流体超平膜机的制作方法

文档序号:2017514阅读:308来源:国知局
专利名称:流体超平膜机的制作方法
技术领域
本实用新型涉及一种流体超平膜机。
背景技术
目前市场上用的淋釉机是钟罩淋釉型,其淋釉为弧形断面。钟罩 淋釉不均匀,主要是淋釉的弧形断面对瓷砖的四个角施釉不均匀,导 致砖的釉面层厚薄不均匀,达不到理想的效果。实用新型内容本实用新型的目的在于克服现有技术存在的缺点,提供一种流体 超平膜机。为达到上述目的,本实用新型采取了如下技术方案 流体超平膜机,包括锥形加釉斗,筛网巻筒,施釉箱,机架及自动冲洗装置。锥形加釉斗安装在施釉箱前上方位置,施釉箱安装在机架上,筛网巻筒和自动冲洗装置安装在施釉箱内部。上述技术方案中,泵至锥形加釉斗内的釉是通过溢流的方式流到施釉箱。上述技术方案中,所述的筛网巻筒可为圆筒或圆柱筒。 上述技术方案中,施釉箱的由不锈钢板冲压成的底板和半园辊筒 及辊棒组成两个波谷和两个波峰,所述的施釉箱内的底板可为曲面底板或平面底板。上述技术方案中,施釉箱内设有两个筛网巻筒,使釉流动均匀和 消除气泡。上述技术方案中,在半园辊筒的水平面一侧加工有一平直刀口; 平直刀口可为各种角度,但其较为优选的角度是45度。上述技术方案中,半圆辊筒及辊棒可为空心或实心;釉流过施釉 箱内两个波谷和波峰,最后通过辊筒的刀口呈直线均匀平稳地溢流到 砖面上。上述技术方案中,在施釉箱内装有自动冲洗装置。 以下对上述零部件的功能及特征进行具体描述1. 锥形加釉斗外形尺寸4>250*700腿高(下半部分为锥形), 其作用是将泵上来的釉溢留到施釉箱内,多余的釉回流到釉桶内。2. 筛网巻筒外形尺寸4>80*1000mm,其作用是使釉流动均匀 和消除气泡。3. 施釉箱外形尺寸(长)1000* (宽),1000* (高)400mm, 由侧板,曲线底板和半圆辊筒组成。曲线底板由不锈钢板冲压而成; 半园辊筒(H55 (半园)*1000腿,辊筒的水平面一侧加工有一道45 度的直线刀口。曲线底板和半园辊筒组成两个波谷和波峰。4. 机架外形尺寸(长)1300* (宽)1172* (高)1170iran,由 40*80方管焊成,四脚可调节高低。5. 自动冲洗装置施釉箱内设有两根cJ)25W000mm的喷水管, 每根管上装有9个高压喷水嘴。清洗时喷水管可往复摆动。与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果本实用新型彻底解决了施釉不均匀的问题,淋釉的均匀性和稳定 性得到很好的控制,无波纹、滴漏、气泡等现象,由于是直线施釉, 产品的边缘部分和其它部分厚薄一致,解决了钟罩淋釉边缘部分较厚 的问题,操作简单,且配置有自动控制装置,在国内属首创,填补了 我国陶瓷行业的一项空白。


图1为本实用新型的结构示意图; 图2为图1的右视图; 图3为图1的俯视图; 图4为的半园辊筒结构示意图;图5为本实用新型的原理示意图。
具体实施方式
以下结合说明书附图来对本实用新型作进一步的描述,但本实用 新型所要求保护的范围并不局限于实施方式所描述之范围。图1为本实用新型的结构示意图;图2为图1的右视图;图3为 图l的俯视图;图4为半园辊筒的结构示意图;图5为本实用新型的 原理示意图。如图1 3所示流体超平膜机,包括锥形漏斗l,筛网巻筒2,施釉箱3,机架4, 及自动冲洗系统5。锥形漏斗位于施釉箱的前上方,由独立的立柱支 承;筛网巻筒及冲洗水管位于施釉箱内,由施釉箱的侧板支承;冲洗 水管由齿条齿轮带动可往复摆动。机架用于支承施釉箱。本实用新型装置的工艺流程如下釉被泵到锥形加釉斗,然后溢流到施釉箱的前部。再向前流过 由不锈钢板压成的曲线底板和半圆辊棒组成的的两个波谷和两个波 峰后,最后经半园辊筒的45度直线刀口均匀平稳地溢流到砖面上。辊 筒及其刀口严格按照制定的科学工艺流程加工,尺寸精确,形状稳定, 表面光亮如镜,,为均匀施釉提供有力的保证。与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果-本实用新型彻底解决了施釉不均匀的问题,淋釉的稳定性得到很 好的控制,无波纹、波状、滴漏、气泡等现象,由于是直线施釉,产 品的边缘部分和其它部分厚薄一致,解决了钟罩淋釉边缘部分较厚的 问题,操作简单方便,且有自动操作装置,在国内属首创,填补了我 国陶瓷行业的一项空白。
权利要求1.流体超平膜机,其特征在于包括锥形加釉斗,筛网卷筒,施釉箱,机架及自动冲洗装置;锥形加釉斗安装在施釉箱前上方位置,施釉箱安装在机架上,筛网卷筒及自动清洗装置安装在施釉箱内部。
2. 根据权利要求1所述的流体超平膜机,其特征在于在施釉 箱内前后位置设置有两个不锈钢筛网巻成的筛网巻筒。
3. 根据权利要求2所述的流体超平膜机,其特征在于所述的 筛网巻筒可为圆筒或圆柱筒。
4. 根据权利要求1所述的流体超平膜机,其特征在于在施釉 箱内还设有底板和半圆辊筒及辊棒;底板和半圆辊筒及辊棒组成两个 波谷和两个波峰。
5. 根据权利要求4所述的流体超平膜机,其特征在于施釉箱 内的底板可为曲面底板或平面底板。
6. 根据权利要求4所述的流体超平膜机,其特征在于所述的半圆辊筒及辊棒可为空心或实心。
7. 根据权利要求4所述的流体超平膜机,其特征在于在半园辊筒的一侧开有一的平直刀口 。
8. 根据权利要求7所述的流体超平膜机,其特征在于上述平直刀口的角度是45度。
专利摘要本实用新型公开了一种流体超平膜机。本实用新型由锥形加釉斗,施釉箱,筛网卷筒或筛网,机架及自动冲洗装置等组成。本实用新型彻底解决了用现行的钟罩淋釉方法存在的不均匀的问题,淋釉的均匀性和稳定性得到很好的控制,无波纹、滴漏、气泡等现象。由于是直线施釉,产品的边缘部分和其它部分厚薄一致,解决了钟罩淋釉边缘部分较厚的问题,操作简单方便,配置有自动控制装置,在国内属首创,填补了我国陶瓷行业的一项空白。
文档编号C04B41/86GK201092563SQ20072005658
公开日2008年7月30日 申请日期2007年9月5日 优先权日2007年9月5日
发明者灯 何 申请人:灯 何
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