专利名称：荧光搪瓷的制作方法
技术领域：
本发明是一种用于制作标牌、字盘及机械零部件的荧光搪瓷，属光致发光搪瓷的一种。
过去，制作标牌、字盘和日用搪瓷装饰品一般是依靠有机涂料和普通搪瓷制品，由于这些材料本身不发光，用于标志时，在夜间及暗处不够醒目。
为了解决这一问题，英国、德国、美国和法国等国家先后发明了发光搪瓷。这种搪瓷主要是将发光剂与搪瓷基釉混合在一起烧成，或者是用阿拉伯树胶将发光剂粘在搪瓷板上去锻烧，使发光剂吸附在搪瓷上。虽然这种搪瓷对解决发光问题有一定的作用，但其耐久、耐水、耐磨、耐光、耐热及抗污染性能不够理想。此外，国内外还曾试制成了场致发光搪瓷，但由于它需要采用电场作为激发源，因此应用受到一定的限制。
本发明的目的在于提供一种光致发光的荧光搪瓷，它具有良好的耐久、耐水、耐磨、耐光、耐热和抗污染性能。
本发明是这样实现的在金属基板上涂复有并经烧制而成的搪瓷釉，搪瓷釉含有发光剂，其中搪瓷釉由底釉、乳白釉和荧光釉共三层构成，底釉的组成(重量%)如下SiO 30～53 R2O(Li2O+Na2O+K2O) 10～22B2O310～21 F2O 3～11 Al2O32～7
BaO2～15CaO0～9MnO0～3TiO20～5 Sb2O3+CoO+NiO或至少其中一种＜3乳白釉的组成(重量%)如下SiO230～50 Al2O31～4 B2O311～21F22～10 R2O(Li2O+Na2O+K2O) 10～22V2b 0～6 TiO210～20P2O5+MgO或至少其中一种＜4.5CaO+MnO+CuO+Sb2O3+Na2SbO3或至少其中一种＜0.2荧光釉含有20%～50%(重量)的发光剂和50%～80%(重量)的低软化点透明釉，发光剂为荧光体ZnS·Cu或(Zn·Cd)S·Cu，低软化点透明釉的组成(重量%)如下SiO230～45 Al2O31～6 B2O37～25F22～10 R2O(LiO+Na2O+K2O) 10～22ZnO 5～20 ZrO20～5 BaO 0～15P2O50～5 MoO30～2 稀土 0～4在本发明中，配方中加入了ZrO2、Al2O3和SiO2，同时引入Na2O、K2O和LiO，利用三碱效应，使得瓷釉化学稳定性好。引入BaO可提高瓷面光泽，引入B2O3、MoO3、ZnO和P2O5可降低瓷釉烧成温度，使发光材料与瓷釉有更好的适应性能。引入稀土可改善发光，而采用上面所述的三层结构，可使荧光搪瓷具有较大的发光强度、良好的耐气候性以及瓷面完好无疵的特点。
本发明所提供的荧光搪瓷与八十年代日本同类产品相比，具有更好的理化性能和外观效应。据试验检测，该产品在冲击力4000克厘米后不掉瓷;在冲击力15000克厘米后搪瓷呈网状;离开光源30分钟后仍可见发光;产品无爆点、掉瓷和裂纹现象。
下面结合实施例对本发明予以详细描述。
在金属基板上，涂复一层底釉，烧成温度为820～860℃，底釉的成份(重量%)为SiO249.8 Al2O34.5 B2O312.6R2O(K2O+Na2O)19.5 CaF27.6BaO0.5 Na2SiF63.2 Sb2O32.3在上述基釉上，再涂复一层乳白釉，烧成温度为800～840℃，乳白釉的成份(重量%)如下SiO242.44 Al2O32.05 B2O314.71R2O(K2O+Na2O) 11.75 P2O52.04Na2SiF67.59 TiO217.87 MgO 1.55在上述乳白釉上，最后涂复一层荧光釉，烧成温度为650°～700℃。荧光釉的制备是先把低软化点透明釉熔化，按如下所示将所得结晶磨细，再与荧光物质混合后搅拌均匀。
低软化点透明釉块100荧光体20～40粘土5亚硝酸钠0.1
水42～45上述低软化点透明釉的成份(重量%)如下SiO235.30 Al2O32.19 B2O314.41K2O 2.02 Na2O 13.55 CaF26.53Li2O 1.00 ZnO 16.04 ZrO22.50P2O51.01 BaO 5.31 MoO30.2权利要求
1.一种荧光搪瓷，它包括金属基板、涂复在金属基板上并经烧制而成的搪瓷釉和含于搪瓷釉之中的发光剂构成，其特征在于(a)、搪瓷釉由底釉、乳白釉和荧光釉共三层构成；(b)、底釉的组成(重量%)如下SiO230～53 R2O(Li2O+Na2O+K2O)10～22B2O310～21 F23～11 Al2O32～7BaO 2～15 CaO 0～9 MnO 0～3TiO20～5 Sb2O3+CoC+NiO或至少其中一种＜3(c)、乳白釉的组成(重量%)如下SiO230～50 Al2O31～4 B2O311～21F22～10 R2O(Li2O+Na2O+K2O) 10～22V2b 0～6 TiO210～20P2O5+MgO或至少其中一种＜4.5CaO+MnO+CuO+Sb2O3+Na2SbO3或至少其中一种＜0.2(d)、荧光釉含有20%～50%(重量)的发光剂和50%～80%(重量)的低软化点透明釉，发光剂为荧光体ZnS·Cu或(Zn·Cd)S·Cu，低软化点透明釉的组成(重量%)如下SiO230～45 Al2O31～6 B2O37～25F22～10 R2O(LiO+Na2O+K2O) 10～22ZnO 5～20 ZrO20～5 BaO 0～15P2O50～5 MoO30～2 稀土 0～全文摘要
一种用于制作标牌、字盘及机械零部件的荧光搪瓷，属于光致发光搪瓷的一种，由于其中搪瓷釉采用特制的底釉、乳白釉和荧光釉三层涂复结构使得该荧光搪瓷具有较大的发光强度，良好的耐气候性、完好无疵的瓷面及化学稳定性好的特点。
文档编号C03C8/00GK1042137SQ88105798
公开日1990年5月16日 申请日期1988年10月28日 优先权日1988年10月28日
发明者肖荫云, 李明时, 王洪武 申请人:长沙搪瓷厂, 长沙市一轻工业研究所