本发明涉及一种喷粉装置，属于陶瓷生产领域，更具体地说，本发明涉及一种具有转动放置台的陶瓷生产用喷粉装置。
背景技术：
陶瓷生产喷粉是为了防止水分的影响，陶瓷坯体原料都是各种矿土粉碎后形成的泥团，其中的水分是很大，如果直接用泥团去烧，变形会很厉害，成行的需要，压机是压不了泥土的，因为会黏在压机上。而且水分大在压的时候坯体中的空气不能排出，形成了中间层，坯体的需要，泥团中水分大，物质之间的空隙都是水分，粉料不同，它是按照颗粒级配的要求喷粉的，通过压机一压，粉料中物质见的空隙就会很小，有利于后期的烧制，烧制的需要，地砖窑炉烧成时间比较快，要求坯体水分、硬度等都有要求，生产工艺的需要，比如印花、上釉等环节都要求坯体有一定的硬度。
传统的用于陶瓷生产的喷粉机结构较为简单，喷粉不够全面，喷粉效率低，因此，本发明提出了一种喷粉全面、喷粉效率高的喷粉装置。
技术实现要素：
基于以上技术问题，本发明提供了一种具有转动放置台的陶瓷生产用喷粉装置，从而解决了以往喷粉不够全面、喷粉效率低的技术问题。
为解决以上技术问题，本发明采用的技术方案如下：
一种具有转动放置台的陶瓷生产用喷粉装置，包括壳体，壳体上设有活动门，
所述壳体底部均匀的设有多个转动电机，转动电机的输出轴固定连接有转动杆，转动杆上端固定连接有放置台，放置台的中心在同一直线上，放置台所在直线前方设有喷粉组件；所述喷粉组件包括粉料筒，粉料筒通过固定杆固定设于壳体顶部，粉料筒底部的出粉口连接有第一供粉管，第一供粉管下端连接有第二供粉管，第二供粉管位于放置台所在直线前方，第二供粉管内设有多个可向放置台上方喷粉的粉料喷头。
在以上技术方案基础上：所述固定杆包括三根固定杆，三根固定杆之间的夹角为120°。
在以上技术方案基础上：所述第一供粉管上设有开关。
综上所述，由于采用了上述技术方案，本发明的有益效果是：
1、本发明中，喷粉前，打开活动门，将需要喷粉的陶瓷件放置在放置台上，关上活动门，打开开关、启动转动电机，转动电机缓慢的带动放置台上的陶瓷件转动，同时，粉体从粉料罐中进入第一供粉管中，再通过第一供粉管进入第二供粉管，从第二供粉管中的粉料喷头出喷出，喷向陶瓷件上，从而达到对陶瓷表面进行喷粉的作用；此结构中，粉料喷头进行喷粉的同时陶瓷件进行缓慢转动，从而使陶瓷件每个面都能进行喷粉，从而达到均匀喷粉的目的，实现喷粉的全面性；
2、本发明中，壳体中设有多个转动电机，转动电机通过转动杆带动多个放置台上的陶瓷件转动，同时，陶瓷件所在直线前方的第二供粉管中设于多个可向陶瓷件喷粉的粉料喷头，这样的结构可以同时对多个陶瓷件进行全面喷粉；这样的喷粉方式可大大缩短喷粉时间，提高喷粉效率。
附图说明
图1是本发明的结构示意图；
图中标记：1-壳体；2-粉料筒；3-固定杆；4-第一供粉管；5-第二供粉管；6-粉料喷头；7-转动电机；8-放置台；9-转动杆；10-开关。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步的说明。本发明的实施方式包括但不限于下列实施例。
具体实施例
如图1所示，一种具有转动放置台的陶瓷生产用喷粉装置，包括壳体1，壳体1上设有活动门，
所述壳体1底部均匀的设有多个转动电机7，转动电机7的输出轴固定连接有转动杆9，转动杆9上端固定连接有放置台8，放置台8的中心在同一直线上，放置台8所在直线前方设有喷粉组件；所述喷粉组件包括粉料筒2，粉料筒2通过固定杆3固定设于壳体1顶部，固定杆3包括三根固定杆3，三根固定杆3之间的夹角为120°，粉料筒2底部的出粉口连接有第一供粉管4，第一供粉管4上设有开关10，第一供粉管4下端连接有第二供粉管5，第二供粉管5位于放置台8所在直线前方，第二供粉管5内设有多个可向放置台8上方喷粉的粉料喷头6；
本实施例使用时，喷粉前，打开活动门，将需要喷粉的陶瓷件放置在放置台8上，关上活动门，打开开关10、启动转动电机7，转动电机7缓慢的带动放置台8上的陶瓷件转动，同时，粉体从粉料罐中进入第一供粉管4中，再通过第一供粉管4进入第二供粉管5，从第二供粉管5中的粉料喷头6出喷出，喷向陶瓷件上，从而达到对陶瓷表面进行喷粉的作用；此结构中，粉料喷头6进行喷粉的同时陶瓷件进行缓慢转动，从而使陶瓷件每个面都能进行喷粉，从而达到均匀喷粉的目的，实现喷粉的全面性；壳体1中设有多个转动电机7，转动电机7通过转动杆9带动多个放置台8上的陶瓷件转动，同时，陶瓷件所在直线前方的第二供粉管5中设于多个可向陶瓷件喷粉的粉料喷头6，这样的结构可以同时对多个陶瓷件进行全面喷粉；这样的喷粉方式可大大缩短喷粉时间，提高喷粉效率。
如上所述即为本发明的实施例。前文所述为本发明的各个优选实施例，各个优选实施例中的优选实施方式如果不是明显自相矛盾或以某一优选实施方式为前提，各个优选实施方式都可以任意叠加组合使用，所述实施例以及实施例中的具体参数仅是为了清楚表述发明人的发明验证过程，并非用以限制本发明的专利保护范围，本发明的专利保护范围仍然以其权利要求书为准，凡是运用本发明的说明书及附图内容所作的等同结构变化，同理均应包含在本发明的保护范围内。