本实用新型涉及戳孔设备领域,特别是一种降低人工成本、提高效率的戳孔设备。
背景技术:
现有技术中,在泡沫板上打孔的工序,传统的做法是使用打孔棒,人工在完整的泡沫板上直接戳孔而成,这种方式一是效率低,根本没法满足大规模生产的需求;二是孔的外形不达标,由于泡沫材料具有一定的脆性,在用打孔棒制孔的时候,会出现破碎现象,从而影响孔的品质。
技术实现要素:
本实用新型的主要目的在于克服现有技术中,提出一种效率高、降低人工成本的戳孔设备。
本实用新型采用如下技术方案:
一种戳孔设备,包括机架,其特征在于:还包括气缸、戳孔上模、戳孔下模和固定架;该固定架固定于机架的台面上;该戳孔下模也固定于机架的台面上,戳孔上模位于戳孔下模上方并设有若干戳孔针;该气缸安装于固定架上,其连接驱动戳孔上模相对戳孔下模上升或下降,并在下降到位时实现戳孔。
优选的,所述戳孔下模还设有与若干戳孔针对应的若干卸料孔,该卸料孔直径小于所述戳孔针直径,以在戳孔上模下降到位时实现卸料。
优选的,所述戳孔下模底部还设有让位槽,该让位槽位于所述卸料孔下方。
优选的,还包括有安装架,该安装架连接于气缸和戳孔上模之间。
优选的,所述固定架为L形,其一端与所述机架固定连接,另一端安装所述气缸。
优选的,还包括有导向柱,该导向柱垂直固定于架体台面上,所述安装架滑动配合地穿设于该导向柱上。
优选的,所述机架台面上还设有若干与所述戳孔下模适配的定位块。
优选的,所述戳孔上模还设有定位孔,所述戳孔下模对应设有定位针,所述戳孔上模下降到位时,该定位针顶部插入该定位孔。
由上述对本实用新型的描述可知,与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:
1、本实用新型采用气缸、戳孔上模和戳孔下模配合工作,通过气缸驱动戳孔上模相对戳孔下模下降,实现戳孔,戳孔效率高、操作方便、降低人工成本。
2、本实用新型在戳孔下模上设置卸料孔,该卸料孔直径大于戳孔针直径,使得废料经卸料孔排出,十分方便,减少处理废料的时间。
3、本实用新型的戳孔设备,其戳孔针的数量、形状和排列分布可根据不同产品需求设置,还能一次性进行10-20个产品的同步戳孔,提高戳孔产能、降低人工成本。
附图说明
图1为本实用新型的立体结构示意图;
图2为本实用新型戳孔上模和戳孔下模的示意图;
图3为本实用新型戳孔上模的结构示意图;
图4为本实用新型戳孔下模的底部示意图;
图5为本实用新型戳孔下模的示意图;
其中:10、机架,11、台面,12、定位块,20、气缸,30、戳孔上模,31、戳孔针,32、定位孔,40、戳孔下模,41、卸料孔,42、让位槽,43、定位针50、固定架,60、安装架,61、导向柱。
具体实施方式
以下通过具体实施方式对本实用新型作进一步的描述。
参照图1至图5,一种戳孔设备,包括机架10、气缸20、戳孔上模30、戳孔下模40、固定架50和安装架60。该机架10顶部设有台面11,该固定架50为L形固定架,其一端固定于机架10的台面11上,另一端位于台面11上方。该戳孔下模40固定于机架10的台面11上。该戳孔上模30位于戳孔下模40上方并固定于安装架60底部,戳孔上模30的底部设置若干戳孔针31。该气缸20安装于固定架50的另一端,即位于台面11上方,其与安装架60顶部连接,以驱动戳孔上模30相对戳孔下模40上升或下降,并在下降到位时实现戳孔。
进一步的,本实用新型的戳孔下模40还设有与若干戳孔针31对应的若干卸料孔41,该卸料孔41直径小于戳孔针31直径,以在戳孔上模30下降到位时实现卸料。另外,在戳孔下模40底部还设有让位槽42,该让位槽42位于卸料孔41下方,用于容纳卸下的废料。
进一步的,还包括有两导向柱61,该两导向柱61垂直固定于架体的台面11上,并位于戳孔下模40的两端,安装架60两端滑动配合地穿设于该两导向柱61上。
进一步的,机架10台面11上还设有若干与戳孔下模40适配的定位块12,该定位块12固定于戳孔下模40外周,以限制戳孔下模40的位置。
进一步的,戳孔上模30还设有定位孔32,戳孔下模40对应设有定位针43, 戳孔上模30下降到位时,该定位针43顶部插入该定位孔32,以保证戳孔上模30的戳孔针31与戳孔下模40的卸料孔41一一对应。
本实用新型的工作原理如下:
当要进行戳孔时,将待戳孔的产品放入戳孔下模40中,而后启动气缸20,气缸20带动戳孔上模30下压,戳孔上模30的戳孔针31插入产品内实现打孔。当戳孔上模30下压到位时,废料被推送至戳孔下模40的卸料孔41,并掉落至让位槽42下方,以便于废料收集。当戳孔完成后,气缸20驱动戳孔上模30上升,即可将加工好的产品取出。
本实用新型的戳孔设备,其戳孔针31的数量、形状和排列分布可根据不同产品需求设置。通过设置戳孔针的长度,还能一次性进行10-20个甚至更多产品的同时戳孔,提高戳孔产能、降低人工成本。
上述仅为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的设计构思并不局限于此,凡利用此构思对本实用新型进行非实质性的改动,均应属于侵犯本实用新型保护范围的行为。