隔热材料及其制造方法

文档序号:1847227阅读:369来源:国知局
专利名称:隔热材料及其制造方法
技术领域
本发明是涉及一种隔热材料及其制造方法,且特别是涉及一种红外光反射薄膜及其制造方法。
背景技术
为了提高玻璃强度,一般需将玻璃置于680°C至710°C的高温中(空气环境)进行强化加工处理。对于隔热玻璃而言,在高温空气下的强化过程中,很容易造成玻璃隔热涂层的性能降低。虽然可在隔热层表面涂一层保护层,以避免隔热层的氧化,但会因此增加工艺复杂性。为了要避免玻璃高温强化工艺对隔热性能的影响,另一个方法为在玻璃强化处理后再进行隔热层的涂布。然而,玻璃强化后应避免再遭受300°C以上的高温,以避免强化玻璃的应力释放,进而失去强化的效果。虽然复合氧化钨薄膜为已知具顶反射性的隔热材料,但一般形成的温度需大于 500 V,无法适用于强化玻璃的隔热涂布后处理所需的低温工艺。目前市售隔热玻璃商品以单银或双银低辐射玻璃为主,主要利用真空镀膜的方式在玻璃上溅镀包含银、介电层、保护层等材料形成多层膜。由于需使用昂贵的真空溅镀设备与多层制作的方式,使得其生产成本相对高昂,因此其贩售价格也居高不下。上述玻璃另外一个缺点在于银镀膜在空气中并不稳定。因此,银镀膜必须密封在充填惰性气体的双层玻璃内,以保护其银镀膜不被氧化。一旦双层玻璃中的惰性气体泄漏,就会失去隔热效能。而需要更换整片玻璃。有鉴于此,业界极需一种低成本、高稳定性、工艺温度较低的红外线反射隔热薄膜。

发明内容
本发明的目的在于基本上克服现有技术的缺陷,提供一种成本低、稳定性高、工艺温度较低的隔热材料。本发明的实施方式提供一种隔热材料的制造方法,包括提供一含有第VIIIB族金属元素的氧化钨前驱溶液;干燥该氧化钨前驱溶液以形成一干燥的氧化钨前驱物;以及将该干燥的氧化钨前驱物在约100至500°C下以还原气体进行反应,以形成一复合氧化钨。本发明的实施方式亦提供一种隔热材料,包括一具有碱金族或碱土族金属掺杂的复合氧化钨,如式(1)所示MxWOy 式(1),其中,M为至少一种碱金族或碱土族元素,W为钨,0为氧,且0 < X < 1, 2. 2彡Y彡3 ;以及一第VIIIB族金属元素。本发明另一实施方式的隔热材料,包括一具有碱金族或碱土族金属与卤素共掺杂的复合氧化钨,如式( 所示
MxWOyAzSQ),其中,M为至少一种碱金族或碱土族元素,W为钨,0为氧,A为卤素元素,且0 < X彡1,2. 2彡Y+Z彡3,0 < Z彡0. 2 ;以及一第VIIIB族金属元素。本发明提供的隔热材料通过使用第VIIIB族金属催化剂可降低还原反应的温度, 因而可在低工艺温度下形成透明的复合氧化钨薄膜,且仍然可达到隔热材料的高红外光反射能力,故可增加其应用性;且成本较低和稳定性及耐用性较佳。为让本发明的上述和其它目的、特征和优点能更明显易懂,下文特举出较佳实施例,并配合所附附图,作详细说明如下


图1为在本发明一实施例中,加入第VIIIB族金属催化剂与未加入第VIIIB族金属催化剂的UV-VIS4R光谱图;图2为在本发明一实施例中,改变还原反应的温度对其红外光反射率的影响;图3为在本发明一实施例中,改变还原反应的时间对其红外光反射率的影响;图4为在本发明一实施例中,改变还原反应的时间、温度对其红外光反射率的影响;图5、6为在本发明一实施例中,改变催化剂添加量对其红外光反射率的影响;图7、8为在本发明一实施例中,改变催化剂种类对其红外光反射率的影响;图9为在本发明一实施例中,加入第VIIIB族金属催化剂的XRD光谱图;图10为在本发明一实施例中,未加入第VIIIB族金属催化剂的XRD光谱图;图11为在本发明一实施例中,低温还原时的最佳红外光反射条件;图12为在本发明一实施例中,加入卤素盐类对复合氧化钨薄膜的红外光反射率的影响。
具体实施例方式本发明的实施方式是通过导入第VIIIB族过渡金属催化剂来降低复合氧化钨薄膜的生成温度,使红外光反射涂层可以在500°C以下形成。以下将详述本发明较佳实施方式的复合氧化钨薄膜的制造方法。在一实施方式中,首先将第VIIIB族过渡金属催化剂导入氧化钨前驱物与碱金族或碱土族的金属盐类混合溶液中,形成氧化钨前驱溶液。上述作为催化剂的第VIIIB 族金属可以金属、金属氧化物或金属盐类的型式导入至前驱溶液中,例如Pt、Pt02、 H2PtCl6 'H2O^H2PtCl6 · 6H20、N206Pt、PtCl4、C4H604Pt、Ni、Ni0、Ni2C03、C4H6CMNi ‘ 4H20,NiCl2, H8N2NiO8S2 · 6H20、NiCl2 · 6H20、NiF2, NiBr2, NiCl6 · 6H20、Rh、Rh2O3, RhCl3 · H2O, N3O9Rh, C4H9O6RK Pd、PdO、H2O2Pd, N2O6PcU PdBr2, C4H6O4PcU PdCl2、或前述的组合。上述催化剂的添加量可为0. 001至1%。上述氧化钨前驱物可包括偏钨酸铵(ammonium metatungstate)、正钨酸铵 (ammonium orthotungstate)、仲鹤酸铵(ammonium paratungstate)、碱金族鹤酸盐、鹤酸、 硅化钨、硫化钨、氯氧钨、醇氧钨、六氯化钨、四氯化钨、溴化钨、氟化钨、碳化钨、碳氧化钨、 或前述的组合。
上述碱金族或碱土族盐类的通式为MpN,其中M为碱金族或碱土族元素,包括锂、钠、钾、铷、铯、铍、镁、钙、锶、钡、或前述的组合,N为带负价的阴离子或阴离子团, 0. 5 < ρ < 12。其中,碱金族或碱土族盐类可包括碱金族或碱土族的碳酸盐、碳酸氢盐、硝酸盐、亚硝酸盐、氢氧化物、商化盐、硫酸盐、亚硫酸盐、或前述的组合。上述氧化钨前驱物与碱金族或碱土族盐类的摩耳比例可介于约0. 05至1,较佳可介于约0. 2至0. 8。在一实施例中,可将氧化钨前驱物及碱金族或碱土族盐类加入去离子水中混合均勻,然后以有机碱、或无机碱将混合溶液调整至碱性,其PH値可大于7,较佳可介于约9至 12,之后再加入第VIIIB族过渡金属催化剂(亦可先加催化剂再调整PH値),便得到氧化钨前驱溶液。所使用的有机碱可包括有机胺类如二甲胺、三甲胺、哌啶(Piperidine)、吗啉 (Morpholino)、三乙基胺、吡啶等;无机碱可包括氨水、碱金属及碱土金属的氢氧化物类、碳酸盐类、碳酸氢盐类等等,例如碳酸氢钠、碳酸氢钾、碳酸锂、碳酸钠、碳酸钾、氢氧化锂、氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化钡等。在本发明另一实施方式中,亦可形成含有卤素共掺杂的隔热材料。此时,在上述氧化钨前驱溶液的制备步骤中,可进一步添加商素盐类。而后再将其涂布在基板上,烘干后形成薄膜。卤素盐类的添加量,可介于0. 1至20mOl%,较佳可介于1至15m0l%。上述卤素盐类的通式为PAq,其中A为卤素元素,包括氟、氯、溴或碘,P为带正价的阳离子或阳离子团,1 < 12。卤素盐类可包括卤化铵、有机铵盐、卤化碳、卤化氢、卤化钨、卤化苯、卤化芳香族、卤化烷、或前述的组合。接着,将氧化钨前驱溶液涂布于基板上,此处的涂布方法可为各种湿式涂布,包括旋转涂布(spin coating)、铸模(casting)、棒状涂布(bar coating)、刮刀涂布(blade coating)、滚筒涂布(roller coating)、线棒涂布(wire bar coating)或浸渍涂布(dip coating)等。所使用的基板可包括玻璃基板、透明树脂基板、或前述的组合。在本发明一实施方式中,玻璃基板为强化玻璃。在本发明另一实施方式中,透明树脂基板可包括聚酯、 聚酰亚胺树脂、压克力树脂、环氧树脂、硅酮树脂(silicone resin)、苯氧基树脂(phenoxy resin)、聚氨酯树脂(urethaneresin)、尿素树脂、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯树脂(ABS resin)、聚乙烯醇缩丁醛树脂(PVB resin)、聚醚树脂、含氟树脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚酰胺、淀粉、纤维素、前述的共聚物或前述的混合物等。将完成涂布的基板置于烘箱中烘干,其温度可介于约25至200°C,时间约0. 5至 30min。所形成的薄膜可为焦绿石型结构(pyrochlore structure),此时所形成的薄膜尚不具有红外光反射的效能。干燥后的薄膜在还原气体中进行还原反应时,其温度可介于约100°C至约500°C, 较佳可介于约250°C至约500°C。还原气体例如为氢气,其氢气含量约1至100% (vol)。还原时间可约10至480分钟,较佳约20至240分钟。还原后的薄膜的结构由焦绿石型结构 (pyrochlore structure)转变为六角形结构(hexagonal structure),所制得的薄膜可具有红外光反射的效能,且为透明薄膜。一般而言,进行还原反应的温度越高,还原反应所需的时间越短;反之,若要降低反应温度,则需延长反应的时间。故可依据基板特性,或其它工艺需求,调整还原反应的温度及时间,以整合在现有强化玻璃或其它透明基板的工艺。由于传统复合氧化钨的生成温度需大于500°C,故无法适用于强化玻璃的隔热涂布后处理所需的低温工艺。然而,本发明实施方式藉由导入第VIIIB族过渡金属催化剂(例
6如钼)来降低复合氧化钨薄膜的生成温度,使氧化钨薄膜可以在约300°C以下生成,故增加此隔热材料的应用性,特别是可应用于强化玻璃上。依据本发明实施例所形成的隔热材料,因工艺步骤中添加了第VIIIB族过渡金属催化剂,且生成隔热膜后亦未将其去除,因此所形成的复合氧化钨薄膜中,会具有一定量的第VIIIB族过渡金属催化剂,其含量通常可约0.001至lwt%,例如约0. 1至0.6Wt%。此隔热膜的光穿透率可约20至85%。在本发明另一实施方式中,省略氧化钨前驱溶液涂布于基板上的步骤,而直接将其置入烘箱中烘干,再于还原气体中还原,还原反应温度可介于约100°C至约500°C,较佳可介于约250°C至约500°C,而制得含第VIIIB族过渡金属催化剂的复合氧化钨粉体。上述粉体经研磨分散于溶剂或树脂等介质中形成纳米分散体,最后可涂布于玻璃或高分子透明基材上形成透明隔热薄膜。本发明一实施方式所形成含第VIIIB族金属元素的隔热材料,包括具有碱金族或碱土族金属掺杂的复合氧化钨,如式(1)所示MxWOy 式(1),其中,M为至少一种碱金族或碱土族元素,W为钨,0为氧,且0 < X < 1, 2. 2 < Y < 3。此外,此隔热材料中的第VIIIB族金属元素的含量为该复合氧化钨含量约 0. 001至约Iwt%,较佳介于约0. 1至约0. 6wt%。其对于大于780nm的红外光有良好的反射效果,特别在约1400至^OOnm下反射率可达约50至约70%,较佳可大于约70%。此外,在本发明另一实施方式中,上述隔热材料,可包括具有卤素共掺杂的复合氧化钨,如式⑵所示MxWOyAz 式(2),其中,M为至少一种碱金族或碱土族元素,W为钨,0为氧,A为卤素元素,且0 < X ^ 1,2. 2 ^ Y+Z ^ 3,0 < Z ^ 0. 2ο此时,该第VIII族金属元素的含量为该复合氧化钨含量的约0. 001至约Iwt%,较佳为约0. 1至约0. 6wt%。上述隔热材料可为薄膜型式或粉体型式。本发明提供一种可利用低温工艺形成的隔热材料及其制造方法。传统利用真空镀膜所形成的隔热玻璃商品,必须形成多层膜,工艺成本高。本发明所提供的隔热材料仅为单层涂布,故工艺较容易,成本较低,且不需防止镀膜氧化的惰性气体,故稳定性及耐用性较佳。另外,相较于未使用第VIIIB族金属催化剂所形成的复合氧化钨薄膜,使用第 VIIIB族金属催化剂可降低还原反应的温度。传统复合氧化钨薄膜需在500°C以上进行还原反应,故无法应用于强化玻璃。然而,本发明可在500°C下,甚至300°C下形成透明的复合氧化钨薄膜,且仍然可达到隔热材料的高红外光反射能力,故可增加其应用性。利用本发明所形成的复合氧化钨薄膜对大于780nm的红外光有良好的反射效果,特别在1400至^OOnm 下反射率可达约50至约70%,较佳可大于约70%。比较例1将 5 克偏鹤酸铵(ammonium metatungstate)与 1. 1 克碳酸铯(Cesiumcarbonate) 加入40ml去离子水中混合均勻。再以NH4OH水溶液调整pH值至12,以形成氧化钨前驱溶液 (未添加第VIIIB族金属催化剂)。将氧化钨前驱溶液以浸泡涂布(dipping coating)涂布于玻璃基材上,并置于120°C烘箱干燥。最后,再以10% (vol)氢/氩(H2/Ar)在400°C 下反应60分钟,以形成复合氧化钨薄膜。测定其UV-VIS4R光谱(如图1所示)。所使用UV-VIS-IR光谱为SHIMADZU(UV-3600),其操作条件为波长范围 240-2600nm,扫描间距5nm。实施例1将5克偏钨酸铵与1. 1克碳酸铯加入40ml去离子水中混合均勻。再以NH4OH水溶液调整PH值至12,再加入0. 的钼金属盐类&PtCl6 -H2O以形成氧化钨前驱溶液。将氧化钨前驱溶液以浸泡涂布涂布于玻璃基材上,并置于120°C烘箱干燥。最后,以10% (vol) 氢/氩(H2Ar)分别在400°C下反应60分钟,以形成复合氧化钨薄膜。测定其UV-VIS-IR 光谱(如图1所示)。图1比较加入第VIIIB族金属催化剂所形成复合氧化钨薄膜与未加入催化剂的薄膜(比较例1)的穿透及红外光反射情形。由图中可明显的看出,加入第VIIIB族钼金属催化剂后,所形成薄膜的反射率远高于未加入催化剂的薄膜的反射率。亦即,本发明所加入的第VIIIB族金属可有效的改善复合氧化钨薄膜的反射率,且具有优良的可见光穿透性。实施例2将5克偏钨酸铵与1. 1克碳酸铯加入40ml去离子水中混合均勻。再以NH4OH水溶液调整PH值至12,再加入0. 的钼金属盐类H2PtCl6 · H2O,以形成氧化钨前驱溶液。 将氧化钨前驱溶液以浸泡涂布涂布于玻璃基材上,并置于120°C烘箱干燥。最后,以10% (vol)氢/氩(H2/Ar)分别在洸01、3001、4001、5001下反应60分钟,以形成复合氧化钨薄膜。测定其UV-VIS4R光谱(如图2所示)。图2显示加入第VIIIB族金属催化剂后,在不同还原反应温度下,所形成的复合氧化钨薄膜的反射率。如图2所示,在加入第VIIIB族金属催化剂后,还原反应的温度不论为 260 300 400 500 0C,所形成的薄膜仍可保有反射红外光的能力。实施例3将5克偏钨酸铵与1. 1克碳酸铯加入40ml去离子水中混合均勻。再以NH4OH水溶液调整PH值至12,再加入0. 的钼金属盐类H2PtCl6 · H2O,以形成氧化钨前驱溶液。 将氧化钨前驱溶液以浸泡涂布涂布于玻璃基材上,并置于120°C烘箱干燥。最后,以10% (vol)氢/氩(H2/Ar)分别在300°C下改变反应时间。其反射率对反应时间显示如图3。如图3所示,在300°C下反应60分钟,其红外光反射率即可达到约70%。亦即,加入第VIIIB 族金属催化剂可有效降低还原反应所需温度,故增加其应用性。实施例4将5克偏钨酸铵与1. 1克碳酸铯加入40ml去离子水中混合均勻。再以NH4OH水溶液调整PH值至12,再加入0. 的钼金属盐类H2PtCl6 · H2O,以形成氧化钨前驱溶液。 将氧化钨前驱溶液以浸泡涂布涂布于玻璃基材上,并置于120°C烘箱干燥。最后,以10% (vol)氢/氩(H2/Ar)在260°C、300°C、40(rC、50(rC下,反应时间为240或60分钟,以形成复合氧化钨薄膜。测定其UV-VIS-IR光谱(如图4所示)。图4显示还原反应的时间与温度对反射率的影响。在低温时,反应时间较长可提高薄膜的红外光反射率。当反应温度较高时,则可以较短的反应时间即达到较佳的红外光反射率。亦即,可依照应用上的需要,来调整适当的反应时间及反应温度。
实施例5将5克偏钨酸铵与1. 1克碳酸铯加入40ml去离子水中混合均勻。再以NH4OH水溶液调整PH值至12,再加入0. 的钼金属盐类H2PtCl6 · H2O,以形成氧化钨前驱溶液。 将氧化钨前驱溶液以浸泡涂布涂布于玻璃基材上,并置于120°C烘箱干燥。最后,以10% (vol)氢/氩(H2Ar)在400°C下,反应60分钟,以形成复合氧化钨薄膜。利用紫外光试验箱 (QUV)照射所形成的复合氧化钨薄膜,经过150、600、1000、2000小时之后,以UV-VIS4R光谱测试其穿透及反射性质。可发现本发明所形成的复合氧化钨薄膜在紫外光试验箱(QUV) 连续照射后,仍维持优良的穿透/反射性质。故本发明的隔热材料不易氧化,而没有传统的隔热玻璃商品的缺点。传统隔热玻璃必须将银镀膜密封在充填惰性气体的双层玻璃内,以保护其银镀膜不被氧化。一旦双层玻璃中的惰性气体泄漏,整个玻璃就会失去隔热效能。然而,本发明不仅不需要多层膜的工艺,且不需防止镀膜氧化的惰性气体,故稳定性及耐用性较佳。实施例6将5克偏钨酸铵与1. 1克碳酸铯加入40ml去离子水中混合均勻。再以NH4OH水溶液调整PH值至12,再分别加入0. 1,0.4,0. 8wt%的钼金属盐类H2PtCl6 · H2O,以形成氧化钨前驱溶液。将氧化钨前驱溶液以浸泡涂布涂布于玻璃基材上,并置于120°C烘箱干燥。 最后,以10% (vol)氢/氩(H2/Ar)在400°C下,反应60分钟,以形成复合氧化钨薄膜。以 UV-VIS4R光谱测试其穿透及反射性质。如图5、6所示,本实施例仅需少量催化剂,即可达到此反应的催化效果。实施例7将5克偏钨酸铵与1. 1克碳酸铯加入40ml去离子水中混合均勻。再以NH4OH水溶液调整PH值至12,再分别加入0. 4wt%H VIIIB族金属催化剂H2PtCl6 · H2O, NiCl6. 6H20、 RhCl3. H2O或PdCl2,以形成氧化钨前驱溶液。将氧化钨前驱溶液以浸泡涂布涂布于玻璃基材上,并置于120°C烘箱干燥。最后,以10% (vol)氢/氩(H2/Ar)在400°C下,反应60分钟,以形成复合氧化钨薄膜。以UV-VIS4R光谱测试其穿透及反射性质。图第7、8所示,力口入不同的第VIIIB族金属催化剂,皆可提高复合氧化钨薄膜的反射率。实施例8将5克偏钨酸铵与1. 1克碳酸铯加入40ml去离子水中混合均勻。再以NH4OH水溶液调整PH值至12,再加入0. 的钼金属盐类H2PtCl6 · H2O,以形成氧化钨前驱溶液。 将氧化钨前驱溶液以浸泡涂布涂布于玻璃基材上,并置于120°C烘箱干燥。最后,以10% (vol)氢/氩(H2/Ar)分别在沈01、3001、4001、5001下,反应20分钟,以形成复合氧化
钨薄膜。另外以未加入钼金属盐类H2PtCl6所形成氧化钨前驱溶液作为对照组。将氧化钨前驱溶液以浸泡涂布涂布于玻璃基材上,并置于120°C烘箱干燥。最后,以10% (vol)氢/ 氩(H2Ar)分别在400°C、500°C下,反应20分钟,以形成作为对照的复合氧化钨薄膜。以X光粉晶绕射(XRD)光谱决定其结构。如图9、10所示,本实施例所形成的复合氧化钨薄膜,经300°C反应20分钟后,即可转换为六方晶系结构。然而,在未加入第VIIIB 族金属催化剂的情况下,即使升温至400°C、50(TC,复合氧化钨薄膜仍无法转换为红外光反射性佳的六方晶系结构。
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实施例9将5克偏钨酸铵与1. 1克碳酸铯加入40ml去离子水中混合均勻。再以NH4OH水溶液调整PH值至12,再加入0. 的钼金属盐类H2PtCl6 · H2O,以形成氧化钨前驱溶液。 将氧化钨前驱溶液以浸泡涂布涂布于玻璃基材上,并置于120°C烘箱干燥。最后,以10% (vol)氢/氩(H2/Ar)分别在洸01、3001、4001、5001下,经过不同的反应时间(260 % 300°C为240分钟,400与500°C为60分钟),形成复合氧化钨薄膜。图11为在各温度下,可达最佳红外光反射效能所需的时间的X光粉晶绕射图。如图11所示,在低温时需要较长的反应时间,在高温时所需反应时间则较短。相较于传统复合氧化钨薄膜需在500°C以上进行还原反应,本发明可针对需要对还原反应的温度及时间进行调整,而仍然可达到隔热材料的高红外光反射能力,故可增加其应用性。实施例10将5克偏钨酸铵与1. 1克碳酸铯并分别加入l、3、5、10mOl%的卤素盐类NH4Cl至 40ml去离子水中混合均勻。再以NH4OH水溶液调整pH值至12,加入0. 钼金属催化剂 H2PtCl6 · H2O,以形成氧化钨前驱溶液。将氧化钨前驱溶液以浸泡涂布涂布于玻璃基材上, 并置于120°C烘箱干燥。最后,以10% (vol)氢/氩(H2/Ar)在400°C下,反应60分钟,以形成复合氧化钨薄膜。以UV-VIS4R光谱测试其穿透及反射性质。图12显示加入卤素盐类对红外光反射率的影响。如图12所示,改变卤素盐类的添加量,仍可维持所形成的复合氧化钨薄膜的红外光反射率。实施例11将所形成复合氧化钨薄膜以化学分析电子仪(Electron Spectroscopy forChemical Analysis,ESCA)进行薄膜表面元素分析,其型号为(VG ScientificMicrolab 310F),侦测深度为50人以内,此设备将侦测复合氧化钨薄膜中的钼元素的含量。经由ESCA 分析出的结果如下钨(W,21. 22mol%)、氧(0,63. 48mol%)、铯(Cs, 10. 75mol%)、钼(Pt, 4. 55mol% ),根据上述元素分析的结果指出复合氧化钨薄膜中确实含有钼金属催化剂。实施例12将5克偏钨酸铵与1. 1克碳酸铯加入40ml去离子水中混合均勻。再以NH4OH水溶液调整PH值至12,再加入0. 的钼金属盐类H2PtCl6 · H2O,以形成氧化钨前驱溶液, 后将前驱溶液置于130°C烘箱干燥。最后,以10% (vol)氢/氩(H2/Ar)分别在400°C下反应60分钟,以形成复合氧化钨粉体。虽然本发明已以数个较佳实施例揭露如上,然其并非用以限定本发明,任何所属技术领域中具有通常知识者,在不脱离本发明的精神和范围内,当可作任意的更动与润饰, 因此本发明的保护范围当视后附的权利要求书所界定的范围为准。
权利要求
1.一种隔热材料的制造方法,包括提供一含有第VIIIB族金属元素的氧化钨前驱溶液; 干燥该氧化钨前驱溶液以形成一干燥的氧化钨前驱物;以及将该干燥的氧化钨前驱物在100至500°C下以还原气体进行反应,以形成一复合氧化钨。
2.如权利要求1所述的隔热材料的制造方法,其中该干燥步骤前,还包括将该氧化钨前驱物溶液涂布于一基板上。
3.如权利要求1所述的隔热材料的制造方法,其中所形成的该复合氧化钨为一薄膜。
4.如权利要求1所述的隔热材料的制造方法,其中所形成的该复合氧化钨为一粉体。
5.如权利要求2所述的隔热材料的制造方法,其中该基板为玻璃、透明树脂、或前述的组合。
6.如权利要求5所述的隔热材料的制造方法,其中该玻璃为强化玻璃。
7.如权利要求1所述的隔热材料的制造方法,其中该还原反应步骤温度介于250至 500 "C。
8.如权利要求1所述的隔热材料的制造方法,其中该还原反应步骤进行20至240分钟。
9.如权利要求1所述的隔热材料的制造方法,其中该氧化钨前驱溶液包括(a)氧化钨前驱物、(b)碱金族或碱土族盐类、以及(c)第VIIIB族金属、第VIIIB族金属氧化物、或第 VIIIB族金属盐类。
10.如权利要求9所述的隔热材料的制造方法,其中该氧化钨前驱物为偏钨酸铵、正钨酸铵、仲钨酸铵、碱金族钨酸盐、钨酸、硅化钨、硫化钨、氯氧钨、醇氧钨、六氯化钨、四氯化钨、溴化钨、氟化钨、碳化钨、碳氧化钨、或前述的组合。
11.如权利要求9所述的隔热材料的制造方法,其中该碱金族或碱土族盐类的通式为 MpN,其中M为碱金族或碱土族元素,包括锂、钠、钾、铷、铯、铍、镁、钙、锶、钡、或前述的组合,N为带负价的阴离子或阴离子团,0. 5彡ρ彡12。
12.如权利要求9所述的隔热材料的制造方法,其中该碱金族或碱土族盐类包括碱金族或碱土族的碳酸盐、碳酸氢盐、硝酸盐、亚硝酸盐、氢氧化物、商化盐、硫酸盐、亚硫酸盐、 或前述的组合。
13.如权利要求9所述的隔热材料的制造方法,其中该第VIIIB族金属、第VIIIB族金属氧化物或第 VIIIB 族金属盐类为 Pt、PtO2, H2PtCl6 · H2O, H2PtCl6 · 6H20、N2O6Pt, PtCl4, C4H604Pt、Ni、Ni0、Ni2C03、C4H6O4Ni · 4H20, NiCl2, H8N2NiO8S2 · 6H20、NiCl2 · 6H20、NiF2、NiBr2、 NiCl6 · 6H20、Rh、Rh2O3, RhCl3 · H20、N3O9Rh、C4H9O6RK Pd、PdO、H2O2Pd, N2O6PcU PdBr2, C4H6O4PcU PdCl2、或前述的组合。
14.如权利要求1所述的隔热材料的制造方法,其中该氧化钨前驱溶液的PH値大于7。
15.如权利要求1所述的隔热材料的制造方法,其中该还原气体为氢气。
16.如权利要求9所述的隔热材料的制造方法,其中该氧化钨前驱溶液还包括一卤素盐类。
17.如权利要求16所述的隔热材料的制造方法,其中该卤素盐类的通式为PAtl,其中A 为卤素元素,包括氟、氯、溴或碘,P为带正价的阳离子或阳离子团,1 < q < 12。
18.如权利要求16所述的隔热材料的制造方法,其中该卤素盐类为卤化铵、有机铵盐、 卤化碳、卤化氢、卤化钨、卤化苯、卤化芳香族、卤化烷、或前述的组合。
19.一种隔热材料,包括一具有碱金或碱土族金属掺杂的复合氧化钨,如式(1)所示 MxWOy 式(1),其中,M为至少一种碱金族或碱土族元素,W为钨,0为氧,且0 <X彡1,2.2彡Y彡3 ;以及一第VIIIB族金属元素。
20.如权利要求19所述的隔热材料,其中该隔热材料是由如权利要求1所述的隔热材料的制造方法所制得者。
21.一种隔热材料,包括一具有碱金或碱土族金属与卤素共掺杂的复合氧化钨,如式( 所示 MxWOyAz 式(2),其中,M为至少一种碱金族或碱土族元素,W为钨,0为氧,A为卤素元素,且0 < X < 1, 2. 2彡Y+Z彡3,0 < Z彡0. 2 ;以及一第VIIIB族金属元素。
22.如权利要求21所述的隔热材料,其中该隔热材料是由如权利要求16项所述的隔热材料的制造方法所制得者。
23.如权利要求19或21所述的隔热材料,其中该隔热材料为一薄膜。
24.如权利要求19或21所述的隔热材料,其中该隔热材料为一粉体。
全文摘要
本发明提供一种隔热材料的制造方法,包括提供一含有第VIIIB族金属元素的氧化钨前驱溶液;干燥该氧化钨前驱溶液以形成一干燥的氧化钨前驱物;以及将该干燥的氧化钨前驱物在约100至500℃下以还原气体进行反应,以形成一复合氧化钨。本发明还提供一种隔热材料,包括一具有碱金族或碱土族金属掺杂的复合氧化钨,如式MXWOY或MXWOYAZ,其中,M为至少一种碱金族或碱土族元素,W为钨,O为氧,A为卤素元素;以及一第VIIIB族金属元素。
文档编号C03C25/12GK102560480SQ20111003165
公开日2012年7月11日 申请日期2011年1月25日 优先权日2010年12月7日
发明者傅怀广, 张义和, 钟宝堂, 钟松政, 陈哲阳 申请人:财团法人工业技术研究院
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