一种新型艺术设计专业用多功能工作台的制作方法

本实用新型涉及工作台技术领域，尤其涉及一种新型艺术设计专业用多功能工作台。

背景技术：

在进行艺术设计绘制图纸的时候，绘制人员需要根据绘画的位置不停的变换图纸的位置，绘制人员需要来回的走动，倒置绘制过程操作繁琐，图纸的绘制往往需要很长的时间，在绘图人员走开的时候，一有不慎可能将图纸污染，为此，我们提出一种新型艺术设计专业用多功能工作台。

技术实现要素：

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在传统的工作台绘制图纸操作繁琐的缺点，而提出的一种新型艺术设计专业用多功能工作台。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

设计一种新型艺术设计专业用多功能工作台，包括桌板，所述桌板底部的拐角处分别设有支撑腿，所述桌板的上端开设有安装槽，所述安装槽呈圆柱形设置，所述安装槽底部的中间位置固定连接有轴承，所述轴承内固定连接有支撑柱，所述支撑柱的上端固定连接有操作台，所述操作台内嵌有呈圆形的磁石，所述操作台上端吸附有多个金属压块，所述操作台侧壁上均匀的设有多个滑块，与滑块位置对应的安装槽内壁上开设有与滑块匹配的滑轨，位于安装槽外侧的桌板上方分别设有对称的两个固定板和两个固定块，两个固定板之间连接有连接杆，所述连接杆的外侧套接有直线轴承，所述直线轴承的外侧绕设有遮尘布，且遮尘布的宽度大于操作台的直径，所述遮尘布的端部设有连接轴，所述连接轴的两端分别设有限位块，两个固定块靠近固定板的一侧分别开设有与限位块匹配的限位槽，两个限位块卡接在两个限位槽内。

优选的，所述遮尘布的长度等于固定板与固定块之间的距离。

优选的，位于两个固定块之间的桌板上开设有多个水平设置的凹槽。

优选的，所述遮尘布的两侧分别设有防水薄膜，且防水薄膜粘接在遮尘布上。

本实用新型提出的一种新型艺术设计专业用多功能工作台，有益效果在于：通过手动旋转操作台，实现对绘图位置的改变，便于绘图工作者工作，不需要变换图纸位置，操作简单，通过抽拉连接轴，将连接轴两侧的限位块卡在限位槽内，实现将遮尘布遮在图纸上的目的，有效的保护了图纸的安全，该新型艺术设计专业用多功能工作台，方便绘图工作者工作，同时还能够防止图纸被其他杂质污染，有效的保护了图纸。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种新型艺术设计专业用多功能工作台的结构主剖图；

图2为本实用新型提出的一种新型艺术设计专业用多功能工作台的结构俯视图。

图中：桌板1、支撑腿2、安装槽3、轴承4、支撑柱5、操作台6、磁石7、滑块8、滑轨9、固定板10、遮尘布11、限位块12、连接杆13、直线轴承14、连接轴15、固定块16、限位槽17、金属压块18。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

参照图1-2，一种新型艺术设计专业用多功能工作台，包括桌板1，桌板1底部的拐角处分别设有支撑腿2，桌板1的上端开设有安装槽3，安装槽3呈圆柱形设置，安装槽3底部的中间位置固定连接有轴承4，轴承4内固定连接有支撑柱5，支撑柱5的上端固定连接有操作台6，操作台6内嵌有呈圆形的磁石7，操作台6上端吸附有多个金属压块18，操作台6侧壁上均匀的设有多个滑块8，与滑块8位置对应的安装槽3内壁上开设有与滑块8匹配的滑轨9。

位于安装槽3外侧的桌板1上方分别设有对称的两个固定板10和两个固定块16，位于两个固定块16之间的桌板1上开设有多个水平设置的凹槽，用于放置作图用的工具，便于绘图人员取用，两个固定板10之间连接有连接杆13，连接杆13的外侧套接有直线轴承14，直线轴承14的外侧绕设有遮尘布11，且遮尘布11的宽度大于操作台6的直径，能够将操作台上的设计图纸全部遮住，防止杂物污染图纸，遮尘布11的长度等于固定板10与固定块16之间的距离，防止遮尘布11耷拉下来与图纸摩擦，遮尘布11的两侧分别设有防水薄膜，且防水薄膜粘接在遮尘布11上，便于对遮尘布11进行清洁，遮尘布11的端部设有连接轴15，连接轴15的两端分别设有限位块12，两个固定块16靠近固定板10的一侧分别开设有与限位块12匹配的限位槽17，两个限位块12卡接在两个限位槽17内。

绘图时，通过多个金属压块18将图纸固定起来，通过手动旋转操作台6，实现对绘图位置的改变，便于绘图工作者工作，不需要变换图纸位置，操作简单，当绘图工作没有完成绘图工作者需要离开时，通过抽拉连接轴15，将连接轴15两侧的限位块12卡在限位槽17内，实现将遮尘布11遮在图纸上的目的，有效的保护了图纸的安全，该新型艺术设计专业用多功能工作台，方便绘图工作者工作，同时还能够防止图纸被其他杂质污染，有效的保护了图纸。

以上，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。