一种淋釉机调节装置制造方法
【专利摘要】本实用新型提供一种淋釉机调节装置，包括固定腔体、活动腔体、调节部件、挡板、调节杆、调节部件、偏心轴及支撑调节部件；固定腔体和活动腔体为凹腔形结构，固定腔体和活动腔体间设有控釉腔，固定腔体顶部与活动腔体相接触处为下端相内倾斜的三角形结构，活动腔体上设置有腔体调节孔，挡板上设置有腔体活动杆和挡板进釉孔；偏心轴一端设有偏心轴连接杆插孔。该装置结构简单，同时便于操作，很好地节约了淋釉机生产及使用过程中的成本，并且一般技术人员很容易学习和掌握，从而很大程度的节约了时间成本。
【专利说明】一种淋釉机调节装置
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及瓷砖加工设备【技术领域】，具体涉及一种淋釉机调节装置。
【背景技术】
[0002] 淋釉机主要用于为砖述表面施底釉及面釉，其中淋釉机调节装置用于淋釉量及淋 釉速度的控制与调节，目前的淋釉机调节装置结构复杂且操作困难，十分影响淋釉加工效 率，而且一般技术人员需要很长时间的学习掌握才能进行良好的操作加工，所以亟需一种 结构简单且便于操作的淋釉机调节装置以解决上述不足。 实用新型内容
[0003] 本实用新型的目的在于针对现有技术的不足，提供一种淋釉机调节装置，该装置 结构简单且便于操作，可以很大的提高淋釉加工的工作效率。
[0004] 为达到上述要求，本实用新型采取的技术方案是：提供一种淋釉机调节装置，包括 固定腔体、活动腔体、调节部件、设置于所述固定腔体和活动腔体两侧的挡板、与两侧所述 挡板相连接的调节杆、用来调节所述调节杆旋转角度的调节部件、固定于所述调节杆上的 偏心轴及设置于所述活动腔体上位置与所述偏心轴相对应的支撑调节部件；固定腔体和活 动腔体为凹口向内的凹腔形结构，固定腔体和活动腔体间设有空腔形结构的控釉腔，固定 腔体顶部与活动腔体相接触处为下端相内倾斜的三角形结构，固定腔体固定于挡板之间， 活动腔体上设置有用来与挡板相连接的腔体调节孔，腔体调节孔为圆形孔状结构，挡板上 设置有位置与腔体调节孔相对应的腔体活动杆和与控釉腔相连通的挡板进釉孔；偏心轴一 端设有偏心轴连接杆插孔，支撑调节部件上设置有两个偏心轴固定板，偏心轴固定板上设 有位置与偏心轴连接杆插孔相对应的支撑调节部件连接杆插孔，偏心轴与支撑调节部件通 过偏心轴连接杆相连接。
[0005] 该淋釉机调节装置利用偏心轴原理，通过调节部件及调节转盘实现对淋釉机的精 密调节，该装置结构简单，便于操作，同时可以降低淋釉成本达到百分之十五以上，并且一 般技术人员很容易学习及掌握从而很大的节约了时间成本。
【专利附图】
【附图说明】
[0006] 此处所说明的附图用来提供对本申请的进一步理解，构成本申请的一部分，在这 些附图中使用相同的参考标号来表示相同或相似的部分，本申请的示意性实施例及其说明 用于解释本申请，并构成对本申请的不当限定。在附图中：
[0007] 图1示意性地示出了根据本申请一个实施例的安装了该淋釉机调节装置的淋釉 机的示意图。
[0008] 图2示意性地示出了根据本申请一个实施例的淋釉机调节装置局部的结构示意 图。
[0009] 图3示意性地示出了根据本申请一个实施例的淋釉机调节装置偏心轴的结构示 意图。
[0010] 图4示意性地示出了根据本申请一个实施例的淋釉机调节装置支撑调节部件的 主视图。
[0011] 图5示意性地示出了根据本申请一个实施例的淋釉机调节装置支撑调节部件的 左视图。
[0012] 图6示意性地示出了根据本申请一个实施例的淋釉机调节装置支撑调节部件的 俯视图。
[0013] 图7示意性地示出了根据本申请一个实施例的淋釉机调节装置挡板的示意图。
[0014] 图8示意性地示出了根据本申请一个实施例的淋釉机调节装置受压部件的固定 腔体和活动腔体示意图。
[0015] 图9示意性地示出了根据本申请一个实施例的淋釉机调节装置导流板的示意图。
[0016] 其中：1、接釉盆；2、导流板；3、偏心轴；4、挡板；5、支撑调节部件；6、调节杆；7、 固定腔体；8、活动腔体；9、进釉管；10、调节部件；11、调节转盘；12、出釉管；13、固定部件； 14、偏心轴连接杆；15、偏心轴固定板；16、腔体固定杆；17、挡板进釉孔；18、腔体活动杆； 19、调节杆插孔；20、偏心轴连接杆插孔；21、固定部件插孔；22、支撑调节部件连接杆插孔； 23、腔体固定孔；24、控釉腔；25、腔体调节孔、26、出釉刀；27、出釉刀凹口；28、第一导流外 挡板；29、第一引流槽挡板；30、第二引流槽挡板；31、第二导流外挡板；32、第二导流外槽； 33、导流槽；34、第一导流外槽。
【具体实施方式】
[0017] 为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，以下结合附图及具体实施例，对本 申请作进一步地详细说明。
[0018] 在以下描述中，对" 一个实施例"、"实施例"、" 一个示例"、"示例"等等的引用表明 如此描述的实施例或示例可以包括特定特征、结构、特性、性质、元素或限度，但并非每个实 施例或示例都必然包括特定特征、结构、特性、性质、元素或限度。另外，重复使用短语"根据 本申请的一个实施例"虽然有可能是指代相同实施例，但并非必然指代相同的实施例。
[0019] 为简单起见，以下描述中省略了本领域技术人员公知的某些技术特征。
[0020] 根据本申请的一个实施例，提供一种淋釉机调节装置，如图1至图3所示，包括固 定腔体7、活动腔体8、调节部件10、设置于该固定腔体7和活动腔体8两侧的挡板4、与两 侧挡板4相连接的调节杆6、用来调节该调节杆6旋转角度的调节部件10、固定于所述调节 杆6上的偏心轴3及设置于活动腔体8上位置与偏心轴3相对应的支撑调节部件5。
[0021] 根据本申请的一个实施例，提供一种淋釉机调节装置，如图1至图2所示，调节部 件10可以带动调节杆6及设置于调节杆6上的偏心轴3转动，从而改变该偏心轴3施于受 支撑调节部件5上的力的大小及方向，当偏心轴3凸起的一侧正对支撑调节部件5时，该支 撑调节部件5收到向内的最大的力，此时活动腔体8底部最贴近固定腔体7底部，而使得活 动腔体8和固定腔体7底部的出釉刀26间的间隙最小，出釉速度最慢，当偏心轴3凸起的 一侧从正对支撑调节部件5状态下开始转动时，该支撑调节部件5收到向内的力会逐渐变 小，此时活动腔体8底部开始远离固定腔体7底部，而使得活动腔体8和固定腔体7底部的 出釉刀26间的间隙不断变大，出釉速度变快，这样通过调节偏心轴3的角度就可以对淋釉 机出釉量及出釉速度进行调节和控制。
[0022] 根据本申请的一个实施例，提供一种淋釉机调节装置，如图8所示，固定腔体7和 活动腔体8为凹口向内的凹腔形结构，该固定腔体7和活动腔体8间设有空腔形结构的控 釉腔24,固定腔体7顶部与活动腔体8相接触处为下端相内倾斜的三角形结构，该固定腔体 7固定于挡板4之间，活动腔体8上设置有用来与该挡板4相连接的腔体调节孔25,该腔体 调节孔25为圆形孔状结构。
[0023] 根据本申请的一个实施例，提供一种淋釉机调节装置，如图7所示，挡板4上设置 有位置与腔体调节孔25相对应的腔体活动杆18和与控釉腔24相连通的挡板进釉孔17。
[0024] 根据本申请的一个实施例，提供一种淋釉机调节装置，如图2至图6所示，偏心轴3 一端设有偏心轴连接杆插孔20,支撑调节部件5上设置有两个偏心轴固定板15,该偏心轴 固定板15上设有位置与偏心轴连接杆插孔20相对应的支撑调节部件连接杆插孔22,偏心 轴3与支撑调节部件5通过偏心轴连接杆14相连接。
[0025] 根据本申请的一个实施例，提供一种淋釉机调节装置，如图4至图6所示，支撑调 节部件5两侧设置有用来与活动腔体8相连接的固定部件插孔21。
[0026] 根据本申请的一个实施例，提供一种淋釉机调节装置，如图1所示，调节部件10上 设置有可旋转的调节转盘11。
[0027] 根据本申请的一个实施例，提供一种淋釉机调节装置，如图8所示，固定腔体7和 活动腔体8底部设置有出釉刀26,该出釉刀26底部设有向内凹槽型结构的出釉刀凹口 27。
[0028] 根据本申请的一个实施例，提供一种淋釉机调节装置，如图9所示，固定腔体7和 活动腔体8正下方设置有用来控制出釉方向的导流板2,延该导流板2对称轴上设置有导流 槽33,该导流槽33两侧设置有第一引流槽挡板29和第二引流槽挡板30,导流板2的两侧 外边界处设置有对称的第一导流外挡板28和第二导流外挡板31 ;所述第一导流外挡板28 与第一引流槽挡板29间设有凹槽型结构的第一导流外槽34,第二引流槽挡板30与第二导 流外挡板31间设有凹槽型结构的第二导流外槽32。
[0029] 根据本申请的一个实施例，提供一种淋釉机调节装置，如图9所示，导流板2为上 底大于下底的梯形结构，第一导流外挡板28和第二导流外挡板31高度大于第一引流槽挡 板29和第二引流槽挡板30,第一引流槽挡板29和第二引流槽挡板30长度相同且相互平 行，导流槽33横截面宽度小于第二导流外槽32和第一导流外槽34下端横截面宽度。
[0030] 根据本申请的一个实施例，提供一种淋釉机调节装置，如图7至图8所示，固定腔 体7与挡板4相连接，且固定腔体7固定于两侧的挡板4之间，该固定腔体7上可以设有至 少两个腔体固定孔23,挡板4上可以设置有位置和数量皆与该腔体固定孔23相对应的腔体 固定杆16,该腔体固定杆16穿过固定腔体7上的腔体固定孔23将固定腔体7与挡板4相 连接，并保证二者固定得牢固。
[0031] 根据本申请的一个实施例，提供一种淋釉机调节装置，如图1所示，调节杆6和调 节部件10均设于挡板4上，通过调节部件10可以对淋釉机出釉速度进行调节，并使釉液沿 导流板2流入接釉盆1。
[0032] 根据本申请的一个实施例，如图4至图6所示，提供一种淋釉机调节装置，活动腔 体8上设置有与偏心轴3位置对应的支撑调节部件5,该支撑调节部件5主要承受来自偏心 轴3不同大小及方向的力进而对淋釉机出釉量及出釉速度进行调节。
[0033] 根据本申请的一个实施例，如图3所示，提供一种淋釉机调节装置，该装置偏心轴 3上设置有偏心轴3连接杆插孔20和调节杆插孔19,调节杆6贯穿调节杆插孔19从而与 偏心轴3连接，并使该偏心轴3牢牢固定于调节杆6上当对调节部件10进行调节时会带动 调节杆6 -起转动，进而带动偏心轴3转动以对淋釉速度进行调节。
[0034] 根据本申请的一个实施例，图4至图6所示，提供一种淋釉机调节装置，支撑调节 部件5上设置有偏心轴固定板15及起固定作用的固定部件插孔21，偏心轴固定板15上设 有支撑调节部件连接杆插孔22,偏心轴3上设有位置与心轴固定板15上的支撑调节部件连 接杆插孔22位置对应的偏心轴连接杆插孔20,偏心轴连接杆14穿过偏心轴连接杆插孔20 和支撑调节部件连接杆插孔22从而起到对偏心轴3和支撑调节部件5起到连接固定作用。
[0035] 根据本申请的一个实施例，提供一种淋釉机调节装置，如图1所示，该调节部件10 上设置有可旋转的的调节转盘11，该调节转盘11上可以设置有旋转杆，转动旋转杆可以使 该淋釉机调节装置在使用过程中更加方便省力，当转动该调节转盘11或转动该调节转盘 11上的旋转杆是可以对调节杆6的旋转角度进行调节，进而调节淋釉机的出釉速度。
[0036] 根据本申请的一个实施例，提供一种淋釉机调节装置，图4所示，该装置支撑调节 部件5上设有固定部件插孔21，固定部件13通过贯穿固定部件插孔21使支撑调节部件5 与活动腔体8连接，当偏心轴3转动时会使该支撑调节部件5收到方向和大小不同的力， 进而对固定腔体7和活动腔体8的底部间距进行调整，以改变淋釉机的出釉速度。
[0037] 以上所述实施例仅表示本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但 并不能理解为对本实用新型范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说， 在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型 保护范围。因此本实用新型的保护范围应该以所述权利要求为准。
【权利要求】
1. 一种淋釉机调节装置，其特征在于：包括固定腔体（7)、活动腔体（8)、调节部件 (10)、设置于固定腔体（7)和活动腔体（8)两侧的挡板（4)、与两侧挡板（4)相连接的调节杆 (6)、用来调节调节杆（6)旋转角度的调节部件（10)、固定于所述调节杆（6)上的偏心轴（3) 及设置于活动腔体（8)上位置与偏心轴（3)相对应的支撑调节部件（5); 所述固定腔体（7)和活动腔体（8)为凹口向内的凹腔形结构，所述固定腔体（7)和活 动腔体（8)间设有空腔形结构的控釉腔（24)，所述固定腔体（7)顶部与活动腔体（8)相接 触处为下端相内倾斜的三角形结构，所述固定腔体（7)固定于挡板（4)之间，所述活动腔体 (8)上设置有用来与挡板（4)相连接的腔体调节孔（25)，所述腔体调节孔（25)为圆形孔状 结构，所述挡板（4)上设置有位置与腔体调节孔（25)相对应的腔体活动杆（18)和与控釉腔 (24)相连通的挡板进釉孔（17); 所述偏心轴（3) -端设有偏心轴连接杆插孔（20)，所述支撑调节部件（5)上设置有两 个偏心轴固定板（15 )，偏心轴固定板（15 )上设有位置与所述偏心轴连接杆插孔（20 )相对 应的支撑调节部件连接杆插孔（22)，所述偏心轴（3)与支撑调节部件（5)通过偏心轴连接 杆（14)相连接。
2. 根据权利要求1所述的淋釉机调节装置，其特征在于：所述支撑调节部件（5)两侧设 置有用来与活动腔体（8)相连接的固定部件插孔（21)。
3. 根据权利要求1所述的淋釉机调节装置，其特征在于：所述调节部件（10)上设置有 调节转盘（11)。
4. 根据权利要求1所述的淋釉机调节装置，其特征在于：所述固定腔体（7)和活动腔体 (8 )底部设置有出釉刀（26 )，出釉刀（26 )底部设有向内凹槽型结构的出釉刀凹口（ 27 )。
5. 根据权利要求1所述的淋釉机调节装置，其特征在于：所述固定腔体（7)和活动腔体 (8)正下方设置有用来控制出釉方向的导流板（2)，所述导流板（2)对称轴上设置有导流槽 (33) ，所述导流槽（33)两侧设置有第一引流槽挡板（29)和第二引流槽挡板（30)，所述导流 板（2)的两侧外边界处设置有对称的第一导流外挡板（28)和第二导流外挡板（31);所述第 一导流外挡板（28)与第一引流槽挡板（29)间设有凹槽型结构的第一导流外槽（34)，所述 第二引流槽挡板（30)与第二导流外挡板（31)间设有凹槽型结构的第二导流外槽（32)。
6. 根据权利要求1所述的淋釉机调节装置，其特征在于：所述导流板（2)为上底大于下 底的梯形结构，所述第一导流外挡板（28)和所述第二导流外挡板（31)高度大于第一引流 槽挡板（29)和第二引流槽挡板（30)，所述第一引流槽挡板（29)和第二引流槽挡板（30)长 度相同且相互平行，所述导流槽（33)横截面宽度小于第二导流外槽（32)和第一导流外槽 (34) 下端横截面宽度。
【文档编号】C04B41/86GK203999391SQ201420242803
【公开日】2014年12月10日 申请日期:2014年5月13日 优先权日:2014年5月13日
【发明者】李小成, 周超 申请人:四川汉莫尼机械设备有限公司