专利名称：含富勒烯聚合物的固相微萃取涂层的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种含富勒烯聚合物的固相微萃取涂层，属高分子材料领域。
现有用于固相微萃取(SPME)装置的萃取头涂层，均采用聚二甲基硅氧烷(PNMS)，聚丙烯酸酯(PA)，和聚乙二醇(Carbowax)等，操作使用温度偏低，对痕量样品富集倍数不够高，使用寿命短(50-100次)，对分子构型化合物不具备选择萃取能力。
本发明的目的在于克服现有技术的不足，提供一种耐温性好，富集倍数高，使用寿命长，并具有分子识别萃取选择能力的SPME涂层。
本发明是这样实现的将富勒烯聚合物溶在相应溶剂中，加入交联引发剂，室温下调至预定粘度，按所需涂层厚度分次浸涂在SPME萃取头表面或其内表面，经紫外灯光照或以4℃/min程升到适当温度(180-200℃)进行涂层固化、清洗、干燥、老化等步骤制成含富勒烯涂层的固相微萃取头。其中富勒烯合物采用含叠氮侧链的线性聚硅氧烷、羟基富勒烯聚硅氧烷和C60或C60/C70与聚甲基乙烯基聚硅氧烷共聚体；交联引发剂选用过氧化二异丙苯(DCP)、偶氮叔丁烷(ATB)；溶剂选用正庚烷或二氯甲烷。
本发明与同属非极性有商用PDMS相比，单位体积涂层上的萃取量要高4-5倍。并对平面与非平面多环芳烃、多氯联苯等化合物有分子识别萃取能力。上述涂层有萃取头对萘系物(共五种化合物)在280℃解析下使用150次，各化合物萃取量变化的RSD％在0.60-2.53％,180次后在3.42-8.26％仍未超过文献值(10％)。
本发明的实施例如下购置的石英纤维(110μm)用浓硫酸浸泡至外涂层变黑，取出擦去外涂层聚酰亚胺，分别用自来水和蒸馏水冲洗15min，再用乙醇淋洗纤维表面，吹干，待用。
称取0.5克ω-叠氮基十一烷基甲基聚硅氧烷，加5％(W/W)DCP交联剂，用正庚烷调至粘度为4500-6500MPAS(25℃)的胶状涂渍液，放置涂层仪容器中。将0.5米已除去外涂层的石英纤维，按一定速度通过涂层液，重复两次。涂后纤维在紫外灯照射下，交联固化。截取1.3cm厚度为33μm涂层纤维按已知方法组装在SPME针头内，在使用前，经250-280℃，将纤维老化4小时。使用该涂层的SPME装置与气相色谱联用分析检测了水样中多环芳烃。取样方法是在60℃水样顶空部分暴露30min进行萃取富集，然后直接插入色谱汽化室280℃解析，经石英毛细柱分离、分析，结果见表表中采用C60聚合物涂层的HS-SPME方法对PAHs萃取的线性范围、检测限和加入回收率化合物 线性范围 检测限(μgl-1) RSD(n=6％) 回收率(％)萘 1-1×1030.083 9.5 96.2联苯 1-1×1030.006 7.2686.87苊 1-1×1030.006 8.4694.03芴 1-1×1030.004 5.1892.37菲 1-1×1030.003 6.3491.67荧蒽 1-1×1030.005 7.2599.93m-三联苯 1-1×1030.005 8.7091.05P-三联苯 1-1×1030.048 13.56 90.22本发明操作方便，简单，是具有分子识别萃取选择能力的SPME涂层。
权利要求
1.一种含富勒烯聚合物的高分子固相微萃取涂层，其特征在于富勒烯聚合物可分别采用叠氮侧链的线性聚硅氧烷、氨基丙基富勒烯聚硅氧烷、富勒烯吡咯烷、羟基富勒烯聚硅氧烷和60或C60/C70与聚甲基乙烯基聚硅氧烷共聚体；交联引发剂采用过氧化二异丙(DCP)或偶氮叔丁烷(ATB)；溶剂采用正庚烷或二氯甲烷。
2.一种含富勒烯聚合物的高分子固相微萃取涂层，其特征在于聚合物采用W-叠氮基十一烷基甲聚硅氧烷，加入2-5％(W/W)过氧化二异丙萃作交联剂，用正庚烷调至粘度为4500-6500MPAS(25℃)的胶状涂渍液，放置涂层仪容器中，再将已处理除去外涂层的石英纤维基体，按一定速度通过涂层液，涂后石英纤维在紫外灯照射下，交联固化，并根据所需涂层厚度、涂渍、固化步骤、可重复进行多次。
全文摘要
一种含富勒烯聚合物的固相微萃取涂层，本发明属高分子材料领域。其主要解决现有用于固相微萃取(SPME)装置的萃取头涂层，在操作时使用温度偏低，对痕量样品富集信数不够高，使用寿命短，对不同分子构型化合物不具备选择萃取能力等问题。本发明的技术方案选择含富勒烯的聚合物，含叠氮侧链的线性聚硅氧烷、氨基丙基富勒烯聚硅氧烷，交联剂选择过氧化二异丙萃，溶剂选择正庚烷；将富勒烯聚合物溶在溶剂中，加入交联引发剂，在室温下调至预定粘度，按所需涂层厚度分次浸涂在SPME萃取头表面，再经高温固化。本发明涂层耐温性好，富集倍数高，使用寿命长。并对平面和非平等不同构型化合物具有显著选择萃取能力。
文档编号C03C25/40GK1316395SQ0110657
公开日2001年10月10日 申请日期2001年3月26日 优先权日2001年3月26日
发明者吴采樱, 肖春华, 余建新, 刑钧 申请人:武汉大学