烹饪器具的制作方法

本实用新型涉及烹饪器具，并且更具体地但不排他地涉及用于烹饪比萨饼的器具。

背景技术：

用于烹饪比萨饼的器具(例如烤箱)提供围绕正在其中烹饪比萨饼的空腔的热量循环。烤箱包括定位在空腔内的加热元件，用于围绕空腔辐射热量以烹饪比萨饼。通常，比萨饼的外圆周(称为比萨饼饼的外皮)受益于比大部分娇嫩配料被布置的比萨饼中心更强的热量。因此，向加热元件供应更多的功率以增加供应到外皮的辐射热量。不利的是，在将比萨饼外皮暴露在强热下时，比萨饼的娇嫩中心也是如此。而且，强的热量可能会损坏器具的易损电器部件。

本实用新型的目的是基本上克服或至少改善一个或多个上述缺点。

技术实现要素：

本实用新型提供一种烹饪器具，包括：

提供底板、顶板和位于底板和顶板之间的中间壁的主体，所述底板、顶板和壁至少部分地围绕烹饪空腔，所述主体具有开口，待烹饪的产品能够通过该开口相对于所述空腔移动；

上部加热元件，位于所述空腔的上部中以传递辐射能量来烹饪所述产品；以及

至少一个屏蔽件，相对于该元件定位以将所述产品的一部分屏蔽于所述辐射能量。

优选地，所述顶板具有中心轴线，所述中心轴线在所述底板和所述顶板之间垂直延伸以居中地定位所述产品。

优选地，所述元件居中地位于所述轴线上并围绕所述顶板周向延伸。

优选地，所述屏蔽件在所述空腔的上部居中地定位在所述轴线上，使得所述屏蔽件由所述元件围绕。

优选地，屏蔽件是环形的。

优选地，所述屏蔽件可拆卸地安装到所述顶板，使得所述屏蔽件能够从所述器具移除。

优选地，所述屏蔽件能够相对于所述底板围绕所述中心轴线成角度地旋转和移动，使得所述屏蔽件能够升高远离所述底板或朝向所述底板降低，以改变屏蔽于所述产品的所述一部分的辐射能量的量。

优选地，所述顶板包括相对于所述底板倾斜的开槽轮廓，并且其中所述屏蔽件包括从所述屏蔽件的周边延伸以与所述轮廓配合的径向销，使得随着所述屏蔽件围绕所述轴线旋转，所述销朝向所述轮廓的上端或朝向所述轮廓的下端滑动以分别升高或降低所述屏蔽件。

优选地，还包括内屏蔽件和外屏蔽件，所述内屏蔽件具有比所述外屏蔽件的直径小的直径，使得所述内屏蔽件能够嵌套在所述外屏蔽件内，所述内屏蔽件能够围绕所述轴线相对于所述外屏蔽件旋转。

优选地，所述内屏蔽件和所述外屏蔽件中的每一个具有允许辐射能量穿过的至少一个孔口，其中所述内屏蔽件和所述外屏蔽件两者的所述孔口是能对准的，使得所述内屏蔽件相对于所述外屏蔽件的旋转导致所述孔口的至少部分对准，以改变屏蔽于所述产品的所述一部分的辐射能量的量。

优选地，还包括电动机组件，用于驱动所述屏蔽件围绕所述中心轴线旋转。

优选地，所述屏蔽件能与所述顶板螺纹接合，使得所述屏蔽件能够以传统的螺钉使方式旋转以升高或降低所述屏蔽件。

还公开了一种烹饪器具，包括：

主体，提供底板、顶板和位于底板和顶板之间的中间壁，底板、顶板和壁至少部分地围绕烹饪空腔，该主体具有开口，待烹饪的产品能够通过该开口相对于空腔移动；

门，用于选择性地关闭空腔的开口；所述门在所述门的下部周围铰接，使得随着所述门打开，所述门的上部以弧形行进；

从底板悬挂(depending from floor)用于容纳待烹饪的产品的层面；

其中，所述层面由机构支撑，以在所述门打开时将所述层面从所述空腔下降并且将所述层面抽出，并且在所述门关闭时将所述层面升起并且将所述层面插入所述空腔。

优选地，该机构包括后支撑臂和前支撑支架，其中支撑臂相对于空腔的底板枢转地联接并且枢转地支撑层面的后部，并且其中支撑支架铰接地联接到门，使得打开和关闭门分别抽出和插入层面。

优选地，支撑臂的长度和支撑支架铰接的联接件的高度尺寸被设定成在升高和降低时使层面保持大致水平。

优选地，当门关闭时，支撑臂旋转越过水平面，其中在门完全关闭之前达到平衡，使得产品的进一步插入导致层面的重量超过支撑的平衡并进一步协助关闭门。

优选地，烹饪器具还包括位于空腔的上部中的上部加热元件，用于传递辐射能量来烹饪产品。

优选地，烹饪器具还包括嵌入在层面中的下部加热元件。

优选地，烹饪器具还包括与上部加热元件和下部加热元件可操作地相关联的控制器，以对其提供有选择性的电功率输送，从而在产品上提供加热分布。

优选地，烹饪器具还包括位于空腔内的温度传感器，以向控制器提供指示空腔内温度的信号。

还公开了一种烹饪器具，其包括：

主体，提供底板、顶板和位于底板和顶板之间的中间壁，底板、顶板和壁至少部分地围绕烹饪空腔，该主体具有开口，待烹饪的产品能够通过该开口相对于空腔移动；

位于空腔上部中的至少一个上部加热元件，用于传递辐射能量来烹饪产品；

位于空腔下部中的下部加热元件，用于传递辐射能量来烹饪所述产品；

可操作地与每个上部加热元件和下部加热元件相关联的控制器，用于向其提供选择性的电功率输送，从而在产品上提供加热分布。

优选地，烹饪器具还包括一对内上部加热元件和外上部加热元件，内和外上部加热元件中的每一个能够由控制器独立控制。

优选地，控制器被配置为以第一模式和第二模式操作，以改变上加热元件和下加热元件中的每个的功率和温度，从而改变产品上的加热分布。

优选地，烹饪器具还包括用户可操作的控制中心，其具有与控制器可操作地关联的多个拨盘，用于手动地在控制器的第一模式和第二模式中改变上部加热元件和下部加热元件中的每一个的功率和温度。

优选地，在第一模式中，第一拨盘配置为控制下部加热元件的温度。

优选地，在第一模式中，第二拨盘配置为控制内和外上部加热元件的温度。

优选地，在第一模式中，第三拨盘配置为控制通向内和外上部加热元件的功率以提供微调来烹饪产品的外部边缘，或者在整个产品上均匀烹饪或对产品的中心部分或外边缘的烹饪进行总体控制。

优选地，控制器包括与内和外上部加热元件以及下部加热元件可操作地相关联的定时器，以在一段持续时间之后停止向内和外上部加热元件以及下部加热元件的电功率输送，其中，在第二模式中，第一拨盘被配置为控制定时器的持续时间。

优选地，控制器包括一系列预设设置，其具有不同的定时器持续时间和内和外上部加热元件以及下部加热元件的温度，其中第二拨盘被配置为从所述系列中选择预设定值。

优选地，在第二模式中，第三拨盘配置为微调下部加热元件的温度。

优选地，烹饪器具还包括位于空腔内的温度传感器，以向控制器提供指示空腔内温度的信号，以调节向内和外上部加热元件以及下部加热元件中的每一个的电功率输送。

还公开了一种烹饪器具，包括：

主体，提供底板、顶板和位于底板和顶板之间的中间壁，底板、顶板和壁至少部分地围绕烹饪空腔，该主体具有开口，待烹饪的产品能够通过该开口相对于空腔移动；

位于所述空腔的下部中的下部加热元件，以传递辐射能量来烹饪所述产品；以及

联接到主体的冷却系统，所述冷却系统包括与所述空腔连通的第一气流通道，所述第一气流通道被配置为将气流引导至所述下部加热元件的冷销以选择性地冷却所述冷销。

优选地，冷却系统包括邻近冷销的通气口，用于排出由第一气流通道引导的空气。

优选地，冷却系统包括安装到主体并远离通气口定位的风扇，其中风扇驱使气流通过第一气流通道到达通气口。

优选地，烹饪器具还包括与下部加热元件可操作地相关联的控制器，以对其提供选择性的功率输送，由此在产品上提供加热分布。

优选地，烹饪器具还包括位于空腔内的温度传感器，用于向控制器提供指示空腔内的温度的信号以调节向下部加热元件的电功率输送。

优选地，烹饪器具还包括从底板悬挂以接收待烹饪产品的层面。

优选地，温度传感器安装到层面上。

优选地，当温度传感器检测到温度高于由控制器监测的特定温度阈值时，风扇被致动。

优选地，壁具有容纳器具的电子器件的隔室，其中冷却系统还包括与壁的隔室连通以冷却电子器件的第二气流通道。

优选地，烹饪器具还包括用于选择性地关闭空腔的开口的门；所述门在所述门的下部周围铰接，其中通路围绕所述门的下部定位以容纳所述器具的电子器件，其中所述冷却系统还包括第三气流通道，所述第三气流通道与所述通道连通以当门关闭开口时冷却所述电子器件。

优选地，产品是比萨饼。

还公开了一种比萨饼烤箱设备，该设备包括：

限定烹饪空腔的炉体；所述烹饪空腔具有带有限定前开口的中间壁的底板和顶板；

选择性地关闭空腔的开口的门；

空腔内的用于接收用于烹饪的比萨饼的比萨饼层面；

位于烹饪空腔的顶板周围的至少一个加热元件；其中在比萨饼层面上提供可变的加热或烹饪分布。

该至少一个加热元件优选地限定基本周向的热源。

可变加热或烹饪分布可以由屏蔽件提供。优选地，屏蔽件是周向的并位于由一个或多个加热元件限定的区域内。

可变加热或烹饪分布可以由多个加热元件提供，每个加热元件具有不同的热功率输出。

可变加热或烹饪分布可以由多个加热元件提供，每个加热元件具有不同的热功率输出。

可变加热或烹饪分布可以由沿其长度具有不同热功率输出的加热元件来提供。

附图说明

现在将参照附图以举例的方式描述本实用新型的优选形式，其中：

图1是实施例比萨饼烤箱的截面侧视图，示出了门处于关闭配置；

图2是图1的比萨饼烤箱的截面侧视图，示出了门处于部分打开配置；

图3是图1的比萨饼烤箱的截面侧视图，示出了门处于打开配置；

图4是图1的比萨饼烤箱的截面侧视图，示出了被连接到处理器模块和温度传感器；

图5是图1的比萨饼烤箱的截面侧视图，示出了门处于延伸打开配置；

图6A是实施例比萨饼烤箱的截面侧视图，示出了门处于关闭配置；

图6B是图6A的比萨饼烤箱的截面侧视图，示出了门处于部分打开配置；

图6C是图6A的比萨饼烤箱的截面侧视图，示出了比萨饼层面(deck)支撑机构的枢轴位置；

图6D是图6A的比萨饼烤炉的放大部分截面侧视图，示出了比萨饼层面支撑机构；

图7A是比萨饼层面托架(carriage)元件的透视图；

图7B是实施比萨饼烤箱的透视图，示出了图7A的比萨饼层面托架元件；

图7C是图7B的比萨饼烤箱的截面侧视图，示出了图7A的托架元件的烹饪基座和后部屏蔽件；

图7D是图7C的比萨饼烤箱的截面侧视图，示出了拆除后部屏蔽件的效果；

图7E是图7C的烹饪基座的下侧的示意性透视图；

图7F是图7C的烹饪基座和托架元件的示意性部件分解等距视图；

图7G是图7C的烹饪基座和托架元件的截面侧视图；

图7H是图7G的烹饪基座和托架元件之间的锁定细节的细节图；

图7I是图7C的烹饪基座和托架元件的截面侧视图，示出了嵌入烹饪基座内的加热元件；

图7J是图7C的烹饪基座和托架元件的截面侧视图，示出了嵌入烹饪基座内的温度传感器；

图8A是实施例比萨饼烤箱的截面侧视图，示出了门处于打开配置；

图8B是图8A的比萨饼烤箱的截面侧视图，示出了门处于延伸打开配置；

图9A是实施例比萨饼烤箱的截面侧视图，示出了门处于打开配置；

图9B是图9A的比萨饼烤箱的截面侧视图，示出了门处于延伸打开配置；

图10A是实施例比萨饼烤箱的截面侧视图，示出了门处于关闭配置；

图10B是图10A的比萨饼烤箱的截面侧视图，示出了门处于部分打开配置；

图10C是图10A的比萨饼烤箱的截面侧视图，示出了门处于打开配置；

图11A是实施例比萨饼烤箱的截面侧视图，示出了门处于关闭配置；

图11B是图11A的比萨饼烤箱的截面侧视图，示出了门处于打开配置；

图12是实施例比萨饼烤箱的截面平面图，示出了烹饪空腔的配置；

图13是实施例比萨饼烤箱的截面侧视图，示出了设置在比萨饼层面上的加热分布(profile)；

图14A是图13的实施例比萨饼烤箱的用于烹饪空腔的顶板元件的透视图；

图14B是图14A的顶板元件的截面侧视图；

图14C是图14A的顶板元件的组装视图的直排(inline)；

图15是实施例比萨饼烤箱的截面侧视图，示出了设置在比萨饼层面上的加热分布；

图16A是用于实施例比萨饼烤箱的烹饪空腔的替代实施例顶板元件的透视图；

图16B是图16A的顶板元件的截面侧视图；

图16C是图16A的顶板元件的截面侧视图；

图17是实施例比萨饼烤箱的截面平面图，示出了设置在比萨饼层面上的加热分布；

图18是实施例比萨饼烤箱的截面平面图，示出了设置在比萨饼层面上的加热分布；

图19A是实施例比萨饼烤箱的截面平面图，示出了设置在比萨饼层面上的加热分布；

图19B是图19A的顶板元件的截面侧视图；

图20是根据本实用新型实施例的烹饪器具的示意性剖面侧视图；

图21是图20的器具的烹饪空腔的示意性剖面正视图；

图22是图21的烹饪空腔的示意性剖面正视图，其中将器具的屏蔽件拆除；

图23是图20的器具的顶板和屏蔽件的示意性部件分解等距视图；

图24是根据另一实施例的顶板和屏蔽件的示意性部件分解仰视等距视图；

图25是图24的顶板和屏蔽件的示意性剖面侧视图；

图26是图24的顶板和屏蔽件的示意性部件分解剖面侧视图；

图27是图21的烹饪空腔的示意性剖面正视图，描绘了屏蔽件的第一位置；

图28是图27的烹饪空腔的示意性剖面正视图，描绘了屏蔽件的第二位置；

图29是根据另一个实施例的图21的烹饪空腔的示意性剖面正视图，描绘了屏蔽件的第一位置；

图30是图29的烹饪空腔的示意性剖面正视图，描绘了屏蔽件的第二位置；

图31是图29的烹饪空腔的示意性剖面正视图，描绘了屏蔽件的第三位置；

图32是根据一个实施例的图20的器具的简化示意性部分剖视等距视图；

图33是根据另一个实施例的图20的器具的简化示意性部分剖视等距视图；

图34是根据又一个实施例的图20的器具的简化示意性部分剖视等距视图；

图35是根据又一个实施例的图20的器具的简化示意性部分剖视等距视图；

图36是图35的顶板和屏蔽件的示意性仰视等距视图；

图37是在另一种配置中图36的顶板和屏蔽件的示意性仰视等距视图；

图38是与来自器具的加热元件的辐射能量相互作用的图36的顶板和屏蔽件的示意性部分剖视等距视图；

图39是在另一种配置中图38的顶板和屏蔽件的示意性部分剖视等距视图；

图40是根据又一个实施例的图20的器具的简化示意性部分剖视等距视图；

图41是根据另一个实施例的图21的烹饪空腔的示意性剖面正视图；

图41A是根据另一实施例的烹调器具的示意性透视图；

图42是图示图20的器具的算法的流程图；

图43是图41的烹饪空腔的示意性剖面正视图，示出了在烹饪空腔上的器具拨盘的效果；

图44是图41的烹饪空腔的示意性剖面正视图，示出了另一配置中的拨盘的效果；

图45是图41的烹饪空腔的示意性剖面正视图，示出了再另一种配置中的拨盘的效果；

图46是图41的烹饪空腔的示意性剖面正视图，示出了再另一种配置中的拨盘的效果；

图47是图41的烹饪空腔的示意性剖面正视图，示出了再另一种配置中的拨盘的效果；

图48是图41的烹饪空腔的示意性剖面正视图，示出了再另一种配置中的拨盘的效果；

图49是根据另一实施例的器具的部分剖视后部等距视图；

图50和图51是图49的器具的气流通道的简化示意图；

图52是图20的一部分的细节图，示出了器具的通气口；

图53是图49的器具的示意性部分剖视正视等距视图；

图54是图49的器具的简化示意性部分剖视后部等距视图；

图55是图54的一部分的细节图；

图56是在另一种配置中图49的器具的示意性部分剖视后部等距视图；以及

图57是图56的一部分的细节图。

具体实施方式

为了达到以真正的那不勒斯比萨饼协会(The True Neapolitan Pizza Association(Associatio Verace Pizza napoletana，AVPN))所述的结果来烹饪比萨饼，比萨饼需要快速烹饪并暴露于高强度的热量下。由于电压和电流汲取限制，在家用电器中实现所需的热强度是困难的。在不增加瓦数/电流汲取的情况下有效提高热强度的一种方法是增加热源和食物的接近度(例如，将食物放置成更靠近加热元件)。这样做也减少了总的烹饪室体积，从而允许更快速的加热和恢复循环。缺点是这通常会使产品难以使用和难以清洁，因为装载食品的孔径较窄。

缓解该问题的一种方式是通过结合连接到烤箱门的层面(deck)，当比萨饼被装载到层面上时层面降低，并且当为了烹饪操作关闭烤箱门时层面升高。

增加加热器与层面的接近度还减小了总空腔体积，其允许空腔温度以相同的功率量与用较大的烹饪空腔可能的情况相比更快地升高。

图1至图5示出了一个实施例比萨饼烤箱设备100。该设备包括：

限定烹饪空腔112的烤箱主体110；该空腔具有带有中间壁118的底板114和顶板116，中间壁118具有前开口；

门120选择性地关闭空腔的开口；该门在门的下部附近铰接(在122处)，使得当门打开时，门的上部以弧形行进；

用于接收用于烹饪的比萨饼131的空腔内的比萨饼层面130；

其中比萨饼层面由机构140支撑；其中当门打开时该机构降低和抽出比萨饼层面，并且在门被关闭时升高和插入比萨饼层面。

该机构包括一个或多个后支撑臂150和一个或多个前支撑支架160；支撑臂相对于空腔的底板枢转地联接(在151处)并枢转地支撑(在152处)比萨饼层面的后部；支撑支架铰接地联接到(在161处)门，使得打开和关闭门分别抽出和插入比萨饼层面。

支撑臂的长度和支撑支架铰接的联接件的高度尺寸设定为在比萨饼层面升高和降低时保持其大致水平。

随着门关闭，支撑臂旋转越过水平面，其中在门完全关闭之前达到平衡，并且比萨饼层面的进一步插入导致比萨饼层面的重量超过支撑臂和支持机构的平衡以进一步协助关闭门。

电加热元件170位于空腔的顶部附近。空腔加热元件的操作由接收来自温度传感器元件182(如图4所示)的温度信号的处理器180模块控制。

比萨饼层面由第二电加热元件172加热。第二加热元件的操作由接收来自温度传感器元件的温度信号的处理器模块控制。

参考图1至图3，层面支撑机构(或组件)具有将其连接至前门的铰链和与下底架连接的枢转后支撑件。当门打开时，层面与门一起移动，移出烹饪空腔并随着门在其下铰链上旋转而下降。后支撑臂随着层面的移动而旋转并基本保持层面水平。降低层面意味着比萨饼可以轻松装卸，层面可以轻松清洁。提升层面意味着比萨饼可以在距离一个上部加热器元件或多个上部加热器元件的最佳距离处被烹饪。

烤箱门具有至少一个底部枢转铰链并且附接到比萨饼烤箱的前底部铰链。层面支撑机构和门适于使层面在打开和关闭门期间能够保持基本上水平的配置。

可以包括关闭机构，其用于帮助关闭门(未示出)。关闭机构可以包括臂，该臂在一端处枢转地附接到门并且延伸到烤箱的侧壁中，并且臂的另一端由位于烤箱侧壁内的弹簧朝向关闭门配置偏置。

图5示出了比萨饼层面可以包括层面托架132，层面托架132容纳加热元件172并且支撑烹饪基座133。在该实施例中，烹饪基座是陶瓷烹饪基座。应该理解，烹饪基座可以由一种或多种合适的材料制成。加热元件具有连接器173，所述连接器173穿过层面托架的后部突出以在处理器模块的控制下连接到电源。温度传感器182可以位于陶瓷烹饪基座的下侧附近。

图5示出门可以越过水平面超延伸(hyper-extend)，其中邻接表面135穿过托架132中的孔口并且接合陶瓷烹饪基座133的下侧，这导致陶瓷烹饪基座133相对于托架升高以提供改进的取出通道。

图6A至图6D示出了实施例比萨饼烤箱200的截面侧视图，其中门处于各种配置。

在该实施例中，比萨饼层面支撑机构240包括一个或多个后支撑臂250和前支撑支架260；支撑臂相对于底板或空腔枢转地联接(在251处)并枢转地支撑(在252处)比萨饼层面230的后部；支撑支架铰接地联接(在261处)到门，使得打开和关闭门分别抽出和插入比萨饼层面。门220相对于空腔铰接(在221处)。

可以理解，为了在门打开或关闭时将层面保持在基本上水平的配置中，每个枢轴点必须形成平行四边形的角(例如参见图6C中的201)。

图6B和图6D示出了实施例比萨饼烤箱200，其中门处于部分或大部分关闭配置。在该配置中，后支撑臂是竖直的(例如参见图6D中的202)，并且进一步关闭门将使得臂朝向烹饪空腔的后部倾斜，由此产生围绕枢轴点(在251处)的动量，这将进一步帮助关闭门。

可以理解的是，通过将门铰链(在221处)和前支架铰链(在261处)定位成使得它们在门处于关闭位置时偏移(203)，平行四边形布置201可以被维持同时允许后枢转臂250移动越过竖直位置。虽然当门移动到完全关闭的位置时，这会导致层面轻微下降，但通过层面施加在臂上的动量有助于关闭门。

在该实施例中，烤箱门具有厚度，其使得枢转铰链能够位于烤箱门的底部并且在门的前壁周围。仅作为示例，使用L形铰链222。前铰链260连接在比萨饼层面和门之间，使得枢轴(在261处)在门铰链枢轴的枢轴(在221处)的后面。

可以理解的是，该特征在门初始打开时引起层面升高，这导致比萨饼被带到更靠近上部热元件。在烹饪比萨饼中的这个过程使得用户能够给比萨饼配料提供最终更强烈的热暴露。

图7A-7J示出了具有比萨饼层面的实施例比萨饼烤箱300，比萨饼层面包括支撑下部电加热元件372和烹饪基座333的托架元件332(在图7D中示出)。

托架元件332限定孔口334，当门越过水平面超延伸时，其允许邻接表面335穿过孔口并接合烹饪基座333的下侧。这使得烹饪基座333相对于托架升高，并提供改进的取出通道。

在该实施例中，托架元件332具有多个支撑表面336以支撑烹饪基座333。提供了后部屏蔽件338，后部屏蔽件338可以符合D形空腔的后部。如图7C和图7D所示，随着门被打开，后部屏蔽件338减小了位于烹饪基座333上的比萨饼滑落到比萨饼烤箱300的底板上的可能性。

如图7E所示，烹饪基座333可以设置有互补轮廓337，用于与下部电加热元件372配合，使得加热元件372可以基本上嵌入烹饪基座333中。由于包围加热元件372的烹饪基座333的表面增加(如图7I所示)，这又增加了热传递(与该元件未被嵌入的布置相比)。如图7E-7H所示，烹饪基座333和托架元件332可具有以凹陷部分339,340和升高平台341,342的形式的互补定位细节，以在使用时将烹饪基座333可移除地固定到托架元件332。

如图7J所示，温度传感器383可以嵌入烹饪基座333中以向处理器模块提供反馈，以便使得施加到加热元件372的功率被控制并且在达到期望的温度时最终降低/增加。

仅举例来说，图8A和图8B示出了如上所述的具有由空腔的底板支撑的抵接装置435的实施例比萨饼烤箱400。

可以理解的是，托架元件432限定了孔口434，当门越过水平面超延伸时，其使得邻接表面435能够穿过孔口并与烹饪基座433的下侧接合(如图8B所示)。这导致烹饪基座433相对于托架432上升，并提供改进的取出通道。

仅举例来说，图9A和图9B示出具有由门支撑的抵接装置535的替代实施例比萨饼烤箱500。

可以理解的是，托架元件532限定孔口534，当门越过水平面超延伸时，其使得邻接表面535能够穿过孔口并与烹饪基座533的下侧接合(如图9B所示)。这导致烹饪基座533相对于托架532上升，并提供改进的取出通道。

图10A至图10C示出了使用替代的层面支撑机构的实施例600，其中比萨饼层面托架630不使用一个或多个后支撑臂(例如150)被支撑在位于烹饪空腔侧壁周围的弓形引导件650中。作为示例，弓形引导件650可以是与层面协作的引导件或槽。

可以理解，为了在门打开或关闭时将层面保持在基本上水平的配置中，每个枢轴点必须形成平行四边形的角(例如参见图6C中的201)。参考图6C描述平行四边形的角(251,252,221,261)。

在该实施例中，在门关闭的情况下，在门铰链的位置(在221处)与层面支撑支架铰接地联接(在261处)到门处的位置之间存在水平位移(203)。这导致层面支撑支架铰接的联接件(在261处)的位置初始升高，然后在门打开时落入弓形路径651中。相应地，弓形引导件650的形状符合由支撑支架铰接的联接件行进的弓形路径651。

图11A和图11B示出了使用替代的层面支撑机构的实施例700，其中比萨饼层面托架730由联接到门120的可移动剪式升降机装置750支撑。举例来说，剪式升降机装置750的形式为两个臂751，这两个臂沿着它们的长度枢转地联接在一起(在752处)，其上端753通过引导件或导轨754可滑动地安装到比萨饼层面上，并且下端755通过引导件或导轨756相对于空腔可滑动地安装。该布置使比萨饼层面托架730在升高(如图11A所示)或降低(如图11B所示)时保持水平。

在该实施例中，层面被铰接地附接(在261处)到门120上。在门关闭的情况下，支撑支架160将臂保持在如图11A所示的升高配置中。当门打开时，支撑支架160下降，从而允许比萨饼层面托架730分别降低。导轨和引导件(754,756)使得门能够将比萨饼层面托架拉出到如图11B所示的打开配置。

作为层面支撑机构(例如140)的替代选择，比萨饼层面托架可由伸缩式支撑元件支撑，伸缩式支撑元件由微控制器(未示出)控制。这些伸缩式支撑元件可以进一步附接有在处理器模块的控制下使它们倾斜的机构。在打开比萨饼门时，启动开关，并且伸缩式支撑件以受控制的方式延伸并朝向门倾斜，使得层面朝向并穿过比萨饼烤箱的开口。

图12示出了可用于任何实施例比萨饼烤箱中并且限定D形配置的烹饪空腔800的截面俯视图。由于烤箱空腔的后部810是圆形的，所以底板表面被限制并且提供180度的壁结构812，其可以将辐射热反射到比萨饼上，这增强了外皮褐变。还可以理解的是，比萨饼层面可以基本上符合烤箱空腔的配置，例如是D形的。

在示例性实施例中，D形空腔的后部具有与比萨饼层面(并且围绕层面侧面的一半)相符的反射壁。

在不对称的烹饪室中均匀地烹饪比萨饼外皮或“披萨边”得以改善，同时保护比萨饼中心的娇嫩配料。

比萨饼外皮(或比萨饼的外围)应该暴露于强的热源，以在烹饪过程中引起起泡和剧烈变暗。然而，这样做会导致比萨饼的内部部分过度烹饪。例如，如果不保护，则诸如奶酪或罗勒等的娇嫩配料可能会很快过熟并变得变质。

已经确定，可以通过以下三种手段中的任何一种或多种缓解该问题：

a)使用位于烹饪空腔(或室)顶部的屏蔽件(例如圆柱形、截头圆锥形、圆顶形或圆形)，使得上部加热元件基本上围绕屏蔽件。屏蔽件定位成将辐射热偏离比萨饼中心，并且优选地朝比萨饼的外周偏转；

b)配置上部加热元件(或多个元件)以在整个比萨饼层面上提供不同的加热功率，其中向烹饪室的前部(较冷区域)提供更多的热量，并且向烹饪室的后部提供更少的热量。

c)提供D形烹饪室，其中圆形比萨饼定位在烤箱的后部周围并且基本上被反射侧壁包裹180°以增加辐射热量。

图13示出了比萨饼烤箱1000的横截面侧视图，比萨饼烤箱1000提供了在比萨饼层面1030上的加热分布。比萨饼层面可以是可移动的(即，可滑动和/或可升起)或固定的。比萨饼层面可以由如本文所公开的支撑机构支撑。

该实施例比萨饼烤箱设备1000包括：

限定烹饪空腔1012的烤箱主体1010；烹饪空腔具有带有中间壁1018的底板1014和顶板1016，中间壁1018具有前开口；

选择性地关闭空腔的开口的门1020；

在空腔内的比萨饼层面1030，用于接收用于烹饪的比萨饼；

位于烹饪空腔顶部周围的至少一个加热元件1070。

烹饪空腔可由热反射材料(例如不锈钢)形成，包括底板1014、顶板1016和中间壁1018中的任何一个或多个。

至少一个加热元件1070优选地限定基本上周向的热源，其中在比萨饼层面上提供可变的加热或烹饪分布。

周向屏蔽元件1080位于由一个或多个周向加热元件限定的区域内。屏蔽件可以与屏蔽元件成一体或联接到屏蔽元件。屏蔽件限定了包围加热元件的环形通道状区域1085。

屏蔽件减少来自加热元件的、到达比萨饼层面(和比萨饼)的中心部分的辐射热，由此提供比萨饼上的加热或烹饪分布，该分布具有对外皮施加的较大的辐射热并且对中心施加的较少的辐射热。

在该实施例中，反射器屏蔽件将来自加热元件的热能引导到比萨饼上，使得更强的热量集中在外皮上，而较弱的热量被施加到比萨饼的其余部分上。

可以理解的是，反射器屏蔽件可以是围绕加热元件的内周布置的简单的金属条，使得一些热能可以从比萨饼的中间被阻挡。屏蔽件高度可以确定辐射到比萨饼中心的热量。屏蔽件可以是安装在顶板上的独立部件，例如片材金属环或可以形成为顶板的一部分。该屏蔽件可以有效用于对称或不对称的烤箱空腔中。

图14A至图14C示出用于比萨饼烤箱的烹饪空腔的实施例顶板元件1082。顶板元件1082具有弯曲的外周边(在1083处)以限定用于接收至少一个加热元件1070和周向遮蔽元件1080的圆顶区域。

在该实施例中，屏蔽元件1080(例如，在1081处经由紧固件或装置)联接到顶板元件1082，用于限定圆柱形(或截头圆锥形)屏蔽件，这样限定了包围加热元件的环形通道状区域1085。加热元件可以由顶板元件支撑，并穿过顶板元件以实现电力连接。

图15示出了实施例比萨饼烤箱1100的截面侧视图，除了顶板和屏蔽件之外，所述比萨饼烤箱1100基本上与烤箱1000一致，并且提供了在比萨饼层面1030上的替代的加热分布。

在该实施例中，屏蔽件1180是弯曲的或凸起的，以限定倒置的圆顶状形式，并且顶板1181限定支撑屏蔽件以限定包围加热元件的环形通道状区域1185的外圆顶。

在该实施例中，反射器屏蔽件将来自加热元件的热能引导到比萨饼上，使得更强的热量集中在外皮上，而较弱的热量被施加到比萨饼的其余部分上。

在图16A至图16C中，展示了用于实施例比萨饼烤箱的烹饪空腔的实施例顶板元件1182。在该实施例中，顶板1182与屏蔽件部分1180一体形成。

顶板元件1182具有弯曲的外周边(在1183处)以限定圆顶区域以及用于在其间接收至少一个加热元件1070的一体形成的内凸面屏蔽部分1180。如图所示，顶板的中心(在1186处)可以凹入以固定到烤箱主体上。替代地，屏蔽部分1180可以限定倒置的圆顶。

屏蔽部分减少来自加热元件的、到达比萨饼层面(和比萨饼)的中心部分的辐射热，由此提供比萨饼上的加热或烹饪分布，所述分布具有对外皮施加的更大的辐射热并且对中心施加的较少的辐射热。

应该理解，顶板和屏蔽件(或其围绕环形通道状区域1085,1185的部分)可以由热反射材料形成，或者具有合适的饰面。

关于环形通道状区域1085,1185的反射器性质可以集中热能，并且倒置的圆顶屏蔽件可以由玻璃纤维构成并且充当该室的顶板，从而减少对顶板中的一些金属的需要。

在图16C中，将会理解，反射器部分可以包括以下特征中的一个或多个：

a)当由截面轮廓限定时，反射器部分基本上是环形的，其中：反射器的周边1190是凹形的和弓形的；在顶部处过渡到基本上水平的部分1191；内屏蔽件壁1193向下过渡以限定环形通道状区域1195；环形通道状区域1195的高度1196足以将加热元件定位在其内，这使得来自元件的一些热量能够从比萨饼的中心被阻挡；

b)外周边1190具有围绕加热元件的曲率，该曲率使得来自加热元件的集中的热能被传送到比萨饼的外皮(由此引起起泡)；

c)设置在烹饪室顶板附近的圆形加热元件(例如，如图13和图15所示)，并通过多个金属夹从顶板悬垂；

d)温度传感器1197位于顶板中间以感测空腔温度；

e)圆形反射器的中间部分1198被升高以防止温度传感器在比萨饼插入时意外触到，并且水平台阶199向温度传感器的开口凹进，使得热量被均匀地反射；

f)反射器可以制成与壳体分开的件；

g)反射器可以由不锈钢(或其他合适的材料)制成；

h)位于反射器侧面的两个开口用于为加热元件供电；以及

i)加热元件的直径可根据预期的比萨饼尺寸(例如12英寸比萨饼)调整大小，使得其位于外皮的预期位置上方。

图17、图18、图19A和图19B公开了用于在比萨饼上提供加热或烹饪分布的替代结构。

由于不存在将辐射能量反射到比萨饼的侧壁以及通过门的热量损失(特别是在打开时)，D形烹饪空腔的前半部分效率较低。

在前半部的烹饪空腔效率较低可能导致比萨饼不均匀地烹饪。

图17示出了实施例的比萨饼烤箱1200的截面平面图，其在比萨饼层面1230上提供加热分布。由沿着其长度提供具有不同的热功率输出的加热元件1270提供可变加热或烹饪分布。

在该实施例中，加热元件1270的形状可以是圆形的，其中前半部1272适于以比后半部1274更大的强度进行加热。例如，加热元件的前半部可以提供比加热器组件后半部分高大约50的瓦数的加热功率。可以理解的是，加热元件的功率输出可以基于沿其长度的相应缠绕密度进行调适。

图18示出了实施例比萨饼烤箱1300的截面图，其中在比萨饼层面上提供加热分布(未示出)。可变加热或烹饪分布可以由具有不同热功率输出的两个半圆形加热元件1372,1374提供并且可以彼此独立地控制。

可变加热或烹饪分布可以由多个加热元件提供，每个加热元件具有不同的热功率输出。不同的功率输出可以通过加热器元件的规格或通过处理器模块控制的独立功率控制来实现。

在该实施例中，前半圆形加热元件1372适于以比后半圆形加热元件1374更大的强度加热。例如，加热元件的前加热元件可以提供比后部加热元件高大约50％瓦数的加热功率。

在该实施例中，每个加热元件从烤箱的相对侧被供电。

图19A和图19B示出了实施例比萨饼烤箱1400的截面平面图，其中在比萨饼层面上提供了加热分布(未示出)。可变加热或烹饪分布可以由具有不同热功率输出的两个半圆形加热元件1472,1474提供。

在该实施例中，前半圆形加热元件1472适于以比后半圆形加热元件1474更大的强度加热。例如，加热元件的前加热元件可以提供比后部加热元件高大约50％瓦数的加热功率。

在该实施例中，每个加热元件从烤箱的相同侧被供电。为了整洁地实现这种配置，每个加热元件(1472,1474)的返回引线(return lead)可以从一端穿过烹饪室的直径(分别为1473,1475)并且稍微倾斜以避开另一端。

在图20中，描绘了被配置为烹饪比萨饼2012(图21中所示)的烹饪器具2010。器具2010包括大致立方体的主体2014，其提供底板2016、顶板2018和在底板2016和顶板2018之间延伸的中间壁2020。底板2016、顶板2018和壁2020至少部分地围绕烹饪空腔2022。

主体2014具有开口2024，待烹饪的比萨饼2012可通过开口2024移入和移出空腔2022。开口2024由门2026关闭，该门2026在门2026的下部2025处铰接至主体2014。

器具2010还优选地包括安装到底板2016以接收比萨饼2012的比萨饼层面2028。比萨饼层面2028的中心轴线2029在底板2016和顶板2018之间垂直地延伸。

器具2010还包括上部加热元件2030，该上部加热元件2030居中地位于空腔2022的上部2032中的轴线2029上以递送辐射能量来烹饪比萨饼2012。元件2030围绕顶板2018周向地延伸。

器具2010还包括居中地位于空腔2022的上部2032中的轴线2029上的环形屏蔽件2034。屏蔽件2034被元件2030围绕。屏蔽件2034被配置为使得比萨饼2012的中心部分2036(显示在图21中)屏蔽于辐射能量。

如图21所示，屏蔽件2034减少了来自元件2030到达绕轴线2029定位的比萨饼2012的中心部分2036的辐射能量，由此提供在比萨饼2012上的加热或烹饪分布，所述分布具有对比萨饼2012的外皮2038施加的更大的辐射能量并且对比萨饼2012的中心部分2036施加的较小的辐射能量。作为对比，图22描绘了从空腔2022移除屏蔽件2034的效果，使得在比萨饼2012上的加热或烹饪分布相对均匀。

参考图23，屏蔽件2034包括多个钩2040，所述多个钩2040配置成接收到顶板2018中的相应开口2042中，使得在屏蔽件2034轴向旋转时，屏蔽件2034可拆卸地附接到顶板2018。

屏蔽件2044和顶板2048的替代实施例显示在图24至26中。屏蔽件2044围绕其顶端2043是圆顶形的并且包括中心孔2045，用于与顶板2048中的孔口2046对准。螺母2049穿过中心孔2045和孔口2046以可移除地将屏蔽件2044附接到顶板2048。

屏蔽件2054和顶板2058的又一个实施例在图27和28中示出。屏蔽件2054能够相对于比萨饼层面2028移动，使得屏蔽件2054能够朝向比萨饼层面2028降低或升高远离比萨饼层面2028，以分别减少或增加到达比萨饼2012的中心部分2036的辐射能量的量，如图27和图28中所示。

可以通过使用从屏蔽件2054延伸并与顶板2058的开槽轮廓2052配合的径向销2050来实现屏蔽件2054相对于比萨饼层面2028的升高和降低，如在图29至图32中最佳地描绘。如图32所示，顶板2058的轮廓2052相对于底板2016倾斜，使得当屏蔽件2054在朝向底板2016观察时绕逆时针方向2056围绕轴线2029成角度地旋转时，销2050朝向距离底板2016最远的轮廓2052的端部2052a滑动，从而将屏蔽件2054提升远离底板2016。以相反的方式，当屏蔽件2054在朝向底板2016观察时沿顺时针方向旋转时，销2050朝向最接近底板2016的轮廓2052的端部2052b滑动，从而朝向底板2016降低屏蔽件2054。

如图33所示，屏蔽件2054的旋转可以通过安装到主体2014的电动机组件2060来控制。电动机组件2060包括电动机2061、由电动机2061驱动的可旋转轴(shaft)2062以及带(在另一实施例中可使用链或另一旋转传送装置)2063，带在一端2063a附接到轴2062，以及在其相对端2063b附接到轴(axle)2064，轴2064附接到屏蔽件2054，以将旋转驱动从轴2062传递到轴2064，由此使屏蔽件2054旋转。电动机2061可以由电动机控制单元2066控制，电动机控制单元2066被配置为接收来自安装在主体2014上的用户可操作旋钮2068的输入信号。

屏蔽件2074和顶板2078的另一个实施例在图34中示出。屏蔽件2074通过附接到屏蔽件2074上的螺钉组件2079与顶板2078螺纹接合。在这方面，屏蔽件2074可以以常规的螺钉式方式旋转以相对于底板2016升起或降低屏蔽件2074。

在另一个实施例中，如图35所示，器具2010包括一对内和外屏蔽件2094a，2094b。内屏蔽件2094a嵌套在外屏蔽件2094b内。内屏蔽件2094a和外屏蔽件2094b中的每一个具有通常呈矩形通气口2096形式的多个孔口。

具体参考图36和图37，外屏蔽件2094b可相对于内屏蔽件2094a绕轴线2029成角度地旋转，以改变内屏蔽件2094a和外屏蔽件2094b中的每一个的每个通气口2096的对准，以便转而改变屏蔽于比萨饼2012的中心部分2036的辐射能量的量。在这方面，外屏蔽件2094b可相对于内屏蔽件2094a绕轴线2029成角度地旋转，以使得每个通气口2096部分或完全对准，以允许辐射能穿过内屏蔽件2094a和外屏蔽件2094b，如图38所示。以类似的方式，可以旋转外屏蔽件2094b以使得每个通气口2096完全未对准，以基本上阻止辐射能量穿过内屏蔽件2094a和外屏蔽件2094b，如图39所示。可以设想替代实施例，其中内屏蔽件2094a可相对于外屏蔽件2094b绕轴线2029成角度地旋转，以对准或不对准每个通气口2096。其他实施例设想为内屏蔽件2094a和外屏蔽件2094b能够相对于彼此围绕轴线2029成角度地旋转，以对准或不对准每个通气口2096。

如在图40中最好地描绘的那样，内屏蔽件2094a的旋转可以由电动机组件2060控制。

现在参考图41至图48来描述烹饪器具2100的另一个实施例。与烹饪器具2010的特征相同的烹饪器具2100的特征提供有相同的附图标记。

具体参照图41，器具2100包括一对内和外的上部加热元件2110a，2110b，其围绕顶板2018周向延伸并且居中地位于空腔2022的上部2032中的轴线2029上。器具2100还包括下部加热元件2112，其围绕底板2016周向地延伸并且居中地位于空腔2022的下部2132中的轴线2029上，以传递辐射能量来烹饪比萨饼2012。下部加热元件2112优选地嵌入比萨饼层面2028内。

器具2100还包括居中地位于轴线2029上以将辐射能定位到比萨饼2012的外皮2038的主环形屏蔽件2104a和居中地定位在轴线2029上以将辐射能定位到比萨饼2012的中心部分2036的辅环形屏蔽件2104b。主屏蔽件2104a被外上部加热元件2110b包围。辅屏蔽件2104b被内上部加热元件2110a包围。可以理解的是，上部加热元件2110a，2110b和屏蔽件2104a，2104b的布置可以容纳在烹饪器具2010的立方体的主体2014或烹饪器具2115的基本上圆形的主体2111内，如图41A所示。

图42示出了算法2114形式的控制器，其与内和外上部加热元件2110a，2110b和下部加热元件2112中的每一个可操作地相关联，以提供对于内和外上部加热元件2110a，2110b和下部加热元件2112的选择性电力输送，从而提供在比萨饼2012上的加热分布。内和外上部加热元件2110a，2110b中的每一个均可由算法2114独立控制。

如图43至图48中所描绘的，通过器具2100的用户可操作控制中心(control hub)2118来控制比萨饼2012上的加热分布。控制中心2118与算法2114可操作地关联以手动地并且独立地改变内和外上部加热元件2110a，2110b和下部加热元件2112中每一个的功率和温度。控制中心2118包括第一拨盘(未示出)、第二拨盘2118b和第三拨盘2118c。

算法2114被配置成以第一模式2114a和第二模式2114b(如图42所示)进行操作。

在算法2114的第一模式2114a中，第一拨盘(未示出)被配置为控制下部加热元件2112的温度；第二拨盘2118b被配置为控制内和外上部加热元件2110a，2110b的温度；并且第三拨盘2118c被配置成仅控制内和外上部加热元件2110a，2110b的功率。当第三拨盘2118c处于第一位置2120时，调节到内和外上部加热元件2110a，2110b中的每一个的电功率以相对均匀地在比萨饼2012上提供辐射能量，如图43所示。当第三拨盘2118c处于第二位置2122时，相对于当第三拨盘2118c处于第一位置2120时的功率配置，如图44所示，到内上部加热元件2110a的功率减小并且到外上部加热元件2110b的功率增加。当第三拨盘2118c处于第三位置2124时，相对于第三拨盘2118c处于第二位置2122时的功率配置，到内上部加热元件2110a的功率减小到零，并且到外上部加热元件2110b的功率增加到最大，如图45所示；在这种配置中，辐射能量大部分集中在比萨饼2012的外皮2038上。基本上，第三拨盘2118c在第一模式2114a下操作时提供微调，以便使比萨饼2012有硬皮、在整个比萨饼上均匀烹饪或对比萨饼2012的中心部分2036或外皮2038的烹饪的总体控制。

在算法2114的第二模式2114b中，第一拨盘(未示出)被配置为控制内和外上部加热元件2110a，2110b和下部加热元件2112的定时器(未示出)；第二拨盘2118b被配置为控制器具2010的“类型”设置(例如，“类型”可以是“厚比萨饼”)以提供一系列内和外上部加热元件2110a，2110b和下部加热元件2112的预设定时间隔和温度以适应用户的特定需要；并且第三拨盘2118c被配置为控制下部加热元件2112的温度。当第三拨盘2118c处于第一位置2120时，相对于当算法2114处于第一模式2114a时的第二拨盘配置，下部加热元件2112的温度降低，如图46所示。当第三拨盘2118c处于第二位置2122时，相对于算法2114的第二模式2114b中第三拨盘2118c处于第一位置2120时的功率配置，下部加热元件2112的温度是正常的，如图47所示。当第三拨盘2118c处于第三位置2124c时，相对于算法2114的第二模式2114b中第三拨盘2118c处于第二位置2122时的功率配置，下部加热元件2112的温度增加，如图48所示。基本上，第三拨盘2118c在第二模式2114b中操作时，在第二拨盘2118b的预设温度设置对于用户的特殊需求不完全精确的情况下，提供对下部加热元件2112的温度的精确控制。

器具2100包括位于空腔2022内的顶板2018周围的温度传感器2116(图20中示出)，以向算法2114提供指示空腔2022内的温度的信号，以根据需要调节向内和外上部加热元件2110a，2110b和下部加热元件2112的电功率输送。

现在参考图49至图57来描述烹饪器具2200的另一个实施例。与烹饪器具2010的特征相同的烹饪器具2200的特征提供有相同的附图标记。

器具2200包括与主体2014的周边2212结合的冷却系统2210。冷却系统2210包括第一气流通道2214和第二气流通道2216，如图49所示。第一气流通道2214与壁2020的空腔连通以冷却壁2020的空腔作为次要活动，如图50所示。第一气流通道2214的主要活动是冷却位于通道2214的入口附近的器具2010的电子器件(例如PCB)，如图51所示。如图52所示，第二气流通道2216与通气口2217连通，通气口2217排出空气并冷却下部加热元件2112的冷销(cold pin)2113。以这种方式，当门2026关闭空腔2022的开口2024时，当冷销2113处于其原始位置时，通气口2217接近冷销2113。通气口2217被对准，使得其高度和投影(projection)产生流向冷销2113的气流。空气来自入口2216并且由加热空腔2022下方的周边2212中的通道引导。将空气驱动到通气口2217的风扇2218(图51中示出)被定位成远离通气口2217以与空腔2022中的空气相隔离，空腔2022中的空气可达到约400℃的温度。当安装在比萨饼层面2028上的温度传感器2116(图20中示出)或第二温度传感器(未示出)记录高于特定点(优选100℃)的温度阈值时，风扇2218被致动。当温度传感器2116或辅温度传感器(未示出)记录低于特定点的温度阈值时，风扇2218关闭。

下部加热元件2112可以在大约700℃下操作，这继而导致空腔的温度达到400℃，并且冷销2113所在的层面2028下方的下部区域的温度达到200℃。因此，通向冷销2113的这种专用冷却气流有助于防止冷销2113被破坏。

位于空腔2022的底板2016下方的周边2212中的通道优选地由聚合物制成，以将周边2212中的通道和风扇2218的安装主体与空腔2022和通气口2217隔离。通气口2217优选由金属制成以承受空腔2022中的温度并且被固定到，优选焊接到空腔2022中的空腔底板2016。

参考图53，冷却系统2210包括安装在主体2014的外部的第二风扇2219。风扇2219将空气吸入第三气流通道2220。当门2026关闭空腔2022的开口2024时，第三气流通道2220与邻近门2026的下部2025的门2026的通路2222连通，如图54至图57中最佳所示。该气流冷却容纳在围绕通路2222定位的门2026中的电子器件2224(例如电源PCB和接口)。

应该理解，所示的实施例提供了一种改进的或替代的比萨饼烤箱。

应该理解，这里将一些实施例描述为可以由计算机系统的处理器或通过执行该功能的其他手段来实现的方法或方法元素的组合。因此，具有用于执行这种方法或方法元素的必要指令的处理器形成用于执行方法或方法元素的手段。此外，在此描述的设备实施例的元件是用于执行由该元件执行的用于执行本实用新型的功能的装置的示例。

在替代实施例中，一个或多个处理器作为独立设备来操作或者可以在联网部署中连接(例如，联网)到其他处理器(多个)，一个或多个处理器可以以服务器-客户端网络环境中的服务器或客户端机器的容量进行操作，或者作为对等或分布式网络环境中的对等机器。

因此，这里描述的每个方法的一个实施例采用承载一组指令的计算机可读载体介质的形式，例如用于在一个或多个处理器上执行的计算机程序。

除非另有明确说明，否则如从以下讨论中显而易见的，应理解，在整个说明书中，利用诸如“处理”，“计算”，“运算”，“确定”等术语的讨论可以指计算机或计算系统或类似的电子计算设备的动作和/或过程，其将表示为物理量(例如电子量)的数据操作和/或变换成类似地表示为物理量的其他数据。

以类似的方式，术语“处理器”可以指处理电子数据(例如，来自寄存器和/或存储器)以将该电子数据转换成例如可以存储在寄存器和/或存储器中的其他电子数据的任何设备或设备的一部分。“计算机”或“计算机器”或“计算平台”可以包括一个或多个处理器。

在一个实施例中，本文描述的方法体系能够由一个或多个处理器执行，所述一个或多个处理器接受包含一组指令的计算机可读(也称为机器可读)代码，所述指令在由一个或多个处理器执行时实施在这里描述的方法中的至少一个。包括任何能够执行指定要采取的动作的一组指令(顺序或其他)的处理器。

除非上下文另有明确要求，否则在整个说明书和权利要求书中，词语“包括”，“包括有”等将被解释为包含性的意义，而不是排他性或穷举性意义；也就是说，就“包括但不限于”的意义而言。

类似地，应该注意，术语“联接”当用在权利要求中时，不应该被解释为仅限于直接连接。可以使用术语“联接”和“连接”以及它们的派生词。应该理解，这些术语不意在作为彼此的同义词。因此，联接到装置B的装置A的表达范围不应限于其中装置A的输出直接连接到装置B的输入的装置或系统。这意味着在A的输出和B的输入之间存在路径，其可以是包括其他装置或单元的路径。“联接”可以表示两个或更多个元件或者直接物理接触或者电接触，或者两个或者更多个元件彼此不直接接触，但仍然彼此协作或相互作用。

如本文中所使用的，除非另外指明，否则使用序数形容词“第一”、“第二”、“第三”等来描述共同对象，仅仅指示正在引用相同对象的不同实例，并不意味着如此描述的对象必须按照给定的顺序，在时间上，空间上，排序上或以任何其他方式。

贯穿本说明书对“一个实施例”或“实施例”的引用意味着结合该实施例描述的特定特征、结构或特性被包括在至少一个实施例中。因此，贯穿本说明书各处出现的短语“在一个实施例中”或“在实施例中”不一定全部指代相同的实施例，但是可指代相同的实施例。此外，在一个或多个实施例中，可以以任何合适的方式来组合特定的特征、结构或特性，这对于本领域普通技术人员来说显而易见的。

类似地，应该认识到，在上面的本实用新型的示例性实施例的描述中，为了简化本公开并帮助理解各个实用新型方面中的一个或多个，本实用新型的各种特征有时在单个实施例、附图或其描述中被组合在一起。然而，该公开方法不应被解释为反映所要求保护的实用新型需要比每个权利要求中明确记载的更多特征的意图。相反，如以下权利要求所反映的，创造性方面在于少于单个前述公开实施例的所有特征。因此，具体实施方式之后的权利要求在此明确地并入本具体实施方式中，其中每个权利要求本身作为本实用新型的单独实施例。

此外，尽管本文描述的一些实施例包括其他实施例中包括的一些特征但不包括其他特征，但是不同实施例的特征的组合意应在本实用新型的范围内，并形成不同的实施例，这是本领域技术人员所能理解的。例如，在下面的权利要求中，任何要求保护的实施例可以以任何组合使用。

在此处提供的描述中，阐述了许多具体细节。然而，应该理解，可以在没有这些具体细节的情况下实践本实用新型的实施例。在其他情况下，公知的方法、结构和技术未被详细示出以免混淆对本说明的理解。尽管已经参考具体示例描述了本实用新型，但是本领域技术人员将会理解，本实用新型可以以许多其他形式来体现。

应该理解，本实用新型的实施例可以基本上由本文公开的特征组成。可替代地，本实用新型的实施例可以由本文公开的特征组成。本文示例性公开的本实用新型可适当地在缺少本文未具体公开的任何元素的情况下实施。