一种防沉淀浸釉池的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种防沉淀浸釉池，包括：釉池、出釉管、泵体、入釉管及电磁阀，所述釉池的底部设置有向上凸起的锥形凸台，所述锥形凸台设置有中空的内腔，所述锥形凸台的表面设置有多个通孔，所述出釉管的一端与所述釉池的中下部连接，所述出釉管的另一端与所述泵体连接，所述入釉管的一端与所述泵体连接，所述入釉管的另一端与所述锥形凸台的内腔连接，所述入釉管上设置有所述电磁阀。本发明结构简单，很方便地通过泵体使釉池的釉水在底部循环流动，能够避免釉水的矿物质沉淀，节约成本。
【专利说明】一种防沉淀浸釉池
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种浸釉池，尤其涉及一种防沉淀浸釉池
【背景技术】
[0002]浸釉是一种在陶瓷制作过程中对陶瓷坯体进行上釉常用的方法。由于釉水是由多种矿物质混合搅拌而成的，大量的使用时，其内部的矿物质会发生沉淀，造成釉水色泽和成分发生变化，釉水不能再用，造成浪费。现有的陶瓷制作过程中每隔一段时间就需要对釉水进行搅拌以防止矿物质的沉淀，其劳动强度大，增加上釉成本。
【发明内容】
[0003]本发明针对上述问题的不足，提供了一种能够防止釉水发生沉淀、结构简单的防沉淀浸釉池。
[0004]为达上述目的，本发明提供解决问题的技术方案是:一种防沉淀浸釉池，其包括:釉池、出釉管、泵体、入釉管及电磁阀，所述釉池的底部设置有向上凸起的锥形凸台，所述锥形凸台设置有中空的内腔，所述锥形凸台的表面设置有多个通孔，所述出釉管的一端与所述釉池的中下部连接，所述出釉管的另一端与所述泵体连接，所述入釉管的一端与所述泵体连接，所述入釉管的另一端与所述锥形凸台的内腔连接，所述入釉管上设置有所述电磁阀。
[0005]本发明其他优选的结构有:所述通孔均匀分布。
[0006]本发明的特点和效果是:通过泵体使釉池的釉水在底部循环流动，从而避免釉水的矿物质沉淀，且釉池的底部设置有锥形凸台，锥形凸台表面设置有通孔，能够使釉池的釉水在底部进行全面的翻滚，效果更好。
【专利附图】
【附图说明】
[0007]图1为本发明的一种防沉淀浸釉池的结构示意图。
【具体实施方式】
[0008]以下参照附图并结合【具体实施方式】来进一步描述，以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施，保护范围并不受制于本技术方案的实施方式。
[0009]本发明的最佳实施例是这样的，如图1所示，一种防沉淀浸釉池，其包括:釉池1、出釉管2、泵体3、入釉管5及电磁阀4，釉池I的底部设置有向上凸起的锥形凸台6，锥形凸台6设置有中空的内腔，锥形凸台6的表面设置有多个通孔7，通孔7使釉池I的内腔与锥形凸台6的内腔相通。出釉管2的一端与釉池I的中下部连接，出釉管2的另一端与泵体3连接，入釉管5的一端与泵体3连接，入釉管5的另一端与锥形凸台6的内腔连接，入釉管5上设置有电磁阀4。
[0010]本发明其他优选的结构有:通孔7均匀分布在锥形凸台6的锥面上。
[0011]工作原理:
[0012]打开电磁阀4，启动泵体3，出釉管2从釉池I的中下部抽出釉水，并流到入釉管5内，再流入到锥形凸台6的内腔，最后从锥形凸台6上的通孔7重新回流到釉池I内，从而使釉水在釉池I的底部循环滚动，防止釉水中的矿物质沉淀，泵体3可以每隔一段时间便工作一阵，也可以持续工作。另外，由于锥形凸台6的存在，且其设置有通孔7，能够使釉水从不同的角度、位置和高度注入釉池1，使釉水在釉池I的底部充分翻滚，效果更好
[0013]通过以上实施例可以详细的解释本发明，公开本发明的目的旨在保护本发明范围内的一切技术改进。
【权利要求】
1.一种防沉淀浸釉池，其特征是，包括:釉池、出釉管、泵体、入釉管及电磁阀，所述釉池的底部设置有向上凸起的锥形凸台，所述锥形凸台设置有中空的内腔，所述锥形凸台的表面设置有多个通孔，所述出釉管的一端与所述釉池的中下部连接，所述出釉管的另一端与所述泵体连接，所述入釉管的一端与所述泵体连接，所述入釉管的另一端与所述锥形凸台的内腔连接，所述入釉管上设置有所述电磁阀。
2.根据权利要 求1所述的防沉淀浸釉池，其特征是:所述通孔均匀分布。
【文档编号】C04B41/86GK104130027SQ201410374005
【公开日】2014年11月5日 申请日期:2014年7月31日 优先权日:2014年7月31日
【发明者】陈向阳 申请人:广西北流仲礼瓷业有限公司