溢流染色装置的制作方法

本实用新型属于纺织染整领域，具体涉及一种溢流染色装置。

背景技术：

染色机是指纺织原料及其制品染色的设备。染色方法分为平幅染色、卷染、溢流染色和气流染色；溢流染色机是目前印染厂应用较为广泛的染色设备，不仅可以对面料进行染色处理，还能够对面料进行碱减量、煮炼、漂白处理，是一种功能性较多的设备；溢流染色机的使用过程中需要加入大量的水进行化料、浸透，哪怕是目前研发的低浴比溢流染色机，其用水量也高于一般的染色方法；

目前，较为常见的溢流染色方法一种是在缸中进行染色和水洗，另一种是在缸中染色，然后在绳状水洗机中水洗，但是不论是在缸中直接水洗还是出缸后在绳状水洗机中水洗都是在面料出缸时将带有染料的水直接进入污水池处理。这样，对于同一种配方及批次的面料，就会存在染料、助剂的浪费和水资源的浪费。

综上，急需一种溢流染色机和高效的、环保的溢流染色方法来增加染料及助剂的多次利用和水的循环高效利用。

技术实现要素：

本实用新型主要解决的技术问题是提供一种溢流染色装置，不仅降低了环保压力，减少了污水的处理，同时也可以使染料及助剂的二次利用，达到降低污染、节约成本的目的，增加产品的竞争力。

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种溢流染色装置，包括染缸和留液装置，所述留液装置设置在染缸顶部，所述留液装置包括导液槽，所述导液槽顶端两侧对称设置有相互平行的第一侧板和第二侧板，所述第一侧板第二侧板之间设置有位于导液槽内的下轧辊，所述下轧辊上方设置有与下轧辊平行的上轧辊，所述上轧辊两端分别设置有导向块，所述第一侧板和第二侧板内壁分别设置有与导向块相对应的导轨，所述导向块顶部均设置有位于第一侧板和第二侧板顶部的驱动装置。

在本实用新型一个较佳实例中，所述溢流染色装置还包括电脑测色系统，所述电脑测色系统包括伸缩式颜色测量探头，所述伸缩式颜色测量探头设置在染缸内。

在本实用新型一个较佳实例中，所述上轧辊工作时与下压辊的轴心距为0.5-1cm。

在本实用新型一个较佳实例中，所述下压辊一端连接有位于第二侧板外侧的水平驱动电机。

在本实用新型一个较佳实例中，所述上轧辊外圆内凹设置有数个梯形沟槽。

在本实用新型一个较佳实例中，所述梯形沟槽沿上轧辊轴向全程设置。

附图说明

图1是本实用新型溢流染色装置结构示意图；

图2是图1中上轧辊横截面结构示意图。

具体实施方式

下面将对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1至图2，一种溢流染色装置，包括染缸1和留液装置，所述留液装置设置在染缸1顶部，所述留液装置包括导液槽2，所述导液槽2顶端两侧对称设置有相互平行的第一侧板31和第二侧板32，所述第一侧板21第二侧板32之间设置有位于导液槽2内的下轧辊4，所述下轧辊4上方设置有与下轧辊4平行的上轧辊5，所述上轧辊5两端分别设置有导向块51，所述第一侧板21和第二侧板22内壁分别设置有与导向块51相对应的导轨6，所述导向块6顶部均设置有位于第一侧板21和第二侧板22顶部的驱动装置7，带动上轧辊5上下移动距离，调节上轧辊5和下压辊4之间的间距，达到最佳工作状态。

进一步，所述溢流染色装置还包括电脑测色系统，所述电脑测色系统包括伸缩式颜色测量探头8，所述伸缩式颜色测量探头8设置在染缸1内，测量染缸内染液的色彩，并将信息反馈到电脑调色系统中，进行调节，伸缩式颜色测量探头8保证布在染色的过程中不会触碰到，在染色开始前，伸缩式颜色测量探头8测量留缸液体的颜色分布并将数据反馈给配色系统后自动缩回。

进一步，所述上轧辊5工作时与下压辊4的轴心距为0.5-1cm，为了保证布在出缸的时候液体被最大化轧出的同时不影响出布效率和布的质量，在对120g的面料进行染色处理时，控制上轧棍5停留位置与下轧棍4的轴心距离为0.8cm。

进一步，所述下压辊4一端连接有位于第二侧板22外侧的水平驱动电机41，带动下压辊4转动。

进一步，所述上轧辊5外圆内凹设置有数个梯形沟槽52，所述梯形沟槽52沿上轧辊5轴向全程设置，在上轧棍5上雕刻梯形沟槽52，沟槽深度为2mm，增加轧棍的轧液效率并控制轧出液体的流向；梯形沟槽52设计也可以保证布所受到的压力逐渐增大，防止压力剧烈增加造成的布面损伤，也可以保证上轧棍5在转动过程中对布有足够的抓取力，防止打滑现象出现。

本实用新型的有益效果是：本实用新型提供的一种溢流染色装置，不仅降低了环保压力，减少了污水的处理，同时也可以使染料及助剂的二次利用，达到降低污染、节约成本的目的，增加产品的竞争力。

以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。