专利名称：一种高亮度低辐射镀膜玻璃的制作方法
技术领域：
本实用新型属于一种镀膜玻璃，主要涉及一种高亮度低辐射镀膜玻璃。
背景技术：
低辐射镀膜玻璃是指在玻璃表面沉积一层高红外线反射材料(金属银)， 使玻璃吸收太阳光光谱中的红外线和其它物体发出的红外线非常少，玻璃自 身又不存储能量，因此镀膜玻璃向外辐射的红外线也非常少，称为低辐射镀 膜玻璃。该玻璃用于窗户上，可有效地阻挡太阳光中的红外线进入室内，降 低夏天室内温度，节约空调制冷费用，冬天可以阻挡室内物体发出的红外线 被玻璃吸收，散发到室外，提高室内温度，节约取暖费用。
现在市场上已经有很多种低辐射镀膜玻璃产品，第一层膜有用氧化锡 的，也有用氧化锌的，金属氧化物的溅射效率很低，而且膜层亮度较低，第 二层膜都是银膜，也有前面加一层镍铬膜的结构，第三层都用镍铬层，第四 层主要为保护膜， 一般采用氧化锡或氧化锌作保护膜。 发明内容
本实用新型目的是提供一种四层膜结构的高亮度低辐射镀膜玻璃，使其 具有成本低，膜面亮度高的优点。
本实用新型的目的可采用如下技术方案来实现其具有玻璃基片，在玻 璃基片表面上从底层向上依次镀有铬膜层、银膜层、镍铬膜层，在镍铬膜层 表面镀有一层氧化锡膜层，从而构成四层膜结构的低辐射镀膜玻璃。
采用上述结构，即可以利用金属铬膜沉积效率高，膜层薄，生产效率高 的优点，又具有镀膜玻璃亮度高的优点。
附图1为本实用新型的具体结构示意图。
图中1、玻璃基片，2、铬膜层，3、银膜层，4、镍铬膜层，5、氧化 锡膜层。
具体实施方式
结合附图，说明本实用新型的具体实施例。
如附图l所示其具有玻璃基片l，在玻璃基片表面上从底层向上依次
镀有铬膜层2、银膜层3、镍铬膜层4，在镍铬膜层表面镀有一层氧化锡膜 层5，从而构成四层膜结构的高亮度低辐射镀膜玻璃。
本实用新型是在真空环境下，通过磁控溅射在玻璃表面沉积四层膜的方法，生产一种红外线辐射率很低的镀膜玻璃。所述的低辐射镀膜玻璃是在镀
膜室抽真空至1. 1X10—4Pa以下，充入工艺气体(氧气或氮气或氩气)，使镀 膜室压力稳定在0.3Pa左右，将溅射源送电，靶材开始溅射，送入玻璃将耙 材原子或其化合物沉积到玻璃表面。第一个镀膜室充入氩气，耙材为铬耙， 将铬膜沉积到玻璃表面为第一层膜，厚度1至10纳米，第二个镀膜室充入 氩气，靶材为银靶，在铬膜上面沉积第二层银膜，厚度8至20纳米；第三 个镀膜室充入氩气，靶材为镍铬靶，在银膜上沉积第三层镍铬膜，厚度3 至10纳米；第四个镀膜室充入氧气，靶材为锡靶，在镍铬膜上沉积第四层 氧化锡膜，厚度20至60纳米。
第一层铬膜层可以提高镀膜玻璃亮度，第四层氧化锡膜起保护银膜和镍 铬膜的作用，提高膜层的耐磨性能和耐氧化、耐腐蚀性能。采用该结构，可 以利用金属铬膜沉积效率高，膜层薄的优点，可以提高生产效率，并且降低 生产成本。
权利要求1、一种高亮度低辐射镀膜玻璃，其具有玻璃基片(1)，在玻璃基片(1)表面上从底层向上依次镀有铬膜层(2)、银膜层(3)、镍铬膜层(4)，其特征是镍铬膜层表面(4)镀有一层氧化锡膜层(5)，从而构成四层膜结构的高亮度低辐射镀膜玻璃。
专利摘要本实用新型公开了一种高亮度低辐射镀膜玻璃，其具有玻璃基片(1)，在玻璃基片(1)表面上从底层向上依次镀有铬膜层(2)、银膜层(3)、镍铬膜层(4)，在镍铬膜层(4)表面镀有一层氧化锡膜层(5)，从而构成四层膜结构的高亮度低辐射镀膜玻璃。采用上述结构，可以利用金属铬膜沉积效率高，膜层薄的优点，可以提高生产效率，并且降低生产成本。
文档编号C03C17/36GK201250181SQ20082014822
公开日2009年6月3日 申请日期2008年7月28日 优先权日2008年7月28日
发明者凯 周, 孟怡敏, 王秀丽, 明 郭 申请人:洛阳新晶润工程玻璃有限公司