专利名称：高位循环补釉施釉装置的制作方法
技术领域：
本实用新型提供一种高位循环补釉施釉装置，具体是用于给陶瓷表面施釉的装置。
背景技术：
目前陶瓷的局部定尺寸施釉工艺主要有两种一种是先在半成品的施釉位置做上标记，然后将半成品浸入釉内，通过目测控制釉面是否达到标记处，然后取出完成施釉工序。另一种工艺是采用四道工序完成1、在半成品的施釉位置做上标记；2、以标记为界限，将不需要施釉的部分遮盖住，形成隔离带；3、将其浸入釉内，通过目测控制釉面漫过标记；4、取出晾干后取下遮盖物。第一种工艺由于受人的目测和平衡能力所限，各产品的施釉高度也参差不齐，造成陶瓷产品外观质量差，影响了产品的质量。第二种工艺虽然能保证施釉陶瓷产品的施釉高度一致，但工艺复杂，生产效率低，成本高。
实用新型内容本实用新型的目的是提供一种能克服上述缺陷、保证产品施釉位置准确、操作简单、生产效率高的高位循环补釉施釉装置。其技术内容为一种高位循环补釉施釉装置，其特征在于包括上端敞口的回釉箱、施釉箱、注釉箱和釉泵，其中施釉箱套装固定在回釉箱的底面上，其侧壁上设置有水平仪，施釉箱内设置有深度尺，其底部设置有高度可调的支座，注釉箱位于施釉箱一侧的上方，其底部经单向阀与施釉箱连通，釉泵的输入端探入回釉箱的底部，其输出端探入注釉箱内，回釉箱的底部设置有水平调节器。
所述的高位循环补釉施釉装置，施釉箱的上端侧壁上设置有进釉孔，经单向阀与注釉箱的底部连通。
所述的高位循环补釉施釉装置，套装固定在回釉箱底面上的施釉箱有多个，箱体的底部均设置有高度可调的支座，注釉箱与多个施釉箱经单向阀连通。
其工作原理为调整水平调节器配合水平仪观察，使施釉箱处于水平状态，调整支座高度配合深度尺，控制支座到施釉箱上端面的高度，即施釉的高度。将需要施釉的半成品垂直浸入施釉箱内其底部触及支座，多余的釉溢出到回釉箱，保证施釉箱内的釉液始终保持在所需高度，恰好漫到半成品需要施釉的位置，然后取出晾干即可，完成一次施釉，迎接下一次施釉。溢出到回釉箱内的釉液由釉泵泵入注釉箱内，经单向阀补充施釉箱内的釉液。
本实用新型与现有技术相比，具有以下优点1、预先设定好施釉箱内对半成品的施釉高度，减少了人为因素，保证施釉陶瓷产品的施釉高度一致，施釉精度高，提高了产品施釉的外观质量；2、工艺简单，由原先的多道工序一次完成，生产效率高；3、设备结构简单，易操作，成本大大降低，经济效益高。
图1是本实用新型实施例的结构示意图；具体实施方式
1、回釉箱 2、施釉箱 3、注釉箱 4、釉泵 5、水平仪 6、深度尺 7、支座 8、单向阀 9、水平调节器 10、进釉孔 11、支架在图1所示的实施例中施釉箱2套装固定在回釉箱1的底面上，回釉箱1的底部设置有水平调节器9，施釉箱2的侧壁上设置有水平仪5，调整水平调节器9配合水平仪5观察，保证施釉箱2处于水平状态。沿施釉箱2的侧壁垂直设置有深度尺6，深度尺6的上端与水平仪5活动连接，施釉箱2的底部设置有高度可调的支座7，深度尺6与支座7配合，控制半成品施釉的高度。注釉箱3经支架11固定在施釉箱2一侧的上方，其底部经单向阀8与施釉箱2侧壁上的进釉孔10连通，釉泵4的输入端探入回釉箱1的底部，其输出端探入注釉箱3内，以便于将施釉箱2溢出到回釉箱1内的釉液抽到位于高处的注釉箱3，再经单向阀8控制流回施釉箱2，补充施釉箱2内的釉液，保证液面维持在所需高度，进而控制产品的施釉高度一致，提高产品施釉的外观质量。
在实际操作中，也可以在回釉箱1内设置有多个的施釉箱2，各施釉箱2内均设置有高度可调的支座7，这样同时就可以给多个产品施釉，提高了生产效率。
权利要求1.一种高位循环补釉施釉装置，其特征在于包括上端敞口的回釉箱(1)、施釉箱(2)、注釉箱(3)和釉泵(4)，其中施釉箱(2)套装固定在回釉箱(1)的底面上，其侧壁上设置有水平仪(5)，施釉箱(2)内设置有深度尺(6)，其底部设置有高度可调的支座(7)，注釉箱(3)位于施釉箱(2)一侧的上方，其底部经单向阀(8)与施釉箱(2)连通，釉泵(4)的输入端探入回釉箱(1)的底部，其输出端探入注釉箱(3)内，回釉箱(1)的底部设置有水平调节器(9)。
2.如权利要求1所述的高位循环补釉施釉装置，其特征在于施釉箱(2)的上端侧壁上设置有进釉孔(10)，经单向阀(8)与注釉箱(3)的底部连通。
3.如权利要求1所述的高位循环补釉施釉装置，其特征在于套装固定在回釉箱(1)底面上的施釉箱(2)有多个，箱体内的底部均设置有高度可调的支座(7)，注釉箱(3)与多个施釉箱(2)经单向阀(8)连通。
专利摘要本实用新型提供一种高位循环补釉施釉装置，其特征在于包括上端敞口的回釉箱、施釉箱、注釉箱和釉泵，其中施釉箱套装固定在回釉箱的底面上，其侧壁上设置有水平仪，施釉箱内设置有深度尺，其底部设置有高度可调的支座，注釉箱位于施釉箱一侧的上方，其底部经单向阀与施釉箱连通，釉泵的输入端探入回釉箱的底部，其输出端探入注釉箱内。该装置由调整水平调节器配合水平仪观察，使施釉箱处于水平状态，调整支座高度配合深度尺，控制施釉的高度，减少了人为因素，保证施釉陶瓷产品的施釉高度一致，提高了产品施釉的外观质量，且工艺简单，由原先的多道工序合为一次完成，设备结构简单，易操作，降低了产品成本，减少了次品率，提高了生产效率。
文档编号C04B41/86GK2776976SQ20052008128
公开日2006年5月3日 申请日期2005年3月19日 优先权日2005年3月19日
发明者纪桂花, 于先进 申请人:山东理工大学