所述熔融二氧化硅的质量比（沉淀二氧化硅/熔融二氧化硅）为4-8:1。
9. 根据权利要求1所述的口腔用组合物，用于去除附着于牙齿的色斑。
10. 根据权利要求1所述的口腔用组合物，其中，所述熔融二氧化硅是通过60- μ m筛网 筛分的熔融二氧化硅。
11. 根据权利要求1所述的口腔用组合物，其中，RDA值为150以下。
12. 根据权利要求1所述的口腔用组合物，其包含平均粒度为0. 1至10 μ m的熔融二氧 化硅和平均粒度大于10 μ m且小于等于45 μ m的熔融二氧化硅。
13. 根据权利要求12所述的口腔用组合物，其中所述平均粒度为0. 1至10 μ m的熔融 二氧化硅的质量占所述熔融二氧化硅的总质量的10至90%。
14. 根据权利要求12所述的口腔用组合物，其包含平均粒度为0. 1至6 μ m的熔融二氧 化硅和平均粒度为12 μ m至30 μ m的熔融二氧化硅。
15. 根据权利要求14所述的口腔用组合物，其中所述平均粒度为0. 1至6 μ m的熔融二 氧化硅的质量占所述熔融二氧化硅的总质量的10至90%。
16. 根据权利要求1所述的口腔用组合物，其中，所述牙科磨料具有20至200的RDA 值。
17. 根据权利要求1所述的口腔用组合物，其中，熔融二氧化硅颗粒的圆度为0.89以 上。
18. 根据权利要求1所述的口腔用组合物，其中所述组合物具有的色斑去除力为25以 上，并且所述色斑去除力与所述研磨力的比（色斑去除力/研磨力）为约〇· 23以上。
19. 一种用于从附着有色斑的牙齿去除色斑的非治疗方法，所述方法包括在口腔中施 用权利要求1至18中任一项所述的口腔用组合物的步骤。
20. -种用于从附着有色斑的牙齿去除色斑的非治疗方法，所述方法包括使用权利要 求1至18中任一项所述的口腔用组合物来刷洗牙齿的步骤。
21. 根据权利要求1所述的口腔用组合物，其中所述口腔用组合物包含按质量计2至 4. 5 %的熔融二氧化硅。
22. 根据权利要求1所述的口腔用组合物，其中所述口腔用组合物包含按质量计15至 22 %的沉淀二氧化硅。
【文档编号】A61Q11/00GK104287981SQ201410545275
【公开日】2015年1月21日 申请日期:2010年10月14日 优先权日:2009年10月14日
【发明者】阪本广志 申请人:太阳星光齿磨公司