专利名称：金属介质反射膜及外壳的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种反射膜，尤其涉及一种金属介质反射膜及具有该金属介质反射膜 的外壳。
背景技术：
目前，为了使电子产品的外壳具有较强的金属光泽和较高的色彩饱和度，都会选 择在外壳表面镀上至少一层金属介质反射膜。传统的金属介质反射膜从光线入射方向依次 包括一介质膜层及一金属膜层，而所述介质膜层由折射率依次高低高低的四层膜层组成； 所述金属膜层镀设于基材的一侧，而介质膜层镀设于金属膜层之上。如图1所示，从金属膜层位于基材与介质膜层之间的金属介质反射膜光学曲线可 以看出，其对波长在370nm-580nm及650nm-700nm之间的光线的反射率都在30%以上，使得 反射出的光线的色彩范围较大，由于各种色彩之间的相互影响，导致经金属介质反射膜反 射出的光线的色彩饱合度较低。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种能提高色彩饱合度的金属介质反射膜及具有该金属介 质反射膜的外壳。一种金属介质反射膜，其沿光线入射方向依次包括一金属层及一介质层；所述介 质层从远离金属层向邻近该金属层的方向依次包括第一膜层、第二膜层、第三膜层及第四 膜层；所述第一膜层与第三膜层为低折射率材料层，所述第二膜层与第四膜层为高折射率 材料层。一种外壳，其包括一基材及形成于所述基材至少一表面上的金属介质反射膜；所 述金属介质反射膜沿光线入射方向依次包括一金属层及一介质层；所述介质层从邻近基材 向邻近该金属层的方向依次包括第一膜层、第二膜层、第三膜层及第四膜层；所述第一膜层 与第三膜层为低折射率材料层，所述第二膜层与第四膜层为高折射率材料层。相对于传统的金属介质反射膜，经过本发明提供的金属介质反射膜反射出的可见 光线的波长范围相对较小，使得反射出的光线的色彩集中，从而有效提高了镀有金属介质 反射膜的外壳的色彩饱和度。
图1是传统的金属介质反射膜的光学示意图。图2是本发明实施方式提供的外壳的结构示意图。图3是本发明实施方式提供的金属介质反射膜的光学曲线示意图。图4是与图3中不同层数介质层的金属介质反射膜的对比实施例的光学曲线示意 图。
具体实施例方式下面将结合附图，对本发明作进一步的详细说明。请参阅图2，为本发明实施方式提供的一种外壳100，所述外壳100包括一个基材20及形成在所述基材20的一个表面21上的一个金属介质反射膜10。所述基材20具体可 为塑胶、陶瓷及金属等材质制成。所述金属介质反射膜10沿光线入射方向依次包括一金属层12及一位于金属层12和基材20之间的介质层11。所述介质层11从邻近基材20向邻近该金属层12的方向依次 包括第一膜层111、第二膜层112、第三膜层113及第四膜层114。所述第一膜层111与第三 膜层113为低折射率材料层，所述第二膜层112与第四膜层114为高折射率材料层。所述低 折射率材料的折射率为1.63-1.68。优选地，所述低折射率材料为三氧化二铝(A1203)。所 述高折射率材料的折射率为1. 76-1. 87。优选地，所述高折射率材料为四氮化三硅(Si3N4)。 所述高折射率材料及低折射率材料仅用于表明该两类折射率材料之间的折射率高低之相 对关系。所述金属层12材料可选自银(Ag)、铝(A1)、铬(Cr)等反射率在60%以上的材料 中之一或几种的混合。所述第一膜层111的膜厚范围在45.59nm-81.59nm之间，第二膜层 112的膜厚范围在46. 83nm-86. 38nm之间，第三膜层113的膜厚范围在58. 52nm_104. 72nm 之间，第四膜层114的膜厚范围在50. 76nm-93. 63nm之间，所述金属层12的厚度范围在 3nm_15nm 之间。请参阅图3，本发明实施方式提供的金属介质反射膜10的光学曲线的波峰比较明 显，反射率在30%以上的波长范围为370nm-520nm，而图1中的波峰所覆盖的范围较大，反 射率在30%以上的波长范围为370nm-580nm及650nm-700nm，因此，从图1与图4中光学曲 线的对比可以得出经过本实施方式提供的金属介质反射膜10反射出的光线波长范围比传 统的金属介质反射膜反射出的光线波长范围要窄，并且集中在一单色光线的波长附近，使 得反射出的光线的色彩集中，从而色彩饱和度较高。请参阅图4，为两种具有与本发明实施方式提供的介质层11不同层数的金属介质 反射膜10的对比实施例。其中曲线A对应的金属介质反射膜10的介质层11包括低高折 射率的两层膜，曲线B为本发明实施方式提供的金属介质反射膜10的介质层11包括低高 低高四层膜，曲线C对应的金属介质反射膜10的介质层11包括低高低高低高折射率的六 层膜。从图中可以得出，曲线A的反射率在30%以上的波长范围为340nm-650nm，曲线B的 反射率在30%以上的波长范围为350nm-510nm，曲线C的反射率在30%以上的波长范围为 360nm-460nm及560歷-700歷，因此，相对于对比实施例包括有四层膜的介质层11的金属介 质反射膜10的反射率在30%以上的波长范围最窄，则其色彩饱和度最高。下面以两个具体实施方式
来详细说明本发明的金属介质反射膜10。表1为本发明 实施方式提供的金属介质反射膜10的结构表。其中d= X/(4n)，其中\ = 600nm，n表 示对应膜层的折射率。表权利要求
1.一种金属介质反射膜，其沿光线入射方向依次包括一金属层及一介质层；所述介质 层从远离金属层向邻近该金属层的方向依次包括第一膜层、第二膜层、第三膜层及第四膜 层；所述第一膜层与第三膜层为低折射率材料层，所述第二膜层与第四膜层为高折射率材 料层。
2.如权利要求1所述的金属介质反射膜，其特征在于，所述第一膜层的膜厚范围在 45. 59nm-81. 59nm之间，第二膜层的膜厚范围在46. 83nm-86. 38nm之间，第三膜层的膜厚范 围在58. 52nm-104. 72nm之间，第四膜层的膜厚范围在50. 76nm-93. 63nm之间，所述金属层 的厚度范围在3nm-15nm之间。
3.如权利要求1所述的金属介质反射膜，其特征在于，所述低折射率材料的折射率为 1. 63-1. 68，高折射率材料的折射率为1. 76-1. 87，所述高折射率材料及低折射率材料仅用 于表明该两类折射率材料之间的折射率高低之相对关系。
4.如权利要求1所述的金属介质反射膜，其特征在于，所述低折射率材料为三氧化二 铝，所述高折射率材料为四氮化三硅。
5.如权利要求1所述的金属介质反射膜，其特征在于，所述金属层材料对可见光线的 反射率大于60%。
6.一种外壳，其包括一基材及形成于所述基材至少一表面上的金属介质反射膜；所述 金属介质反射膜沿光线入射方向依次包括一金属层及一介质层；所述介质层从邻近基材向 邻近该金属层的方向依次包括第一膜层、第二膜层、第三膜层及第四膜层；所述第一膜层与 第三膜层为低折射率材料层，所述第二膜层与第四膜层为高折射率材料层。
7.如权利要求6所述的外壳，其特征在于，所述第一膜层的膜厚范围在 45. 59nm-81. 59nm之间，第二膜层的膜厚范围在46. 83nm-86. 38nm之间，第三膜层的膜厚范 围在58. 52nm-104. 72nm之间，第四膜层的膜厚范围在50. 76nm-93. 63nm之间，所述金属层 的厚度范围在3nm-15nm之间。
8.如权利要求6所述的外壳，其特征在于，所述低折射率材料的折射率为1.63-1.68， 高折射率材料的折射率为1. 76-1. 87，所述高折射率材料及低折射率材料仅用于表明该两 类折射率材料之间的折射率高低之相对关系。
9.如权利要求6所述的外壳，其特征在于，所述低折射率材料为三氧化二铝，所述高折 射率材料为四氮化三硅。
10.如权利要求6所述的外壳，其特征在于，所述金属层材料对可见光线的反射率大于 60%。
全文摘要
本发明涉及一种金属介质反射膜，其沿光线入射方向依次包括一金属层及一介质层；所述介质层从远离金属层向邻近该金属层的方向依次包括第一膜层、第二膜层、第三膜层及第四膜层；所述第一膜层与第三膜层为低折射率材料层，所述第二膜层与第四膜层为高折射率材料层。相对于传统的金属介质反射膜，经过本发明提供的金属介质反射膜反射出的可见光线的色彩集中，从而有效提高了镀有金属介质反射膜的外壳的色彩饱和度。本发明还提供一种具有该金属介质反射膜的外壳。
文档编号B32B15/04GK102004275SQ2009103063
公开日2011年4月6日 申请日期2009年8月31日 优先权日2009年8月31日
发明者黄建豪 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司