技术特征：
1.自密封的壶盖结构，其特征在于，包括上盖、下盖和环形的密封圈，所述上盖下侧与下盖装配两者之间形成腔体，所述下盖的侧壁的下端部向外延伸形成第一密封面；所述密封圈的上端与上盖接触，下端向内延伸形成第二密封面，所述第一密封面与第二密封面过盈配合。2.根据权利要求1所述的自密封的壶盖结构，其特征在于，所述上盖下表面设有一圈凸筋，所述凸筋的下端部向内凸起形成卡扣部，所述下盖的侧壁的下方向内凹陷形成凹槽，所述卡扣部卡入凹槽中；所述密封圈套设在凸筋的外壁上。3.根据权利要求2所述的自密封的壶盖结构，其特征在于，所述卡扣部的表面采用弧形弯曲面，所述凹槽采用弧形槽。4.根据权利要求2所述的自密封的壶盖结构，其特征在于，所述密封圈的高度大于所述凸筋高度，所述密封圈下端向内延伸的部位的下表面为第二密封面，上表面与所述凸筋的底面相触。5.根据权利要求2所述的自密封的壶盖结构，其特征在于，所述凸筋的外壁与上盖的下表面之间形成一卡槽，所述密封圈外侧设有一外翻的卡凸，所述卡凸嵌入卡槽中。6.根据权利要求5所述的自密封的壶盖结构，其特征在于，所述卡槽的底面采用内侧高、外侧低的第一弧形面，所述密封圈的上表面采用第二弧形面，所述第二弧形面与第一弧形面贴合。7.根据权利要求1-5任一所述的自密封的壶盖结构，其特征在于，所述下盖位于第一密封面外侧向上翻折形成倒钩，所述密封圈位于第二密封面的外侧向上开有缺口，所述倒钩伸入缺口中。8.根据权利要求7所述的自密封的壶盖结构，其特征在于，所述密封圈设有缺口部位的横向厚度大于所述密封圈的侧壁厚度。9.根据权利要求7所述的自密封的壶盖结构，其特征在于，所述密封圈的外壁下端设有上翘的外沿。10.根据权利要求1所述的自密封的壶盖结构，其特征在于，所述下盖采用金属盖；或者，所述上盖的上表面从外沿向中部逐渐凹陷，中部上设有凸起的手持部。
技术总结
本实用新型公开了自密封的壶盖结构，包括上盖、下盖和环形的密封圈，所述上盖下侧与下盖装配两者之间形成腔体，所述下盖的侧壁的下端部向外延伸形成第一密封面；所述密封圈的上端与上盖接触，下端向内延伸形成第二密封面，所述第一密封面与第二密封面过盈配合。采用双层结构，隔热同时也实现了双层内部腔体的密封，避免水蒸气进入内部腔体造成细菌滋生等问题。题。题。
技术研发人员：胡滨
受保护的技术使用者：浙江夕尔科技有限公司
技术研发日：2022.07.07
技术公布日：2023/1/16